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International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces
International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces
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1.
Local distribution of particles deposited on patterned surfaces
机译:
局部分布沉积在图案化表面上的颗粒
作者:
Faisal Wali
;
D. Martin Knotter
;
Twan Bearda
;
Paul W. Mertens
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Deposition mechanism;
Lateral capillary forces;
Silica particles;
2.
Applications of electrostatic spray techniques to surface cleaning
机译:
静电喷涂技术在表面清洁中的应用
作者:
Ken Finster
;
Robert Small
;
Andrea Belz
;
John Mahoney
;
Julius Perel
;
Jian Gong
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Electrospray;
Electrohydrodynamics;
Droplets;
Droplet-surface interactions;
3.
Preparation and characterization of self-assembled monolayers on germanium surfaces
机译:
锗表面自组装单层的制备与表征
作者:
Martin Lommel
;
Philipp Honicke
;
Michael Kolbe
;
Matthias Muller
;
Falk Reinhardt
;
Pit Mobus
;
Eric Mankel
;
Burkhard Beckhoff
;
Bernd O. Kolbesen
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Self-assembled monolayers;
Germanium;
Surface;
Passivation;
HF;
AFM;
XPS;
TXRF;
NEXAFS;
GIXRF;
Thiols;
H-termination;
Oxide removal;
4.
Cleaning Technique Using High-Speed Steam-Water Mixed Spray
机译:
使用高速蒸汽水混合喷雾的清洁技术
作者:
Masao Watanabe
;
Toshiyuki Sanada
;
Atsushi Hayashida
;
Yoichi Isago
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Steam-water mixture;
Spray;
Cleaning;
Super-purified water;
Droplet;
Particle;
5.
Advances in Test Wafer Reclaim Technology - Wet Stripping Porous Low-k Films with No Substrate Damage
机译:
试验晶圆的进展回收技术 - 湿剥离多孔低k薄膜,没有底物损伤
作者:
Mark Robson
;
Kristin A. Fletcher
;
Ping Jiang
;
Michael B. Korzenski
;
A. Upham
;
T. Haigh
;
Thomas J. C. Hsieh
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Reclaim;
Ultra low-k;
Etch rate;
Selectivity;
Defects;
6.
All Wet Photoresist Strip by Solvent Aerosol Spray
机译:
所有湿法光刻胶条带溶剂气溶胶喷雾
作者:
M. Wada
;
K. Sano
;
J. Snow
;
R. Vos
;
L. H. A. Leunissen
;
P.W. Mertens
;
A. Eitoku
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Solvent;
Photoresist removal;
Aerosol spray;
NMP;
DMSO;
7.
Post Ion-Implant Photoresist Stripping Using Steam and Water: Pre-treatment in a steam atmosphere and steam-water mixed spray
机译:
使用蒸汽和水的后离子植入物光致抗蚀剂剥离:在蒸汽气氛和蒸汽水混合喷雾中预处理
作者:
Toshiyuki Sanada
;
Masao Watanabe
;
Atsushi Hayashida
;
Yoichi Isago
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Resist stripping;
Crust;
Steam and water mixed spray;
Steam atmosphere;
8.
Drying of high aspect ratio structures: a comparison of drying techniques via electrical stiction analysis
机译:
高纵横比结构的干燥:通过电效应分析进行干燥技术的比较
作者:
Antoine Pacco
;
Masayuki Wada
;
Twan Bearda
;
Paul Mertens
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Drying;
High Aspect Ratio;
MEMS;
DRAM;
Electrical analysis;
Stiction;
9.
Study of the volatile organic contaminants absorption and their reversible outgassing by FOUPs
机译:
对挥发性有机污染物吸收的研究及其偏离优化的逆流
作者:
Herve Fontaine
;
Sylviane Cetre
;
Marc Veillerot
;
Adrien Danel
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
AMC;
Cross-contamination;
Polymer;
10.
Three-step Room Temperature Wet Cleaning Process for Silicon Substrate
机译:
三级室温湿清洗工艺硅衬底
作者:
Rui Hasebe
;
Akinobu Teramoto
;
Tomoyuki Suwa
;
Rihito Kuroda
;
Shigetoshi Sugawa
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Cleaning;
Room temperature;
TDS-APIMS;
Alkali free;
11.
Impact of megasonic activation with different chemistries on silicon surface in single wafer tool
机译:
单晶片工具中不同化学对不同化学物质的影响
作者:
Briend Guillaume
;
Besson Pascal
;
Salvetat Thierry
;
Petitdidier Sebastien
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Megasonic activation;
HF chemistry;
Silicon surface;
Damages;
Oxidation;
Haze;
12.
Surface energy and wetting behaviour of plasma etched porous SiCOH surfaces and plasma etch residue cleaning solutions
机译:
等离子体蚀刻多孔SiCOH表面和等离子体蚀刻残留清洁溶液的表面能和润湿行为
作者:
Nicole Ahner
;
Matthias Schaller
;
Christin Bartsch
;
Eugene Baryschpolec
;
Stefan E. Schulz
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Porous low-k;
Plasma etch residues;
Wet cleaning;
Surface energy;
Wetting;
13.
Reduction of Airborne Molecular Contamination on 300 mm Front Opening Unified POD (FOUP) and Wafers Surface by Vacuum Technology
机译:
通过真空技术减少300mm前开口统一荚(FOUP)和晶片表面的空气染色
作者:
Philippe MAQUIN
;
Hisanori KAMBARA
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Airborn molecular contamination (AMC);
ITRS standard;
Queue time;
Oxidation;
Cross contamination;
Haze problem;
Crystalline growth;
Wafer decontamination;
Defectivity;
Yield improvement;
Vacuum purge;
14.
