掌桥科研
一站式科研服务平台
科技查新
收录引用
专题文献检索
外文数据库(机构版)
更多产品
首页
成为会员
我要充值
退出
我的积分:
中文会员
开通
中文文献批量获取
外文会员
开通
外文文献批量获取
我的订单
会员中心
我的包量
我的余额
登录/注册
文献导航
中文期刊
>
中文会议
>
中文学位
>
中国专利
>
外文期刊
>
外文会议
>
外文学位
>
外国专利
>
外文OA文献
>
外文科技报告
>
中文图书
>
外文图书
>
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
美国国防部AD报告
美国能源部DE报告
美国航空航天局NASA报告
美国商务部PB报告
外军国防科技报告
美国国防部
美国参联会主席指示
美国海军
美国空军
美国陆军
美国海军陆战队
美国国防技术信息中心(DTIC)
美军标
美国航空航天局(NASA)
战略与国际研究中心
美国国土安全数字图书馆
美国科学研究出版社
兰德公司
美国政府问责局
香港科技大学图书馆
美国海军研究生院图书馆
OALIB数据库
在线学术档案数据库
数字空间系统
剑桥大学机构知识库
欧洲核子研究中心机构库
美国密西根大学论文库
美国政府出版局(GPO)
加利福尼亚大学数字图书馆
美国国家学术出版社
美国国防大学出版社
美国能源部文献库
美国国防高级研究计划局
美国陆军协会
美国陆军研究实验室
英国空军
美国国家科学基金会
美国战略与国际研究中心-导弹威胁网
美国科学与国际安全研究所
法国国际关系战略研究院
法国国际关系研究所
国际宇航联合会
美国防务日报
国会研究处
美国海运司令部
北约
盟军快速反应部队
北约浅水行动卓越中心
北约盟军地面部队司令部
北约通信信息局
北约稳定政策卓越中心
美国国会研究服务处
美国国防预算办公室
美国陆军技术手册
一般OA
科技期刊论文
科技会议论文
图书
科技报告
科技专著
标准
其它
美国卫生研究院文献
分子生物学
神经科学
药学
外科
临床神经病学
肿瘤学
细胞生物学
遗传学
公共卫生&环境&职业病
应用微生物学
全科医学
免疫学
动物学
精神病学
兽医学
心血管
放射&核医学&医学影像学
儿科
医学进展
微生物学
护理学
生物学
牙科&口腔外科
毒理学
生理学
医院管理
妇产科学
病理学
生化技术
胃肠&肝脏病学
运动科学
心理学
营养学
血液学
泌尿科学&肾病学
生物医学工程
感染病
生物物理学
矫形
外周血管病
药物化学
皮肤病学
康复学
眼科学
行为科学
呼吸学
进化生物学
老年医学
耳鼻喉科学
发育生物学
寄生虫学
病毒学
医学实验室检查技术
生殖生物学
风湿病学
麻醉学
危重病护理
生物材料
移植
医学情报
其他学科
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
主题
主题
题名
作者
关键词
摘要
高级搜索 >
外文期刊
外文会议
外文学位
外国专利
外文图书
外文OA文献
中文期刊
中文会议
中文学位
中国专利
中文图书
外文科技报告
清除
历史搜索
清空历史
首页
>
外文会议
>
电子学、通信
>
Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)
Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)
召开年:
召开地:
出版时间:
-
会议文集:
-
会议论文
热门论文
全部论文
相关中文期刊
无线电通信技术
电信工程技术与标准化
信息技术与标准化
音响技术
福光技术
互联网天地
全球定位系统
音响世界
光电工程
世界专业音响与灯光
更多>>
相关外文期刊
Microwave and Wireless Components Letters, IEEE
Journal of the electronics industry
International Journal of Information Technology,Communications and Convergence
IEEE Transactions on Speech and Audio Proceeding
Rundfunktechnische Mitteilungen
Solid state technology
Aeronautical and Navigational Electronics, Transactions of the IRE Professional Group on
European transactions on telecommunications
IEE proceedings. Part G
International Journal of Mobile Communications
更多>>
相关中文会议
全国电视天气预报制作技术交流会
2011中国高端SMT学术会议
四川省通信学会2004年学术年会
通信中的信号处理与信号处理器学术会议
辽宁省通信学会2003年通信网络与信息技术年会
2006全国电子化学品发展研讨会
第十二届保密通信与信息安全现状研讨会
中国电子学会信息论分会第十三届学术年会
中国通信学会通信管理委员会第28次学术研讨会暨两化融合与物联网发展学术研讨会
四川省通信学会2008年学术年会
更多>>
相关外文会议
Tenth Meeting of the Symposium on Polymers for Microelectronics; 20020508-10;
1999 Advanced Workshop on "Frontiers in Electronics", May 31 - Jun 4, 1999, Grenoble AREA, France
Conference on Image and Signal Processing for Remote Sensing IX; Sep 9-12, 2003; Barcelona, Spain
