掌桥科研
一站式科研服务平台
科技查新
收录引用
专题文献检索
外文数据库(机构版)
更多产品
首页
成为会员
我要充值
退出
我的积分:
中文会员
开通
中文文献批量获取
外文会员
开通
外文文献批量获取
我的订单
会员中心
我的包量
我的余额
登录/注册
文献导航
中文期刊
>
中文会议
>
中文学位
>
中国专利
>
外文期刊
>
外文会议
>
外文学位
>
外国专利
>
外文OA文献
>
外文科技报告
>
中文图书
>
外文图书
>
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
美国国防部AD报告
美国能源部DE报告
美国航空航天局NASA报告
美国商务部PB报告
外军国防科技报告
美国国防部
美国参联会主席指示
美国海军
美国空军
美国陆军
美国海军陆战队
美国国防技术信息中心(DTIC)
美军标
美国航空航天局(NASA)
战略与国际研究中心
美国国土安全数字图书馆
美国科学研究出版社
兰德公司
美国政府问责局
香港科技大学图书馆
美国海军研究生院图书馆
OALIB数据库
在线学术档案数据库
数字空间系统
剑桥大学机构知识库
欧洲核子研究中心机构库
美国密西根大学论文库
美国政府出版局(GPO)
加利福尼亚大学数字图书馆
美国国家学术出版社
美国国防大学出版社
美国能源部文献库
美国国防高级研究计划局
美国陆军协会
美国陆军研究实验室
英国空军
美国国家科学基金会
美国战略与国际研究中心-导弹威胁网
美国科学与国际安全研究所
法国国际关系战略研究院
法国国际关系研究所
国际宇航联合会
美国防务日报
国会研究处
美国海运司令部
北约
盟军快速反应部队
北约浅水行动卓越中心
北约盟军地面部队司令部
北约通信信息局
北约稳定政策卓越中心
美国国会研究服务处
美国国防预算办公室
美国陆军技术手册
一般OA
科技期刊论文
科技会议论文
图书
科技报告
科技专著
标准
其它
美国卫生研究院文献
分子生物学
神经科学
药学
外科
临床神经病学
肿瘤学
细胞生物学
遗传学
公共卫生&环境&职业病
应用微生物学
全科医学
免疫学
动物学
精神病学
兽医学
心血管
放射&核医学&医学影像学
儿科
医学进展
微生物学
护理学
生物学
牙科&口腔外科
毒理学
生理学
医院管理
妇产科学
病理学
生化技术
胃肠&肝脏病学
运动科学
心理学
营养学
血液学
泌尿科学&肾病学
生物医学工程
感染病
生物物理学
矫形
外周血管病
药物化学
皮肤病学
康复学
眼科学
行为科学
呼吸学
进化生物学
老年医学
耳鼻喉科学
发育生物学
寄生虫学
病毒学
医学实验室检查技术
生殖生物学
风湿病学
麻醉学
危重病护理
生物材料
移植
医学情报
其他学科
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
主题
主题
题名
作者
关键词
摘要
高级搜索 >
外文期刊
外文会议
外文学位
外国专利
外文图书
外文OA文献
中文期刊
中文会议
中文学位
中国专利
中文图书
外文科技报告
清除
历史搜索
清空历史
首页
>
外文会议
>
电子学、通信
>
Optical Microlithography XIX pt.2
Optical Microlithography XIX pt.2
召开年:
召开地:
出版时间:
-
会议文集:
-
会议论文
热门论文
全部论文
相关中文期刊
电子与信息学报
电信交换
世界宽带网络
通信世界
电子产品可靠性与环境试验
数字家庭
电子学报
雷达与对抗
数字通信世界
音响技术
更多>>
相关外文期刊
Elektronik Industrie
Wissenschaftliches Institut fuer Kommunikationsdienste Diskussionsbeitraege
Canadian Communications Reports
Advancing Microelectronics
Middle East Communications
映画テレビ技術
QST
Microelectronics & Reliability
Emerging Europe Telecommunications Insight
New media markets
更多>>
相关中文会议
2005中国集成电路产业发展研讨会暨第八届中国半导体行业协会集成电路分会年会
2013四川省电子学术年会
第四届全国纳米材料会议
2005年移动通信网络规划与优化研讨会
2010(第四届)移动互联网国际研讨会
第三届全国嵌入式技术和信息处理联合学术会议
第九届全国信号处理学术年会
第十八届十三省市光学学会联合年会
中国电子学会生产技术学分会机械加工专业委员会第七届学术年会
2008全国信息化发展与新技术学术大会
更多>>
相关外文会议
2014 7th ESA Workshop on Satellite Navigation Technologies and European Workshop on GNSS Signals and Signal Processing
Vertical-Cavity Surface-Emitting Lasers X
18th International OFDM Workshop 2014
International Symposium on Power Line Communications and Its Applications
American Society of Mechanical Engineers(ASME)/Pacific RIM Technical Conference and Exhibition on Integration and Packaging of MEMS, NEMS, and Electronic Systems: Advances in Electronic Packaging 2005 pt.B; 20050717-22; San Francisco,CA(US)