Material Loss Impact on Device Performance for 32nm CMOS And Beyond
机译:
材料损耗对32nm CMOS及以后的装置性能的影响
作者:
Brian K. Kirkpatrick
;
James J. Chambers
;
Steven L. Prins
;
Deborah J. Riley
;
Weize Wade Xiong
;
Xin Wang
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Material loss;
Silicon consumption;
Isolation;
Gate;
High-k/metal gates;
LDD;
Sidewall;
15.
The interaction of sublimed iminodiacetic acid with a Cu{110} surface
机译:
用Cu {110}表面的升掺杂碘乙酸的相互作用
作者:
D. Tee
;
S. M. Francis
;
N. V. Richardson
;
C. Reid
;
L. McGhee
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Iminodiacetic acid;
Copper surface;
Scanning tunneling microscopy;
FTIR;
Surface cleaning;
Passivation;
16.
Prevention of Condensation Defects on Contact Patterns by Improving Rinse Process
机译:
通过改善冲洗过程预防接触模式的冷凝缺陷
作者:
Jung-Min Oh
;
Jeong-Nam Han
;
Kun-Tack Lee
;
Chang-Ki Hong
;
Woo-Sung Han
;
Joo-Tae Moon
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Condensation;
Crystal defect;
Residual gas;
DIW rinse;
17.
Molybdenum Contamination in Silicon: Detection and Impact on Device Performances
机译:
硅中的钼污染:检测和影响器件性能
作者:
D. Codegoni
;
M. L. Polignano
;
D. Caputo
;
A. Riva
;
E. Blot
;
D. Coulon
;
P. Maillot
;
N. Pic
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Molybdenum contamination;
Diffusion length;
SPV;
DLTS;
Elymat;
18.
Impact of Dry Etch and Ash Conditions on Removability of Plasma Etch Residues in Al-Metallization. Approach to improve PER Cleaning Efficiency by EHS-friendly Aqueous Remover
机译:
干蚀刻和灰分条件对铝金属化等离子体蚀刻残基可移除性的影响。 EHS友好的含水卸妆处理每种清洁效率的方法
作者:
Berthold Ferstl
;
Andreas Klipp
;
Manfred Essig
;
Maria Heidenblut
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
EHS-friendly aqueous PER remover;
Plasma etch residues;
Al-technology;
XPS;
19.
A novel copper interconnection cleaning by atomic hydrogen using diluted hydrogen gas
机译:
用稀氢气采用原子氢的新型铜互连清洁
作者:
Kazuki Abe
;
Akira Izumi
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Copper;
Copper oxide;
Reduction;
Atomic hydrogen;
Diluted hydrogen;
Hot wire;
20.
Application of Single-Wafer Wet Cleaning Prior to Epitaxial SiGe Process
机译:
单晶片湿清洗在外延SiGe过程之前的应用
作者:
Ken-ichi Sano
;
Masayuki Wada
;
Frederik Leys
;
Roger Loo
;
Andriy Hikavyy
;
Paul W. Mertens
;
James Snow
;
Akira Izumi
;
Katsuhiko Miya
;
Atsuro Eitoku
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Epitaxial Growth;
Si;
SiGe;
Single-wafer cleaning;
HF;
Dry;
IPA;
21.
Current Advances in Anhydrous HF/Organic Solvent Processing of Semiconductor Surfaces
机译:
半导体表面的无水HF /有机溶剂加工中的电流进展
作者:
P. Roman
;
K. Torek
;
K. Shanmugasundaram
;
P. Mumbauer
;
D. Vestyck
;
P. Hammond
;
J. Ruzyllo
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Anhydrous HF;
Native oxide;
Oxide etching;
3D geometries;
Amorphous silicon;
22.
Trace metallic contamination analysis on wafer edge and bevel by TXRF and VPD-TXRF
机译:
TXRF和VPD-TXRF晶圆边缘和斜面的痕迹金属污染分析
作者:
Hikari Takahara
;
Ken Tsugane
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Metallic contamination;
Edge;
Bevel;
TXRF;
VPD-TXRF;
23.
Recyclable fluorine-based cleaning solvents for resist removal
机译:
可回收的氟基清洗溶剂用于抗蚀剂去除
作者:
Hidekazu Okamoto
;
Hideo Namatsu
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Fluorine;
Solvent;
Cleaning;
Drying;
Recycle;
Resist;
Hydrofluoroether;
Hydrofluorocarbon;
24.
Poly- silicon etch with diluted ammonia: Application to replacement gate integration scheme
机译:
用稀释氨的聚硅蚀刻:替换栅极集成方案的应用
作者:
Farid Sebai
;
Jose Ignacio Del Agua Borniquel
;
Rita Vos
;
Philippe Absil
;
Thomas Chiarella
;
Christa Vrancken
;
Pieter Boelen
;
Evans Baiya
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Gate replacement;
Poly silicon etch with diluted ammonia;
Over etch;
High-k surface degradation;
Leakage current;
25.
Reduced Particle Removal Efficiency Upon Wafer Storage
机译:
在晶片存储器上降低颗粒去除效率
作者:
D. Martin Knotter
;
Romuald Roucou
;
Remi Peyrin
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Particle Removal;
Aging;
Humidity;
26.
Evaluation of plasma strip induced substrate damage
机译:
等离子体条带诱导底物损伤评价
作者:
Keping Han
;
S. Luo
;
O. Escorcia
;
Carlo Waldfried
;
Ivan Berry
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Post-implant resist strip;
Ultra shallow junction;
Surface oxidation;
Silicon loss;
Dopant loss;
27.
