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Fundamentals of Electrochemical Growth - From UPD to Microstructures 3
Fundamentals of Electrochemical Growth - From UPD to Microstructures 3
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1.
Synthesis and Technological Application of Electrodeposited Semiconductors by EC-ALD
机译:
EC-ALD合成电沉积半导体及其技术应用
作者:
A. Giaccherini
;
I. Bencista
;
S. Cinotti
;
G. Montegrossi
;
A. Guerri
;
F. Di Benedetto
;
A. Lavacchi
;
M. L. Foresti
;
R. Felici
;
F. Carla
;
M. Innocenti
会议名称:
《Fundamentals of Electrochemical Growth - From UPD to Microstructures 3》
|
2013年
2.
Silver Electrodeposition From Ionic Liquids: Coating Morphology and Mass Transport Issues
机译:
离子液体中的银电沉积:涂层形态和传质问题
作者:
S.Cinotti
;
E. Banchelli
;
L. Becucci
;
I. Bencista
;
M.Innocenti
;
A. Lavacchi
;
L. Luconi
;
L.Q. Wanq
会议名称:
《Fundamentals of Electrochemical Growth - From UPD to Microstructures 3》
|
2013年
3.
Electrochemical Formation of Brazing Alloys on Metal Substrates
机译:
金属基底上钎焊合金的电化学形成
作者:
F. Ulu
;
I.Karakaya
;
G.Demirci
;
M. Erdogan
会议名称:
《》
|
2013年
4.
DFT Analysis on Cathodic Reaction of Au Thiosulfate Complex at Au (111) Surface - Cathodic Reaction Modeling
机译:
硫磺酸金络合物在Au(111)表面上的阴极反应的DFT分析-阴极反应建模。
作者:
Masahiro Kunimoto
;
Hiromi Nakai
;
Takayuki Homma
会议名称:
《Fundamentals of Electrochemical Growth - From UPD to Microstructures 3》
|
2013年
5.
A SPONTANEOUS MORPHOLOGY CHANGE ON THE SURFACE OF ELECTRODEPOSITED SINGLE-CRYSTAL COPPER FILMS DURING ROOM-TEMPERATURE AGING
机译:
室温老化过程中电沉积单晶铜膜表面的自发形态变化
作者:
S. Nakahara
;
S. Ahmed
;
D. N. Buckley
会议名称:
《Fundamentals of Electrochemical Growth - From UPD to Microstructures 3》
|
2013年
6.
Electrochemical Growth of Copper Nanowires Inside of Semiconducting TiO_2 Nanotubes
机译:
半导体TiO_2纳米管内部铜纳米线的电化学生长。
作者:
S. J. Sitler
;
K. S. Raja
会议名称:
《Fundamentals of Electrochemical Growth - From UPD to Microstructures 3》
|
2013年
7.
Electrodeposited metal nanotubeanowire arrays in mesoporous silicon and their morphology dependent magnetic properties
机译:
介孔硅中的电沉积金属纳米管/纳米线阵列及其与形貌有关的磁性
作者:
P. Granitzer
;
K. Rumpf
;
N. Koshida
;
P. Poelt
;
H. Michor
会议名称:
《Fundamentals of Electrochemical Growth - From UPD to Microstructures 3》
|
2013年
8.
A New Approach for the Calculation on the Entropic and Free Energy Contributions to Underpotential Deposition
机译:
计算熵和自由能对低位沉积的贡献的新方法
作者:
L. M. Farigliano
;
M. A. Villarreal
;
O. A. Oviedo
;
E. P. M. Leiva
会议名称:
《Fundamentals of Electrochemical Growth - From UPD to Microstructures 3》
|
2013年
9.
Electrodeposition of Semiconductor Thin Films With Different Composition and Band Gap
机译:
不同组成和带隙的半导体薄膜的电沉积
作者:
I. Bencista
;
F. Di Benedetto
;
M.L. Foresti
;
A. Lavacchi
;
F. Vizza
;
H.A. Miller
;
L. Wang
;
M. Innocenti
会议名称:
《Fundamentals of Electrochemical Growth - From UPD to Microstructures 3》
|
2013年
10.
Electrodeposition of supersaturated CuAg alloys in pyrophosphate-iodide electrolytes
机译:
焦磷酸盐-碘化物电解质中过饱和CuAg合金的电沉积
作者:
R. Bernasconi
;
L. Nobili
;
L. Magagnin
会议名称:
《Fundamentals of Electrochemical Growth - From UPD to Microstructures 3》
|
2013年
11.
Comparison of Structural Properties of Copper Deposits from Sulfate and Pyrophosphate Electrolytes
机译:
硫酸盐和焦磷酸盐电解质中铜沉积物的结构特性比较
作者:
B. Arslan
;
N. UElgueduer
;
M. Erdogan
;
I. Imamoglu
;
I. Karakaya
会议名称:
《Fundamentals of Electrochemical Growth - From UPD to Microstructures 3》
|
2013年
12.
Porous silicon with deposited iron oxide as vehicle for magnetically guided drug delivery
机译:
沉积有氧化铁的多孔硅作为磁性药物输送的载体
作者:
K. Rumpf
;
P. Granitzer
;
Y. Tian
;
J. Coffer
;
G. Akkaraju
;
P. Poelt
;
H. Michor
会议名称:
《Fundamentals of Electrochemical Growth - From UPD to Microstructures 3》
|
2013年
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