Applied Laser Radar Technology
Eastern VHF/UHF Conference of the Eastern VHF/UHF Society and the Northeast Weak Signal Group; 20050408-10; Enfield,CT(US)
International Latin-American Conference on Powder Technology; 20031119-21; Guaruja-Sao Paulo(BR)
Advanced Lassers and Systems; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6731
Photoelectronic Detection and Imaging: Technology and Applications '93
更多>>
热门会议
Meeting of the internet engineering task force;IETF
日本建築学会;日本建築学会大会
日本建築学会(Architectural Institute of Japan);日本建築学会年度大会
日本建築学会学術講演会;日本建築学会
日本建築学会2010年度大会(北陸)
Korean Society of Noise & Vibration Control;Institute of Noise Control Engineering;International congress and exposition on noise control engineering;ASME Noise Control & Acoustics Division
土木学会;土木学会全国大会年次学術講演会
応用物理学会秋季学術講演会;応用物理学会
総合大会;電子情報通信学会
The 4th International Conference on Wireless Communications, Networking and Mobile Computing(第四届IEEE无线通信、网络技术及移动计算国际会议)论文集
更多>>
最新会议
2011 IEEE Cool Chips XIV
International workshop on Java technologies for real-time and embedded systems
Supercomputing '88. [Vol.1]. Proceedings.
RILEM Proceedings PRO 40; International RILEM Conference on the Use of Recycled Materials in Buildings and Structures vol.1; 20041108-11; Barcelona(ES)
International Workshop on Hybrid Metaheuristics(HM 2007); 20071008-09; Dortmund(DE)
The 57th ARFTG(Automatic RF Techniques Group) Conference, May 25, 2001, Phoenix, AZ
Real Time Systems Symposium, 1989., Proceedings.
Conference on Chemical and Biological Sensing V; 20040412-20040413; Orlando,FL; US
American Filtration and Separations Society conference
Combined structures congress;North American steel construction conference;NASCC
更多>>
全选(
0
)
清除
导出
1.
What determines the ultimate resolution? The critical relationship between exposure tools and photoresists
机译:
什么决定最终分辨率?曝光工具和光刻胶之间的关键关系
作者:
Tokuyuki Honda
;
Yasuhiro Kishikawa
;
Yuichi Iwasaki
;
Akinori Ohkubo
;
Miyoko Kawashima
;
Minoru Yoshii
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
immersion;
lithography;
chemically amplified photoresist;
acid diffusion;
interferometric;
2.
XLA 300: the Fourth-Generation ArF MOPA Light Source for Immersion Lithography
机译:
XLA 300:用于浸没式光刻的第四代ArF MOPA光源
作者:
Fedor Trintchouk
;
Toshihiko Ishihara
;
Walter Gillespie
;
Richard Ness
;
Robert Bergstedt
;
Christian Wittak
;
Richard Perkins
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
excimer laser;
193 nm light source;
narrow linewidth;
immersion lithography;
6 kHz repetition rate;
3.