High aspect ratio contact clean study in 58nm flash device
机译:
高纵横比在58NM闪存器件中接触清洁研究
作者:
Pi-Chun Yu
;
Cheng-Kuen Chen
;
Jin-Lang Lin
;
Chih-Ning Wu
;
Matsuo Hiroshi
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Contact clean;
Nano-spray;
PRE;
Single wafer tool;
AM1;
28.
Low Temperature Pre-Epi Treatment: Critical Parameters to Control Interface Contamination
机译:
低温ePI处理:控制界面污染的关键参数
作者:
Roger Loo
;
Andriy Hikavyy
;
Frederik Leys
;
Masayuki Wada
;
Ken-ichi Sano
;
Brecht De Vos
;
Antoine Pacco
;
Mireia Bargallo Gonzalez
;
Eddy Simoen
;
Peter Verheyen
;
Wendy Vanherle
;
Matty Caymax
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Si/SiGe;
Epitaxial Growth;
Low thermal budget;
Embedded SiGe;
HBT;
29.
Effect of Various Cleaning Solutions and Brush Scrubber Kinematics on the Frictional Attributes of Post Copper CMP Cleaning Process
机译:
各种清洁溶液和刷式洗涤器运动学对铜CMP清洗过程摩擦属性的影响
作者:
Yasa Sampurno
;
Yun Zhuang
;
Xun Gu
;
Sian Theng
;
Takenao Nemoto
;
Ting Sun
;
Fransisca Sudargho
;
Akinobu Teramoto
;
Ara Philipossian
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Frictional force;
Shear force;
Down force;
Citric acid;
Post copper CMP;
Vleaning process;
PVA;
Brush;
Rotational rate;
Cleaning solutions;
Surfactant;
Slurry;
30.
Advances on 45nm SiGe-Compatible NiPt Salicide Process
机译:
45nm SiGe兼容的Nipt Salicide过程的进展
作者:
Yi-Wei Chen
;
Nien-Ting Ho
;
Jerander Lai
;
T. C. Tsai
;
C. C. Huang
;
S. F. Tzou
;
James. M. M. Chu
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
NiPt salicide;
SPM;
Silicide;
Wet stripping;
Selective etching;
HPM;
SiGe;
31.
Effect of wet treatment on stability of spin-on dielectrics for STI gap-filling in nanoscale memory
机译:
湿法对纳米级记忆中STI间隙填充的旋转电介质稳定性的影响
作者:
Gyuhyun Kim
;
Soonyoung Park
;
Seungseok Pyo
;
Jihye Han
;
Jungnam Kim
;
Keejoon Oh
;
Choonkun Ryu
;
Yongsoo Choi
;
Nohjung Kwak
;
Sungki Park
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Wet oxidants;
Etch rate;
SOD oxide;
32.
Process Dependence on Defectivity Count on Copper and Dielectric Surfaces in Post-Copper CMP Cleaning
机译:
处理后铜CMP清洗中铜和介电表面缺陷计数的过程依赖性
作者:
Jerome Daviot
;
Jan Vaes
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Cu-PCMP;
Cleaning;
Particle removal;
Defectivity on Copper amp;
ULK;
33.
Shortening of Plasma Strip Process resulting in better Removal of Photo Resist after High Dose Implantation
机译:
缩短等离子体条带工艺,导致高剂量植入后更好地去除光抗蚀剂
作者:
A. Zakharov
;
M. Lenski
;
S. Metzger
;
C. Kruger
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Implanted photo resist stripping;
Crust layer;
Plasma processing;
Wet stripping;
34.
Impacts of ionization potentials and megasonic dispersion
机译:
电离电位和兆声色分散的影响
作者:
Cole Franklin
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Megasonic;
Ionization potential;
Cleaning;
Sound dispersion;
35.
Impact of Galvanic Corrosion on Metal Gate Stacks
机译:
电流腐蚀对金属闸堆的影响
作者:
M. Wada
;
S. Garaud
;
I. Ferain
;
N. Collaert
;
K. Sano
;
J. Snow
;
R. Vos
;
L. H. A. Leunissens
;
P.W. Mertens
;
A. Eitoku
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Galvanic corrosion;
Metal gate;
HF;
TiN;
Mo;
36.
Surface texturization and interface passivation of mono-crystalline silicon substrates by wet chemical treatments
机译:
用湿化学处理的单晶硅基材的表面纹理和界面钝化
作者:
W. Sievert
;
K.-U. Zimmermann
;
B. Hartmann
;
C. Klimm
;
K. Jacob
;
H. Angermann
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Si surface texturization;
Light trapping;
Wet-chemical etching;
H-termination;
Surface photo voltage SPV;
Scanning electron microscopy SEM;
UV-NIR-reflectance;
37.
Co-solvent effect on the HF/CO_2 dry etching of sacrificial oxides
机译:
牺牲氧化物HF / CO_2干蚀刻的共同溶剂效应
作者:
Jae Hyun Bae
;
Jae Mok Jung
;
Kwon Taek Lim
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Etching;
Sacrificial oxide;
BPSG;
HF;
Residues;
Supercritical CO_2;
38.
Design and Development of Novel Remover for Cu / porous Low-k Interconnects
机译:
用于Cu /多孔低k互连的新型去除剂的设计与开发
作者:
Tomoko Suzuki
;
Atsushi Otake
;
Tomoko Aoki
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Cu Cleaning;
ELK compatibility;
XPS;
Cu surface control;
39.