Microfluidics, bioMEMS, and medical microsystems XI
Infrared Technology and Applications XXXIII pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6542 pt.2
2016 IEEE MTT-S International Conference on Numerical Electromagnetic and Multiphysics Modeling and Optimization
Conference on Chemical and Biological Early Warning Monitoring for Water, Food, and Ground Nov 1-2, 2001, Newton, USA
Spectral Imaging: Instrumentation, Applications, and Analysis
6th ACM workshop on digital identity management 2010
Laser and terahertz science and technology
更多>>
热门会议
Meeting of the internet engineering task force;IETF
日本建築学会;日本建築学会大会
日本建築学会(Architectural Institute of Japan);日本建築学会年度大会
日本建築学会学術講演会;日本建築学会
日本建築学会2010年度大会(北陸)
Korean Society of Noise & Vibration Control;Institute of Noise Control Engineering;International congress and exposition on noise control engineering;ASME Noise Control & Acoustics Division
土木学会;土木学会全国大会年次学術講演会
応用物理学会秋季学術講演会;応用物理学会
総合大会;電子情報通信学会
The 4th International Conference on Wireless Communications, Networking and Mobile Computing(第四届IEEE无线通信、网络技术及移动计算国际会议)论文集
更多>>
最新会议
2011 IEEE Cool Chips XIV
International workshop on Java technologies for real-time and embedded systems
Supercomputing '88. [Vol.1]. Proceedings.
RILEM Proceedings PRO 40; International RILEM Conference on the Use of Recycled Materials in Buildings and Structures vol.1; 20041108-11; Barcelona(ES)
International Workshop on Hybrid Metaheuristics(HM 2007); 20071008-09; Dortmund(DE)
The 57th ARFTG(Automatic RF Techniques Group) Conference, May 25, 2001, Phoenix, AZ
Real Time Systems Symposium, 1989., Proceedings.
Conference on Chemical and Biological Sensing V; 20040412-20040413; Orlando,FL; US
American Filtration and Separations Society conference
Combined structures congress;North American steel construction conference;NASCC
更多>>
全选(
0
)
清除
导出
1.
Characterization and Modeling of the Electrical Behavior and Threshold Voltage of the Nanocrystalline GZO Delta-doped ZnO TFTs
机译:
纳米晶GZO Delta掺杂ZnO TFT的电学行为和阈值电压的表征和建模
作者:
Shih Hua Hsiao
;
Kuang Chung Liu
;
Hung Li Chiang
;
Liang Yu Su
;
Lung Han Peng
;
JianJang Huang
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
2.
Confinement Effect on CdTe
机译:
对CdTe的限制作用
作者:
C. Frausto-Reyes
;
J. R. Molina-Contreras
;
H. Perez Ladron de Guevara
;
C.I. Medel-Ruiz
;
Y.F. Lopez-Alvarez
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
3.
The Technique to Characterize Irreversible Domain Motion in Ferroelectric Thin Films in a Large Time Scale
机译:
大规模表征铁电薄膜中不可逆畴运动的技术
作者:
A.Q. Jiang
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
4.