Simulation of Mask Induced Polarization Effect on Imaging in Immersion Lithography
机译:
浸没式光刻中掩模诱发的偏振效应对成像的模拟
作者:
Eun-A Kwak
;
Mi-Rim Jung
;
Dai-Gyoung Kim
;
Ji-Eun Lee
;
Hye-Keun Oh
;
Sook Lee
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
mask polarization;
vector diffraction;
high NA;
sub-45 nm node;
FDTD;
4.
Lithography Process Optimization Using Linear Superposition of Commonly Available Illumination Modes
机译:
使用常见照明模式的线性叠加的光刻工艺优化
作者:
Michael M. Crouse
;
Yasri Yudhistira
;
Min Ho Lee
;
Hope Matis
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
superposition;
source optimization;
process window optimization;
illumination study;
5.
High-throughput homogenizers for hyper-NA illumination systems
机译:
用于超NA照明系统的高通量均质器
作者:
H. Ganser
;
M. Darscht
;
Y. Miklyaev
;
D. Hauschild
;
L. Aschke
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
6.
In Quest of Predictive Lithography Simulation
机译:
寻求预测光刻技术
作者:
Christian K. Kalus
;
Hinderk M. Buss
;
Peter D. Brooker
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
lithography simulation;
progressive modeling;
predictive power;
post-exposure bake simulation;
simulation challenges;
7.
How to obtain accurate resist simulations in very low-k1 era?
机译:
如何在极低k1时代获得准确的抗蚀剂模拟?
作者:
Tsann-Bim Chiou
;
Chan-Ha Park
;
Jae-Seung Choi
;
Young-Hong Min
;
Steve Hansen
;
Shih-En Tseng
;
Alek C. Chen
;
Donggyu Yim
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
simulation accuracy;
resist model calibration;
low-k1;
metrology error;
pattern fidelity;
weighting factor;
CD tolerance;
8.
Patterning 45nm Flash/DRAM Contact Hole Mask with Hyper-NA Immersion Lithography and Optimized Illumination
机译:
利用Hyper-NA浸没式光刻技术和优化的照明图案化45nm Flash / DRAM接触孔掩模
作者:
Ting Chen
;
Doug Van Den Broeke
;
Stephen Hsu
;
Sangbong Park
;
Gabriel Berger
;
Tamer Coskun
;
Joep de Vocht
;
Noel Corcoran
;
Fung Chen
;
Eddy van der Heijden
;
Jo Finders
;
re Engelen
;
Robert Socha
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
illumination source optimization;
low-k_1 lithography;
polarization;
immersion lithography;
source shape;
manufacturability requirements;
DRAM/flash;
production-ready;
9.
Multiple Focal Plane Exposure in 248nm Lithography to Improve the Process Latitude of 110nm Contact
机译:
248nm光刻中的多次焦平面曝光可改善110nm接触的工艺范围
作者:
Sunwook Jung
;
Elvis Yang
;
TH Yang
;
KC Chen
;
Joseph Ku
;
Chih-Yuan Lu
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
FLEX;
image contrast;
proximity;
RET;
process window;
multiple exposure;
exposure latitude;
10.
Optimization of Chromeless Phase Mask by Comparing Scattering Bars with Zebra Patterns
机译:
通过将散射条与斑马图案进行比较来优化无铬相掩模
作者:
Hye-Young Kang
;
Ji-Eun Lee
;
Eun-A Kwak
;
Eun-Jin Kim
;
Seung-Wook Park
;
Sung-Hyuck Kim
;
Dong-Soo Shin
;
HeeJun Jeong
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
optical proximity correction (OPC);
chromeless phase shift mask;
scattering bars;
zebra patterns;
transmission;
phase;
11.