High speed imaging of 1 MHz driven microbubbles in contact with a rigid wall
机译:
1 MHz驱动的微泡与刚性墙接触的高速成像
作者:
Aaldert Zijlstra
;
Tom Janssens
;
Kurt Wostyn
;
Michel Versluis
;
Paul M. Mertens
;
Detlef Lohse
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Megasonic;
Cleaning;
Cavitation;
Visualization;
40.
The influence of standing waves on cleaning with a megasonic nozzle
机译:
常压喷嘴静置波的影响
作者:
T. Janssens
;
G. Doumen
;
S. Halder
;
K. Wostyn
;
P. W. Mertens
;
J. Straka
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Physical cleaning;
Cavitation;
41.
Monitoring System for Airborne Molecular Contamination (AMC) in Semiconductor Manufacturing Areas and Micro-Environments
机译:
半导体制造区域和微环境中的空气传播分子污染(AMC)监测系统
作者:
M. Otto
;
A. Leibold
;
L. Wulf
;
M. Hurlebaus
;
L. Pfitzner
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Airborne molecular contamination;
In-situ monitoring;
Ion mobility spectroscopy;
42.
Steam-Injected SPM Process for All-Wet Stripping of Implanted Photoresist
机译:
用于全湿剥离的植入光致抗蚀剂的蒸汽注入的SPM工艺
作者:
David DeKraker
;
Blake Pasker
;
Jeffery W. Butterbaugh
;
Kurt K. Christenson
;
Thomas J. Wagener
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
SPM;
Steam;
Catalyst;
Implanted;
Photoresist;
Ashless;
All-wet;
43.
Highly sensitive detection of inorganic contamination
机译:
无机污染的高度敏感性检测
作者:
B. Beckhoff
;
A. Nutsch
;
R. Altmann
;
G. Borionetti
;
C. Pello
;
M. L. Polignano
;
D. Codegoni
;
S. Grasso
;
E. Cazzini
;
M. Bersani
;
P. Lazzeri
;
S. Gennaro
;
M. Kolbe
;
M. Muller
;
P. Kregsamer
;
F. Posch
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Inorganic surface contamination;
Ultra trace analysis;
Matching of analytical techniques;
44.
Mechanism of plasma-less gaseous etching process for damaged oxides from the ion implantation process
机译:
离子注入工艺损坏氧化物的较低血管蚀刻工艺的机理
作者:
Suguru Saito
;
Yoshiya Hagimoto
;
Hayato Iwamoto
;
Yusuke Muraki
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Plasma-less gaseous etching;
Chemical oxide removal;
COR;
Ion implantation;
Plasma damage;
(NH_4)_2SiF_6;
45.
Novel methods for wet stripping high dose implanted photoresist using sulfur trioxide
机译:
用三氧化硫湿汽提高剂量植入光致抗蚀剂的新方法
作者:
Eric J. Bergman
;
J. Dusty Leonhard
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
High-dose;
Implant;
Strip;
Wet-strip;
Sulfur trioxide;
46.
Defects of silicon substrates caused by electro-static discharge in single wafer cleaning process
机译:
单晶片清洁过程中电静电放电引起的硅基板的缺陷
作者:
Yoshiya Hagimoto
;
Hayato Iwamoto
;
Yasushi Honbe
;
Takuro.Fukunaga
;
Hitoshi Abe
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Defects;
Silicon substrates;
Electro-static discharge;
Electro-static charge;
Single wafer cleaning system;
Transmission electron microscope;
47.
Chemical and Mechanical Analysis of HDIS Residues using Auger Electron Spectroscopy and Nanoindentation
机译:
螺旋钻电子光谱和纳米狭窄的HDIS残留的化学与力学分析
作者:
Andreas V. Kadavanich
;
Sang Hoon Shim
;
Harry M. Meyer
;
Stephen E. Savas
;
Edgar Lara-Curzio
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
HDIS;
High-Dose Implant Strip;
Residue;
Photoresist stripping;
AES;
Nanoindentation;
48.
Etch rate study of Germanium, GaAs, and InGaAs: a challenge in semiconductor processing
机译:
锗,GaAs和Ingaas的蚀刻速率研究:半导体加工中的挑战
作者:
Sonja Sioncke
;
David P. Brunco
;
Marc Meuris
;
Olivier Uwamahoro
;
Jan Van Steenbergen
;
Evi Vrancken
;
Marc M. Heyns
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Ge;
GaAs;
InGaAs;
Etch rate;
49.
Improving Process Control for Copper Electroplating through Filter Membrane Optimization
机译:
通过滤膜优化改进铜电镀的过程控制
作者:
Aiwen Wu
;
Gregg Cornner
;
Vinay Prabhaker
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Copper plating;
Particle filtration;
Copper plating solution;
50.
Complementary metrology within a European joint laboratory
机译:
欧洲关节实验室内的互补计量
作者:
A. Nutsch
;
B. Beckhoff
;
R. Altmann
;
J. A. Van Den Berg
;
D. Giubertoni
;
P. Hoenicke
;
M. Bersani
;
A. Leibold
;
F. Meirer
;
M. Mueller
;
G. Pepponi
;
M. Otto
;
P. Petrik
;
M. Reading
;
L. Pfitzner
;
H. Ryssel
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Utra trace analysis;
Utra shallow junctions;
Thin layers;
Research infrastructures;
51.