Two-dimensional Chemical Delineation of Junction Profile with High Spatial Resolution and Application in Failure Analysis in 65nm Technology Node
机译:
高分辨率的结轮廓二维化学刻画及其在65nm工艺节点失效分析中的应用
作者:
Liu Binghai
;
Hua Younan
;
Mo Zhiqiang
;
Ng Adrian
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
5.
Investigation on Particle Generation Mechanism during Dichlorosilane-Based WSi Deposition Process
机译:
二氯硅烷基WSi沉积过程中颗粒生成机理的研究
作者:
M. Oh
;
J. Kim
;
J. Kim
;
J. Yang
;
S. Lee
;
T. Kim
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
6.
3-D Modeling of Wafer Topography's Effect on Chemical Mechanical Polishing Process
机译:
晶圆形貌对化学机械抛光工艺影响的3D建模
作者:
Lixiao Wu
;
Changfeng Yan
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
7.
Effect of Nanodiamond Particles Incorporation in Hydroxyapatite Coatings
机译:
纳米金刚石颗粒掺入羟基磷灰石涂料中的作用
作者:
E. Pecheva
;
L. Pramatarova
;
A. Toth
;
T. Hikov
;
D. Fingarova
;
S. Stavrev
;
E. Iacob
;
L. Vanzetti
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
8.
Atomistic Modeling of Junction Formation: Tools for Physics Understanding and Process Optimization
机译:
结形成的原子建模:物理理解和过程优化的工具
作者:
Lourdes Pelaz
;
Maria Aboy
;
Luis A. Marques
;
Pedro Lopez
;
Ivan Santos
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
9.
Charge Trapping in HfYO_x Gate Dielectrics on strained-Si
机译:
应变硅上HfYO_x栅极电介质中的电荷陷阱
作者:
B. Majhi
;
C. Mahata
;
C. K. Maiti
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
10.
Surface Generation-Recombination Processes of Gate and STI Oxide Interfaces Responsible For Junction Leakage on SOI
机译:
负责SOI结泄漏的栅极和STI氧化物界面的表面生成-复合过程
作者:
Yong Liu
;
Victor Koldyaev
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
11.
Assessing Various Analytical Techniques With Different Lateral Resolution By Investigating Spin-coated Inorganic Contamination On Si Wafer Surfaces
机译:
通过研究硅晶片表面的旋涂无机污染评估具有不同横向分辨率的各种分析技术
作者:
B. Beckhoff
;
A. Nutsch
;
R. Altmann
;
G. Borionetti
;
C. Pello
;
M. L. Polignano
;
D. Codegoni
;
S. Grasso
;
E. Cazzini
;
M. Bersani
;
S. Gennaro
;
M. Kolbe
;
M. Mueller
;
P. Kregsamer
;
F. Posch
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
12.
Characterization of SiGe/Si Quantum Dot Grown by using APRPCVD
机译:
用APRPCVD表征SiGe / Si量子点
作者:
T. S. Kim
;
M. R. Jeong
;
N. J. Mun
;
Y. -H. Kil
;
J. D. Kim
;
T. S. Jeong
;
S. Kang
;
S. H. Kim
;
C.-J. Choi
;
K. H. Shim
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
13.
Probing Patterned Wafer Structures by Means of Grazing Incidence X-ray Fluorescence Analysis
机译:
通过掠入射X射线荧光分析探测图案化晶片结构
作者:
J. Osan
;
F. Reinhardt
;
B. Beckhoff
;
A. E. Pap
;
S. Toeroek
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
14.
Detection of Acidic Substances of H-X Type in Clean Room Air
机译:
洁净室内空气中H-X型酸性物质的检测
作者:
J. Kames
;
A. Leibold
;
A. Nutsch
;
M. Otto
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
15.