One method to monitor the PPD function of Nikon scanners and some reticle surface particle detection machines
机译:
监视尼康扫描仪和某些标线表面颗粒检测机的PPD功能的一种方法
作者:
Wei-Han Yang
;
Ying-Ku Lin
;
C C Huang
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
PPD;
monitor method;
monitor reticle;
particle;
12.
Mass Production Level ArF Immersion Exposure Tool
机译:
量产级ArF浸没曝光工具
作者:
Masahiko Okumura
;
Jun Ishikawa
;
Masato Hamatani
;
Masahiro Nei
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
ArF exposure tool;
high NA;
immersion;
13.
Mask Topography Effect on OPC at Hyper NA Lithography
机译:
超NA光刻技术对OPC的掩模形貌影响
作者:
Sook Lee
;
In-Sung Kim
;
Yong-Jin Chun
;
Sang-Wook Kim
;
Suk-Joo Lee
;
Sang-Gyun Woo
;
Han-Ku Cho
;
Joo-Tae Moon
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
mask topography effect;
OPC;
hyper NA;
maxwell equation;
virtual OPC;
14.
Performance Study of Chromeless Phase Lithography Mask for the 65nm Node and Beyond
机译:
65纳米及以上节点的无铬相位光刻掩模的性能研究
作者:
Yosuke Kojima
;
Takashi Ohshima
;
Kazuaki Chiba
;
Toshio Konishi
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
resolution enhancement technologies;
chromeless phase lithography;
3D-EMF simulation;
mask error enhancement factor;
mask topography;
15.
Predictive Focus Exposure Modeling (FEM) for Full-Chip Lithography
机译:
全芯片光刻的预测焦点曝光建模(FEM)
作者:
Luoqi Chen
;
Yu Cao
;
Hua-yu Liu
;
Wenjin Shao
;
Mu Feng
;
Jun Ye
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
resolution enhancement technology;
(RET);
process window (PW);
focus-exposure modeling (FEM);
optical proximity correction (OPC);
16.
Model-based Placement and Optimization of Sub-resolution Assist Features
机译:
基于模型的子分辨率辅助功能的放置和优化
作者:
Levi D. Barnes
;
Benjamin D Painter
;
Lawrence S. Melvin III
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
17.
Methods for Benchmarking Photolithography Simulators: Part IV
机译:
标定光刻模拟器的方法:第四部分
作者:
Trey Graves
;
Mark D. Smith
;
Chris A. Mack
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
lithography simulation;
numerical accuracy;
calculus of variations;
post-exposure bake;
development;
PROLITH;
18.
Evaluation of partial coherent imaging using the transfer function in immersion lithography
机译:
在浸没式光刻中使用传递函数评估部分相干成像
作者:
Mi-Rim Jung
;
Eun-A Kwak
;
Hye-Keun Oh
;
Seong-Bo Shim
;
Na-Rak Choi
;
Jai-Soon Kim
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
transmission cross-coefficient (TCC);
modulation transfer function (MTF);
immersion lithography;
hyper NA;
partial coherent;
19.
Effects of beam pointing instability on two-beam interferometric lithography
机译:
光束指向不稳定性对两光束干涉光刻的影响
作者:
Yongfa Fan
;
Anatoly Bourov
;
Michael Slocum Bruce W. Smith
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
interferometric lithography;
vibration;
laser pointing instability;
20.
Dynamic Leaching Procedure on an Immersion Interference Printer
机译:
浸入式干扰打印机上的动态浸出程序
作者:
Roel Gronheid
;
Enrico Tenaglia
;
Monique Ercken
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
leaching;
immersion lithography;
contamination;
defectivity;
CD uniformity;
21.
Fast Inverse Lithography Technology
机译:
快速反光刻技术
作者:
Daniel S. Abrams
;
Linyong Pang
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
inverse lithography;
inverse problem;
lithography simulation;
optimization;
yield;
process window;
ILT;
OPC;
PSM;
22.