Removal of Nano-particles by Aerosol Spray: Effect of Droplet Size and Velocity on Cleaning Performance
机译:
通过气溶胶喷雾去除纳米粒子:液滴尺寸和速度对清洁性能的影响
作者:
K. Xu
;
S. Pichler
;
K. Wostyn
;
G. Cado
;
C. Springer
;
G. Gale
;
M. Dalmer
;
P. W. Mertens
;
T. Bearda
;
E. Gaulhofer
;
D. Podlesnik
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Particle removal;
Damage;
Aerosol spraying;
Droplet size;
Droplet velocity;
52.
Ozone chemistry for BEOL resist stripping - A systematic analytical attempt to understand the interaction of O_3 with modern DUV-resists
机译:
BEOL抗蚀剂剥离的臭氧化学 - 了解O_3与现代DUV抗蚀剂的互动的系统分析试图
作者:
Mathias Guder
;
Maren Pellowska
;
Maximilian Pohland
;
Michael Dalmer
;
Bernd Kolbesen
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Ozone;
Radicals;
Decomposition;
Radical trapping;
Resist characterization;
53.
Direct Observation of Single Bubble Cavitation Damage for MHz Cleaning
机译:
直接观察单一泡沫空化损伤MHz清洁
作者:
Hiroshi Tomita
;
Minako Inukai
;
Kaori Umezawa
;
Linan Ji
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Cavitation;
Damage;
Light point defect;
Physical force;
54.
Influence of dry ashing and wet treatments on NVM metal gate structures
机译:
干灰化和湿法对NVM金属栅极结构的影响
作者:
Alice C. Elbaz
;
Enrico Bellandi
;
Cinzia De Marco
;
Luigi M. Avaro
;
Enrica Ravizza
;
Roberta Piva
;
Mauro Alessandri
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Metal gate;
Resist removal;
55.
Post extension ion implant photo resist strip for 32 nm technology and beyond
机译:
后延伸部离子植入物光致电条32纳米技术及超越
作者:
G. Mannaert
;
L. Witters
;
D. Shamiryan
;
W. Boullart
;
K. Han
;
S. Luo
;
A. Falepin
;
R. Sonnemans
;
I. Berry
;
C. Waldfried
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Fin;
Photo resist strip;
Dopant loss;
56.
Characterization of post etch residues depending on resist removal processes after aluminum etch
机译:
取决于铝蚀刻后抗蚀剂去除过程的蚀刻后残留物的表征
作者:
M. Heidenblut
;
D. Sturm
;
A. Lechner
;
F. Faupel
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Post-etch residues;
Raman microscopy;
FT-IR microscopy;
57.
High velocity aerosol cleaning with organic solvents: Particle removal and substrate damage
机译:
具有有机溶剂的高速气溶胶清洗:颗粒去除和基材损伤
作者:
Michael T. Andreas
;
Kurt Wostyn
;
Masayuki Wada
;
Tom Janssens
;
Karine Kenis
;
Twan Bearda
;
Paul W. Mertens
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Particle removal;
Damage;
Aerosol cleaning;
Single-wafer cleaning;
EGEE;
NMP;
THFA;
58.
Developing a high volume manufacturing wet clean process to remove BF_2 implant induced molybdenum contamination
机译:
开发高卷制造湿式清洁过程,以除去BF_2植入物诱导的钼污染
作者:
Akshey Sehgal
;
Hsin-Hsiung Huang
;
Jamal Ramdani
;
Jeffrey Klatt
;
Craig Printy
;
Scott Ruby
;
Todd Thibeault
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Mo contamination;
BF_2 implant;
High Volume Manufacturing;
Si-Mo-F-H_2O System;
Pourbaix diagrams;
59.
Pattern Collapse and Particle Removal Forces of Interest to Semiconductor Fabrication Process
机译:
用于半导体制造工艺的感兴趣的模式折叠和颗粒移除力
作者:
Tae-Gon Kim
;
Kurt Wostyn
;
Jin-Goo Park
;
Paul W. Mertens
;
Ahmed A. Busnaina
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Pattern Collapse;
Particle Removal;
Laser Shock Wave Cleaning;
60.
The Effect of PVA Brush Scrubbing on Post CMP Cleaning Process for Damascene Cu Interconnection
机译:
PVA刷擦洗对镶嵌Cu互连后CMP清洁过程的影响
作者:
Hanchul Cho
;
Youngmin Kim
;
Hyunseop Lee
;
Sukbae Joo
;
Haedo Jeong
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Post-Cu CMP cleaning;
PVA brush;
Non-contact mode;
Hydrodynamic drag force;
61.
Modification of photoresist by UV for post-etch wet strip applications
机译:
用UV进行蚀刻后湿带应用的光致抗蚀剂的修改
作者:
Q. T. Le
;
E. Kesters
;
L. Prager
;
M. Claes
;
M. Lux
;
G. Vereecke
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
UV treatment;
Photoresist;
Wet strip;
BEOL;
62.
Borderless via clean study for minimizing Al-Cu loss in 58nm flash devices
机译:
无边界通过清洁研究,以最小化58nm闪存器件中的Al-Cu损失
作者:
Cheng-Kuen Chen
;
Pi-Chun Yu
;
Ming-Hsiu Lee
;
Chih-Ning Wu
;
Matsuo Hiroshi
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Borderless Via;
Al-Cu undercut;
63.
Electrochemical behavior of cobalt in post-via etch cleaning solutions
机译:
通过蚀刻清洁溶液中钴的电化学行为
作者:
S. Bilouk
;
C. Pernel
;
L. Broussous
;
V. Ivanova
;
R. P. Nogueira
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Self aligned barrier;
Cobalt;
Corrosion;
Post-via etch clean;
64.