Considerable Improvement of Depth Resolution in Auger Sputter Depth Profiling of Polycrystalline Thin Films Using In-situ Sample Preparation Methods
机译:
使用原位样品制备方法显着提高多晶薄膜俄歇溅射深度剖析中的深度分辨率
作者:
U. Scheithauer
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
16.
Semiconductor Thin Film Characterization with ac Surface Photo Voltage
机译:
交流表面光电压下的半导体薄膜表征
作者:
Edward Tsidilkovski
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
17.
Comparison of Silicon Surface Preparation Methods for Measurement of Minority Carrier Lifetime Using the Microwave Photoconductive Decay (μ-PCD) Coupled with Continuous Corona Charge (Charge-PCD)
机译:
微波光导衰减(μ-PCD)与连续电晕电荷(Charge-PCD)耦合用于测量少数载流子寿命的硅表面制备方法的比较
作者:
T. Pavelka
;
A. Pap
;
P. Kenesei
;
M. Varga
;
F. Novinics
;
M. Tallian
;
G. Borionetti
;
G. Guaglio
;
M. Pfeffer
;
E. Don
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
18.
Advanced Application of Resistivity and Hall Effect Measurements to Characterization of Silicon
机译:
电阻率和霍尔效应测量在硅表征中的先进应用
作者:
V.V.Voronkov
;
G.I.Voronkova
;
A.V.Batunina
;
R.Falster
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
19.
Probing the Behaviors of Point Defects in Silicon and Germanium Using Isotope Superlattices
机译:
用同位素超晶格探测硅和锗中的点缺陷行为
作者:
M. Uematsu
;
M. Naganawa
;
Y. Shimizu
;
K. M. Itoh
;
K. Sawano
;
Y. Shiraki
;
E. E. Haller
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
20.
Electrical Characterization of Deep-Lying Donor Layers Created by Proton Implantation and Subsequent Annealing in N-Type Float-Zone and Czochralski Silicon
机译:
N型浮区和Czochralski硅中质子注入和随后退火产生的深层供体层的电学特性
作者:
V. Komarnitskyy
;
P. Hazdra
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
21.
Comparison of Evaluation Criteria for Efficient Gettering of Cu and Ni in Silicon Wafers
机译:
硅晶片中有效去除铜和镍的评价标准比较
作者:
D. Kot
;
G. Kissinger
;
A. Sattler
;
W. von Ammon
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
22.
Copper decoration and etching for delineation of crystal defects in thick SOI
机译:
铜装饰和蚀刻以描绘厚SOI中的晶体缺陷
作者:
H. Idrisi
;
S. Riedmueller
;
J. Zoller
;
B. O. Kolbesen
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
23.
Characterisation of High-k Containing Nanolayers by Reference-Free X-Ray Fluorescence Analysis with Synchrotron Radiation
机译:
同步辐射的无参X射线荧光分析表征高k纳米层
作者:
M. Kolbe
;
B. Beckhoff
;
M. Krumrey
;
M. Reading
;
J. van den Berg
;
T. Conard
;
S. De Gendt
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
24.
Controlling Copper ECD Processes by Early Fault Detection and Diagnosis Using In-situ Electrochemical Sensor Coupled with Pattern Recognition Chemometrics
机译:
使用模式识别化学计量学结合原位电化学传感器,通过早期故障检测和诊断来控制铜的ECD工艺
作者:
Aleksander Jaworski
;
Hanna Wikiel
;
Kazimierz Wikiel
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
25.
Studies on Galvanic Corrosion on Floating and Grounded Bondpads In Wafer Fabrication
机译:
晶圆制造中浮动接地焊盘的电腐蚀研究。
作者:
Hua Younan
;
Lee Yuan Ping
;
Nistala Ramesh Rao
;
Tian Qinghua
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
26.
Drain Leakage Current Evaluation in the Diamond SOI nMOSFET at High Temperatures
机译:
金刚石SOI nMOSFET高温下的漏电流评估
作者:
Marcello Bellodi
;
Salvador Pinillos Gimenez
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
27.