Finding the right way: DFM vs. area efficiency for 65nm gate layer lithography
机译:
找到正确的方法:65nm栅极层光刻的DFM与面积效率
作者:
Chra S. Sarma
;
Steven Scheer
;
Klaus Herold
;
Carlos Fonseca
;
Alan Thomas
;
Uwe Paul Schroeder
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
DFM;
SRAF;
SRAM;
process window;
65nm technology;
gate level;
OPC;
forbidden pitch;
23.
Heterogeneous Diffusion Model for Simulation of Resist Process
机译:
用于抵抗过程模拟的异质扩散模型
作者:
Chang Moon Lim
;
Jun Taek Park
;
Seo Min Kim
;
Hyeong Soo Kim
;
Seung Chan Moon
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
lithography simulation;
resist model;
CD prediction;
heterogeneous diffusion;
24.
High Power Injection Lock 6kHz 60W Laser for ArF Dry/Wet Lithography
机译:
用于ArF干/湿光刻的大功率注入锁定6kHz 60W激光器
作者:
Hakaru Mizoguchi
;
T. Inoue
;
J. Fujimoto
;
T. Suzuki
;
T. Matsunaga
;
S.Sakanishi
;
M. Kaminishi
;
Y. Watanabe
;
T.Nakaike
;
M. Shinbori
;
M.Yoshino
;
T. Kawasuji
;
H.Nogawa
;
H.Umeda
;
H.Taniguchi
;
Y.Sasaki
;
J.Kinoshita
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
25.
Application of Super-Diffraction Lithography (SDL) for an Actual Device Fabrication
机译:
超衍射光刻技术(SDL)在实际器件制造中的应用
作者:
Shuji Nakao
;
Shinroku Maejima
;
Itaru Kanai
;
Akihiro Nakae
;
Junjiro Sakai
;
Koichiro Narimatsu
;
Kazuyuki Suko
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
RET;
single layer mask;
single exposure;
modified illumination;
attenuating non-phase-shift;
26.
A new on-machine measurement system to measure wavefront aberrations of projection optics with hyper-NA
机译:
利用超NA测量投影光学波前像差的新型机上测量系统
作者:
Y. Ohsaki
;
T. Mori
;
S. Koga
;
M. o
;
K. Yamamoto
;
T. Tezuka
;
Y. Shiode
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
interferometer;
aberration;
hyper-NA lithography;
27.
Active Spectral Control of DUV light sources for OPE minimization
机译:
DUV光源的主动光谱控制,可将OPE最小化
作者:
Wayne J. Dunstan
;
Robert Jacques
;
Robert J. Rafac
;
Rajasekhar Rao
;
Fedor Trintchouk
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
laser;
bandwidth;
FWHM;
E95;
active;
control;
28.
A Hyper-NA Projection Lens for ArF Immersion Exposure Tool
机译:
用于ArF浸入曝光工具的Hyper-NA投影镜头
作者:
Hironori Ikezawa
;
Yasuhiro Ohmura
;
Tomoyuki Matsuyama
;
Yusaku Uehara
;
Toshiro Ishiyama
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
immersion;
projection optics;
dioptric;
catadioptric;
29.
The Improvement of DOF for Sub-100nm Process by Focus Scan
机译:
聚焦扫描对亚100nm制程自由度的改进
作者:
Jung-Chan Kim
;
Hyun-Jo Yang
;
Jin-Hyuck Jeon
;
Chan-Ha Park
;
James Moon
;
Dong-gyu Yim
;
Jin-Woong Kim
;
Shih-en Tseng
;
Kyu-Kab Rhe
;
Young-Hong Min
;
Alek C. Chen
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
DOF (depth of focus);
EL (energy latitude);
RET (resolution enhancement technique);
focus scan (stage tilt);
30.
Robust Double Exposure Flow for Memory
机译:
强大的二次曝光记忆力
作者:
JW Park
;
Sungsoo Shu
;
Insung Kim
;
Youngsuk Kang
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
double exposure;
DEL;
double dipole;
RET;
DRAM;
flash;
memory;
OPC;
31.