Stripping of ion implanted photoresist by CO_2 cryogenic pre-treatment followed by wet cleaning
机译:
通过CO_2低温预处理剥离离子注入的光致抗蚀剂,然后进行湿式清洁
作者:
Stephane Malhouitre
;
Rita Vos
;
Souvik Banerjee
;
Paul Cheng
;
Twan Bearda
;
Paul Mertens
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Cryogenic CO_2;
Lon Implanted Photoresist;
FEOL Cleaning;
High Dose Implant Strip;
65.
Cleanliness management in advanced microelectronic
机译:
先进微电子的清洁度管理
作者:
Y. Borde
;
A. Danel
;
A. Roche
;
H. Fontaine
;
C. Brych
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Contamination;
Metals;
Particles;
Acids;
66.
Influence of wet cleaning on tungsten deposited with different techniques
机译:
湿法清洁对不同技术沉积钨的影响
作者:
Votta A.
;
Pipia F.
;
Borsari S.
;
Ravizza E.
;
Elbaz A. C.
;
Alessandri M.
;
Bellandi E.
;
Bresolin C.
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Tungsten;
Tungsten oxide;
Wet cleanings;
67.
Relationship between Atmospheric Humidity and Watermark Formation in IPA Dry of Si wafer after HF clean
机译:
HF清洁后Si晶圆IPA干燥水印之间的大气湿度与水印的关系
作者:
N. Kurumoto
;
A. Eitoku
;
K. Miya
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Humidity;
Watermarks;
Wafer drying;
Oxygen concentration;
68.
Cu surface characterization after wet cleaning processes
机译:
湿清洗过程后Cu表面表征
作者:
Pipia F.
;
Votta A.
;
Elbaz A. C.
;
Grasso S.
;
Ravizza E.
;
Spadoni S.
;
Alessandri M.
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Cu surface;
Cleaning;
Copper oxide;
69.
Surface Potential Difference Imaging Applied to Wet Clean Monitoring
机译:
表面电位差成像应用于湿式清洁监测
作者:
A. Danel
;
S. Sage
;
M. C. Roure
;
D. Peters
;
J. Hawthorne
;
R. Spicer
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
SPDI;
Metallic contamination;
Silicon wafer;
Kelvin probe;
70.
Analyzing the collapse force of narrow lines measured by lateral force AFM using an analytical mechanical model
机译:
用分析机械模型分析横向力AFM测量的窄线的塌陷力
作者:
Kurt Wostyn
;
Tae-Gon Kim
;
Paul W. Mertens
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Lateral force;
Normal stress;
Shear stress;
Elongation;
Damage mechanism;
71.
A Novel Vapor Phase Etching Process for Si
机译:
一种新型蒸汽相蚀刻方法
作者:
Steven Verhaverbeke
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Vapor phase etching;
Si etching;
Ozone;
Solvent;
HF;
72.
Metallic Contamination Control in Leading-edge ULSI Manufacturing
机译:
前沿ULSI制造中的金属污染控制
作者:
Ayako Shimazaki
;
Hiroki Sakurai
;
Masao Iwase
;
Reiko Yoshimura
;
Tsukasa Tada
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Metallic contamination;
Contamination control;
Diffusivity;
73.
POROUS LOW-K WET ETCH IN HF-BASED SOLUTIONS: FOCUS ON CLEANING PROCESS WINDOW, 'PORE-SEALING' AND 'K RECOVERY'
机译:
基于HF的解决方案中的多孔LOW-K湿蚀刻:专注于清洁过程窗口,“孔密封”和“k恢复”
作者:
L. Broussous
;
W. Puyrenier
;
D. Rebiscoul
;
V. Rouessac
;
A. Ayral
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Wet Clean;
BEOL;
Porous low-k;
Diluted Hydrofluoric acid;
Pore sealing;
Plasma damage;
74.
Photoresist Removal Using Alternative Chemistries and Pressures
机译:
使用替代化学和压力去除光致抗蚀剂去除
作者:
Ingu Song
;
Christopher Timmons
;
Galit Levitin
;
Dennis W. Hess
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
Cleaning;
Photoresist removal;
Gas expanded liquids;
Radical anions;
75.
Particle - Wafer Interactions in Semiaqueous Silicon Cleaning Systems
机译:
颗粒 - 半硅清洗系统中的晶片相互作用
作者:
Lukasz Hupka
;
Jakub Nalaskowski
;
Nishant Sinha
;
Joseph N. Greeley
;
Zak Clark
;
Hao Du
;
William P. Johnson
;
Jan D. Miller
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2009年
关键词:
AFM;
Interaction forces;
Silicon cleaning;
Semiaqueous cleaning;
Post-CMP cleaning;
Hydrophobic forces;
Lateral force;
Colloidal probe;
Molecular dynamics simulations;
76.
Scanning probe microscopy imaging before and after atomic layer oxide deposition on a compound semiconductor surface
机译:
在化合物半导体表面上的原子层氧化物沉积前后扫描探针显微镜成像
作者:
W. Melitz
;
J. B. Clemens
;
J. Shen
;
E. A. Chagarov
;
S. Lee
;
J. S. Lee
;
J. E. Royer
;
M. Holland
;
S. Bentley
;
D. McIntyre
;
I. Thayne
;
R. Droopad
;
A. C. Kummel
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2012年
关键词:
Compound semiconductor;
InGaAs;
ALD;
Scanning probe microsocopy;
STS;
STM;
KPFM;
77.
Low-k integration using metallic hard masks
机译:
使用金属硬面罩的低k集成
作者:
O. Joubert
;
N. Posseme
;
T. Chevolleau
;
T. David
;
M. Darnon
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2012年
关键词:
Plasma processing;
Low k integration;
Metal hard masks;
Residue formation;
78.