Poly Si TFT on Microsheet
机译:
微片上的多晶硅薄膜晶体管
作者:
Sunghwan Won
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
28.
The characterization of Bottom-gate Thin Film Transistors adapted Nanocrystalline Silicon as Active Layer by Catalytic CVD at Low Temperature
机译:
低温催化CVD法表征纳米晶硅作为有源层的底栅薄膜晶体管的特性
作者:
Youn-Jin Lee
;
Kyoung-Min Lee
;
Jae-Dam Hwang
;
Kil-Sun No
;
Kap Soo Yoon
;
Sung Hoon Yang
;
Sunghwan Won
;
Junghyun Sok
;
Kyoungwan Park
;
Wan-Shick Hong
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
29.
Preparation and characterization of nanocrystals using ellipsometry and X-ray diffraction
机译:
椭圆偏振法和X射线衍射法制备和表征纳米晶体
作者:
P. Petrik
;
S. Milita
;
G. Pucker
;
A. G. Nassiopoulou
;
J. A. van den Berg
;
M. A. Reading
;
M. Fried
;
T. Lohner
;
M. Theodoropoulou
;
S. Gardelis
;
M. Barozzi
;
M. Ghulinyan
;
A. Lui
;
L. Vanzetti
;
A. Picciotto
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
30.
Effect of High-Temperature Annealing on Evaporated Silicon Oxide Films: A Spectroscopic Ellipsometry Study
机译:
高温退火对蒸发氧化硅膜的影响:光谱椭偏研究
作者:
A. Szekeres
;
E. Vlaikova
;
T. Lohner
;
P. Petrik
;
A. Cziraki
;
S. Zlobin
;
P. Shepeliavyi
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
31.
Improved TEM sample preparation by low energy FIB for strain analysis by Convergent Beam Electron Diffraction
机译:
低能FIB改进的TEM样品制备,用于会聚束电子衍射的应变分析
作者:
R.Balboni
;
G. Borionetti
;
L. Moiraghi
;
G.Vaccari
;
M.L. Polignano
;
G. P. Carnevale
;
F. Cazzaniga
;
I. Mica
;
F. Sammiceli
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
32.
A study of the morphology of 3C-SiC layers grown at different C/Si ratios
机译:
不同C / Si比生长3C-SiC层的形貌研究
作者:
G. Attolini
;
B.E. Watts
;
M. Bosi
;
F. Rossi
;
F. Riesz
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
33.
Investigations of the Surface Chemical Composition and Atomic Structure of ex-situ Sulfur Passivated Ge(100)
机译:
异位硫钝化Ge(100)的表面化学组成和原子结构的研究
作者:
C. Fleischmann
;
S. Sioncke
;
K. Schouteden
;
K. Paredis
;
B. Beckhoff
;
M. Mueller
;
M. Kolbe
;
M. Meuris
;
C. Van Haesendonck
;
K. Temst
;
A. Vantomme
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
34.
Revealing copper contamination in silicon after low temperature treatments
机译:
低温处理后揭示硅中的铜污染
作者:
M. L. Polignano
;
J. Brivio
;
D. Codegoni
;
S. Grasso
;
R. Altmann
;
A. Nutsch
;
G. Pavia
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
35.
High Resolution Depth Profile Analysis of Ultra Thin High-k Hf Based Films Using MEIS Compared with XTEM, XRF, SE and XPS
机译:
与XTEM,XRF,SE和XPS相比,使用MEIS对超薄高k Hf基薄膜进行高分辨率深度剖面分析
作者:
J.A. van den Berg
;
M A Reading
;
A Parisini
;
M. Kolbe
;
B. Beckhoff
;
S. Ladas
;
M. Fried
;
P. Petrik
;
P.Bailey
;
T Noakes
;
T Conard
;
S De Gendt
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
36.