Simulation of dense contact hole (κ_1=0.35) arrays with 193-nm immersion lithography
机译:
193 nm浸没光刻法模拟密集接触孔(κ_1= 0.35)阵列
作者:
Alex K. Raub
;
Abani M. Biswas
;
Y. Borodovsky
;
G. Allen
;
S. R. J. Brueck
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
contact hole;
immersion lithography;
imaging interferometric lithography;
dipole illumination;
alternating phase shift mask (alt-PSM);
polarization;
hyper-NA;
32.
Intensive 2D SEM model calibration for 45nm and beyond
机译:
适用于45nm及更高波长的密集2D SEM模型校准
作者:
George E. Bailey
;
Thuy Do
;
Yuri Granik
;
Ir Kusnadi
;
rew Estroff
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
RET;
OPC;
calibration;
modeling;
2D;
accuracy;
SEM;
image;
33.
Immersion lithography with an ultrahigh-NA in-line catadioptric lens and a high-transmission flexible polarization illumination system
机译:
浸入式光刻技术和超高倍NA在线折反射透镜和高透射率柔性偏振照明系统
作者:
Hans Jasper
;
Theo Modderman
;
Mark van de Kerkhof
;
Christian Wagner
;
Jan Mulkens
;
Wim de Boeij
;
Eelco van Setten
;
Bernhard Kneer
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
ultra high NA;
polarized illumination;
immersion lithography;
34.
Pushing the Lithography Limit - Applying Inverse Lithography Technology (ILT) at the 65nm Generation
机译:
推动光刻极限-在65nm世代应用反光刻技术(ILT)
作者:
Chi-Yuan Hung
;
Bin Zhang
;
Eric Guo
;
Linyong Pang
;
Yong Liu
;
Kechang Wang
;
Grace Dai
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
inverse lithography technology (ILT);
OPC;
RET;
lithography;
SRAM;
65nm technology;
35.
Structure and Optical property of Large Size CaF_2 Single Crystals Grown by the CZ method
机译:
CZ法生长大尺寸CaF_2单晶的结构和光学性质
作者:
I. Masada
;
T. Nawata
;
Y. Inui
;
T. date
;
T. Mabuchi
;
E. Nishijima
;
T. Fukuda
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
CaF_2 single crystal;
czochralski method;
X-ray topography;
sub-grain structure;
residual homogeneity;
36.
SLM Lithography - printing down to k_1=0.30 without previous OPC processing
机译:
SLM光刻-无需事先进行OPC处理即可打印到k_1 = 0.30
作者:
Tor Sstrom
;
Igor Ivonin
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
SLM lithography;
low k_1;
optimized illumination;
pupil filter;
real-time OPC;
masks;
pattern generator;
37.
The Capability of a 1.3NA μstepper using 3D EMF Mask Simulations
机译:
使用3D EMF掩模仿真的1.3NAμstepper的功能
作者:
Will Conley
;
Jeff Meute
;
James Webb
;
Douglas Goodman
;
Robert Maier
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
38.
LIS Design for Optimum Efficiency
机译:
LIS设计实现最佳效率
作者:
Lev Ryzhikov
;
Yuli Vladimirsky
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
laser illumination system;
LIS;
high NA;
microlithography tool;
illumination uniformity;
39.
Liquid Immersion Lithography at 193 nm Using a High-NA Achromatic Interferometer
机译:
使用高NA消色差干涉仪在193 nm处进行液体浸没光刻
作者:
Anne-Laure Charley
;
Alexre Lagrange
;
Olivier Lartigue
;
Philippe Belier
;
Marianne Derouard
;
Patrick Schiavone
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
40.
Early Learning on Hyper-NA Lithography Using Two-Beam Immersion Interference
机译:
使用两束浸入干涉的超NA光刻技术的早期学习
作者:
Eric Hendrickx
;
Maaike Op de Beeck
;
Roel Gronheid
;
Janko Versluijs
;
Lieve Van Look
;
Monique Ercken
;
Geert Venberghe
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
optical lithography;
interferometric imaging;
high-index liquids;
polarization;
leaching;
hyper-NA process development;
41.