Exploratory materials and devices to advance CMOS beyond the classical Si roadmap
机译:
探索材料和设备推进CMOS超越古典SI路线图
作者:
Marc Heyns
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2012年
关键词:
CMOS;
High-k;
Germanium;
III/V;
Tunnel FET;
79.
Surface Contamination of Silicon Wafer after Acidic Texturisation
机译:
酸性纹理后硅晶片的表面污染
作者:
Antje Oltersdorf
;
Ana Moldovan
;
Michael Bayer
;
Martin Zimmer
;
Jochen Rentsch
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2012年
关键词:
Acidic texture;
Metals;
Surface contamination;
80.
Characterization of Low-k Dielectric Etch Residue on the Sidewall by Chemical Force Microscope
机译:
化学力显微镜侧壁对低k介电蚀刻残留物的表征
作者:
Tae-Gon Kim
;
Quoc Toan Le
;
Samuel Suhard
;
Marcel Lux
;
Guy Vereecke
;
Martine Claes
;
Herbert Struyf
;
Stefan De Gendt
;
Paul W. Mertens
;
Marc Heyns
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2012年
关键词:
Sidewall metrology;
Low-k;
Post-etch residue cleaning;
Chemical force microscope;
81.
Non-Oxidizing Solvent-based Strip of Ion Implanted Photoresist
机译:
非氧化溶剂基离子注入光致抗蚀剂
作者:
D. Tsvetanova
;
R. Vos
;
K. Vanstreels
;
D. Radisic
;
R. Sonnemans
;
I. Berry
;
C. Waldfried
;
D. Mattson
;
J. DeLuca
;
G. Vereecke
;
P. W. Mertens
;
T. N. Parac-Vogt
;
M. M. Heyns
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2012年
关键词:
UV treatment;
Non-oxidizing ambient;
Organic solvent;
Resist removal;
82.
Study of Controlled Oxygen Diffusion Approaches for Advanced Photoresist Strip
机译:
高级光致抗蚀剂带的受控氧扩散方法的研究
作者:
Shijian Luo
;
Orlando Escorcia
;
David Mattson
;
Carlo Waldfried
;
Dongwan Roh
;
Ivan Berry III
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2012年
关键词:
HDI strip;
Residue removal;
Substrate loss;
Metal oxidation;
Dopant retention;
83.
Ozone based chemical oxide growth for crystalline solar cell production
机译:
基于臭氧的化学氧化物生长,用于结晶太阳能电池生产
作者:
Klaus Wolke
;
Christiane Gottschalk
;
Jochen Rentsch
;
Heike Angermann
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2012年
关键词:
Ozone;
Surface conditioning;
Crystalline solar cells;
Texturing;
Diffusion;
Wet processing;
84.
HF Last Passivation for High Efficiency a-Si/c-Si Heterojunction Solar Cells
机译:
HF高效钝化A-Si / C-Si异质结太阳能电池
作者:
A. Danel
;
F. Souche
;
T. Nolan
;
Y. Le Tiec
;
P. J. Ribeyron
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2012年
关键词:
Surface passivation;
HF last;
Solar cells;
Heterojunction;
85.
Investigation of Wet Clean Induced Dielectric Surface Static Charge and Its Impact on Gate Oxide Integrity
机译:
湿式清洁诱导介电表面静电电荷的研究及其对栅极完整性的影响
作者:
Shun-Wu Lin
;
Vincent S. Chang
;
Matt Yeh
;
Eric Houyang
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2012年
关键词:
Static electricity;
Surface voltage;
Gate oxide integrity;
Single wafer clean;
86.
Environmentally benign in-line cleaning solutions for immersion lithography tools
机译:
用于浸入光刻工具的环境良性良性清洁解决方案
作者:
Tianniu Chen
;
Michael B. Korzenski
;
Steve Bilodeau
;
Peng Zhang
;
Todd Hogan
;
Kim vanBerkel
;
George Mirth
;
Rebecca Mih
;
Kornel Hoekerd
;
Bauke Jansen
;
Rik Vangheluwe
;
Nadja Schuh
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2012年
关键词:
Immersion;
In-line cleaning;
Combinatorial;
Defectivity;
87.
A Hybrid Dry-Wet Approach for Removal of a Dummy Polysilicon Gate in a Replacement Metal Gate Scheme
机译:
一种混合干湿方法,用于在替换金属栅极方案中移除虚拟多晶硅栅极
作者:
Guang-Yaw Hwang
;
J. H. Liao
;
S. F. Tzou
;
Mark Lin
;
Autumn Yeh
;
David Lou
;
Eason Chen
;
Weien Huang
;
Gowri Kamarthy
;
Kaidong Xu
;
Amulya Athayde
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
|
2012年
关键词:
HKMG;
Replacement Gate;
Dummy Poly Removal;
Wet Etch;
Plasma Etch;
88.
Comparisons of various physical cleaning
机译:
各种物理清洁的比较
作者:
Sang Won Bae
;
Dae Hyuk Kang
;
Hyo San Lee
;
Kun Tack Lee
;
Yong Sun Koh
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
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2012年
关键词:
Physical cleaning;
Damage;
Particle;
89.
Elucidation of an isopropyl alcohol (IPA) adsorption phenomenon on a wafer surface for achieving an ultra-clean and IPA-saving drying process in the batch cleaning system
机译:
在晶片表面上阐明异丙醇(IPA)吸附现象,用于在批量清洁系统中实现超清洁和IPA节约干燥过程
作者:
Yoshiya Hagimoto
;
Tomoki Tetsuka
;
Hayato Iwamoto
;
Hironobu Hyakutake
;
Hiroshi Tanaka
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
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2012年
关键词:
IPA;
Dry;
Watermark;
Batch;
Ultra-clean;
IPA-saving;
Environmentally-friendly process;
90.