Comparison of Electrical Measurements with Structural Analysis of Thin High-k Hf-Based Dielectric Films on Si
机译:
Si上高k Hf基薄介电薄膜的电学测量与结构分析的比较
作者:
E. Hourdakis
;
M. Theodoropoulou
;
A. G. Nassiopoulou
;
A. Parisini
;
M.A. Reading
;
J.A. van den Berg
;
T. Conard
;
S. Degendt
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
37.
Quantitative Estimation of Strained Si/SiGe Hetero Structure Using C-V Characteristics of Strained Si MOS Capacitor
机译:
利用应变Si MOS电容器的C-V特性定量估计应变Si / SiGe杂结构
作者:
Mitsuhiro Inagaki
;
Satoru Matsumoto
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
38.
The Application of Differential Hall Effect Continuous Anodic Oxidation Technique for Ultra Shallow Structures
机译:
差分霍尔效应连续阳极氧化技术在超浅结构中的应用
作者:
S. Prussin
;
J. Reyes
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
39.
A DLTS Study of Pt/Al_2O_3/In_xGa_(1-x)As Capacitors
机译:
Pt / Al_2O_3 / In_xGa_(1-x)作为电容器的DLTS研究
作者:
E. Simoen
;
G. Brammertz
;
J. Penaud
;
C. Merckling
;
H.C. Lin
;
W.-E. Wang
;
M. Meuris
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
40.
Probing the Strain States in Nanopatterned Strained SOI
机译:
探测纳米图案应变SOI中的应变状态
作者:
O. Moutanabbir
;
M. Reiche
;
A. Haehnel
;
W. Erfurth
;
F. Naumann
;
M. Petzold
;
U.Goesele
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
41.
A comparison between self-assembled monolayers on gold and germanium employing grazing incidence X-ray absorption spectrometry GIXRF-NEXAFS
机译:
利用掠入射X射线吸收光谱法GIXRF-NEXAFS对金和锗上自组装单分子层进行比较
作者:
M. Lommel
;
F. Reinhardt
;
P. Hoenicke
;
M. Kolbe
;
M. Mueller
;
B. Beckhoff
;
B.O. Kolbesen
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
42.
Comparability of TXRF Systems at Different Laboratories
机译:
不同实验室的TXRF系统的可比性
作者:
A. Nutsch
;
B. Beckhoff
;
R. Altmann
;
M. L. Polignano
;
E. Cazzini
;
D. Codegoni
;
G. Borionetti
;
M. Kolbe
;
M. Mueller
;
C. Mantler
;
C. Streli
;
P. Kregsamer
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
43.
Si wafer analysis of light elements by TXRF
机译:
用TXRF分析轻质硅晶片
作者:
S. Sasamori
;
F. Meirer
;
N. Zoeger
;
C. Streli
;
P. Kregsamer
;
S. Smolek
;
C. Mantler
;
P. Wobrauschek
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
44.
Detection of Vacancy Distributions by Decoration with Hydrogen
机译:
通过氢气装饰检测空位分布
作者:
R. Job
;
F.-J. Niedernostheide
;
H.-J. Schulze
;
H. Schulze
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
45.
Defect Analysis in Solar Cell Silicon by Photoluminescence Spectroscopy and Topography
机译:
通过光致发光光谱和形貌分析太阳能电池硅中的缺陷
作者:
Michio Tajima
;
Hiroki Sugimoto
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
46.
New Modes of Fast Fourier Impedance Spectroscopy Applied to Solar Materials Characterization and Semiconductor Pore Etching
机译:
快速傅里叶阻抗谱的新模式在太阳能材料表征和半导体孔刻蚀中的应用
作者:
J. Carstensen
;
H. Foell
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
47.
Characterization of structural defects in silicon and SOI wafers by means of laser scattering tomography
机译:
利用激光散射层析成像技术表征硅和SOI晶圆中的结构缺陷
作者:
Vanessa Monier
;
Luciana Capello
;
Oleg Kononchuk
;
Bernard Pichaud
会议名称:
《Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization 6(ALTECH 2009)》
|
2009年
意见反馈
回到顶部
回到首页