DOF Enhancement for Contact Holes by using Nikon's CDP Option and its Introduction into Production
机译:
通过使用尼康的CDP选件及其在生产中的引入来提高接触孔的自由度
作者:
Louis-Pierre Armellin
;
Virginie Dureuil
;
Laurent Nuel
;
Vincent Salvetat
;
Winfried Meier
;
reas Kraft
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
resolution;
scanner;
photolithography;
DOF;
CDP;
focus drilling;
contact holes;
42.
GT40A: Durable 45-W ArF Injection-lock Laser Light Source for Dry/Immersion Lithography
机译:
GT40A:耐用的45W ArF注入锁定激光光源,用于干法/浸没式光刻
作者:
Satoshi Tanaka
;
Hiroaki Tsushima
;
Takanori Nakaike
;
Taku Yamazaki
;
Takashi Saito
;
Hitoshi Tomaru
;
Koji Kakizaki
;
Takashi Matsunaga
;
Toru Suzuki
;
Osamu Wakabayashi
;
Shinji Nagai
;
Junichi Fujimoto
;
Toyoharu Inoue
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
excimer laser;
ArF;
193 nm;
immersion lithography;
durability;
43.
Development status of a 193-nm immersion exposure tool
机译:
193 nm浸没曝光工具的开发现状
作者:
Takahito Chibana
;
Hitoshi Nakano
;
Hideo Hata
;
Nobuhiro Kodachi
;
Naoto Sano
;
Mikio Arakawa
;
Yoichi Matsuoka
;
Youji Kawasaki
;
Sunao Mori
;
Keiko Chiba
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
193-nm immersion lithography;
lens contamination;
micro bubble;
defect;
44.
Contact-Hole Process Window Improved by Assistant Features with FLEX Function on Krf
机译:
Krf上具有FLEX功能的辅助功能改进了接触孔工艺窗口
作者:
Cheng Ku Chiang
;
L.S. Yeh
;
Wen Bin Wu
;
Chiang Lin Shih
;
Jeng Ping Lin
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
focus latitude enhanced eXposure (FLEX);
resolution enhancement technologies (RET);
double exposure technologies (DET);
sub-resolution assists features (SRAF);
45.
Catadioptric Lens Design: The Breakthrough to Hyper-NA Optics
机译:
折反射透镜设计:超NA光学器件的突破
作者:
Bernhard Kneer
;
Paul Graeupner
;
Reiner Garreis
;
Ralph Klaesges
;
Heiko Feldmann
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
extreme high NA;
lithographic lens design;
immersion;
46.
Calibrating OPC Models using Asymmetric Structures
机译:
使用非对称结构校准OPC模型
作者:
Laurent Depre
;
Christopher Cork
;
Qiliang Yan
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
47.
Benchmark of Numerical versus Analytical Proximity Curve Calculations
机译:
数值与分析接近度曲线计算的基准
作者:
Roderick Koehle
;
Christof Bodendorf
;
Wolfgang Hoppe
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
partially coherent imaging;
lithography simulation benchmark;
hopkins algorithm;
48.
244-nm imaging interferometric lithography test bed
机译:
244纳米成像干涉光刻试验台
作者:
Svjatoslav Smolev
;
A. Biswas
;
A. Frauenglass
;
Steven R.J. Brueck
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
imaging interferometric lithography;
pupil plane filtering;
high-NA system;
multiple exposure technique;
49.
The investigation of 193nm CPL 3D Topology Mask Effect on Wafer Process Performance
机译:
193nm CPL 3D拓扑掩模对晶圆工艺性能影响的研究
作者:
Yung Feng Cheng
;
Yuen Lin Chou
;
Chuen Huei Yang
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.2》
|
2006年
关键词:
CPL;
quartz depth;
sidewall angle;
AFM;
phase;
3D mask;
意见反馈
回到顶部
回到首页