Control of Sonoluminescence in Carbon Dioxide Containing DI Water at Near Neutral pH Conditions
机译:
在近中性pH条件下含二氧化碳含二氧化碳的声发炎
作者:
Sangita Kumari
;
Manish Keswani
;
Satish Kumar Singh
;
Mark Beck
;
Eric Leibscher
;
Pierre Deymier
;
Srini Raghavan
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
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2012年
关键词:
Megasonic cleaning;
Damage;
Sonoluminescence;
Carbon Dioxide;
91.
Concentration of Three Organic Compounds Influencing Each Other on Silicon Surface
机译:
在硅表面上影响彼此的三种有机化合物的浓度
作者:
Hitoshi Habuka
;
Tatsuhito Naito
;
Norihiro Kawahara
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
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2012年
关键词:
Airborne organic contamination;
Multicomponent system;
Physisorption;
Rate theory;
92.
Production of High Purity Functional Water at Point-of-Use for Advanced Mask Cleaning Processes
机译:
用于高级掩模清洁过程的使用点生产高纯度官能水
作者:
Annie Y. Xi
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
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2012年
关键词:
Membrane contactor;
Gasification;
Functional water;
Sulfur-free mask clean;
Ozone;
93.
Wet Clean Induce Pattern Collapse Mechanism Study
机译:
湿清洁诱导模式折叠机制研究
作者:
C. C. Yang
;
C. C. Ko
;
H. OuYang
;
K. F. Chen
;
Y. Y. Peng
;
J. W. Liou
;
C. C. Chou
;
H. Y. Tsai
;
K. C. Lin
;
S. M. Jeng
;
H. J. Tao
;
M. Cao
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
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2012年
关键词:
Wet clean;
Pattern collapse;
Surface tension;
Aspect ratio;
Ultra low-k;
BEOL;
94.
Study of the etching mechanism of heavily doped Si in HF
机译:
HF掺杂Si的蚀刻机理研究
作者:
Nick Valckx
;
Daniel Cuypers
;
Rita Vos
;
Harold Philipsen
;
Jens Rip
;
Geert Doumen
;
Paul Mertens
;
Marc Heyns
;
Stefan De Gendt
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
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2012年
关键词:
Si Etching;
USJ;
ICP-MS;
95.
High efficiency single wafer cleaning for wafer bonding-based 3D integration applications
机译:
基于晶圆键合的3D集成应用的高效率单晶片清洗
作者:
D. Dussault
;
F. Fournel
;
V. Dragoi
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
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2012年
关键词:
Megasonic;
Wafer Bonding;
3D Integration;
SOI;
Single Wafer Cleaning;
96.
Study on Resist Removal Using Electrolyzed Sulfuric Acid Solution in Comparison with SPM
机译:
使用电解硫酸溶液与SPM相比的抗蚀剂去除研究
作者:
Tatsuo Nagai
;
Haruyoshi Yamakawa
;
Minoru Uchida
;
Toru Ohtsu
;
Norihito Ikemiya
;
Hiroshi Morita
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
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2012年
关键词:
Electrolyzed sulfuric acid;
Resist removal;
SPM;
Ashingless;
97.
Wet-chemical preparation of textured silicon solar cell substrates: Surface conditioning and electronic interface properties
机译:
纹理硅太阳能电池基板的湿化学制剂:表面调理和电子界面特性
作者:
H. Angermann
;
A. Laades
;
U. Stuerzebecher
;
E. Conrad
;
C. Klimm
;
T. F. Schulze
;
K. Jacob
;
A. Lawerenz
;
L. Korte
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
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2012年
关键词:
Si solar cells saw damage;
Texturisation;
Interface passivation;
SPV;
QSSPC;
98.
Effects of Interfacial Strength and Dimension of Structures on Physical Cleaning Window
机译:
结构界面强度和尺寸对物理清洁窗口的影响
作者:
Tae-Gon Kim
;
Antoine Pacco
;
Kurt Wostyn
;
Steven Brems
;
XiuMei Xu
;
Herbert Struyf
;
Kai Arstila
;
B. Vandevelde
;
Jin-Goo Park
;
Stefan De Gendt
;
Paul W. Mertens
;
Marc Heyns
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
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2012年
关键词:
Physical cleaning;
Cleaning process window;
Pattern Collapse;
Particle Removal;
99.
Reliable quantification of inorganic contamination by TXRF
机译:
TXRF可靠地量化无机污染
作者:
M. Mueller
;
A. Nutsch
;
R. Altmann
;
G. Borionetti
;
T. Holz
;
C. Mantler
;
P. Hoenicke
;
M. Kolbe
;
B. Beckhoff
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
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2012年
关键词:
TXRF analysis;
Calibration;
TXRF quantification;
Inorganic surface contamination;
100.
Simple wet-chemical cleanings for high-efficiency silicon solar cell Applications
机译:
用于高效硅太阳能电池应用的简单湿化学清洁
作者:
Lena Breitenstein
;
Florian Sevenig
;
Damian Pysch
;
Christiane Gottschalk
;
Martin Hermle
;
Wilhelm Warta
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces》
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2012年
关键词:
Silicon-solar cells;
Wet-chemical cleaning;
Dissolved ozone;
High-efficiency;
Amorphous silicon;
Hetero-junction solar cells;
Photovoltaic;
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