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Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs

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1.At-Speed Test of Digital Integrated Circuits

机译：数字集成电路的速度试验
- 作者：Dylan Williams;John Moreland;Joseph Kopanski;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
2.Solders and Solderability Measurements for Microelectronics

机译：微电子的士兵和可焊性测量
- 作者：Frank W. Gayle;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
3.Measurements and Modeling of Electrodeposited Cu for ULSI

机译：Ulsi电沉积Cu的测量和建模
- 作者：T.P. Moffat;D. Josell;G.R. Stafford;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
4.Metrology Supporting EUV Lithography

机译：支持EUV光刻的计量
- 作者：Tom Lucatorto;Ulf Griesmann;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
5.Interconnect Dielectric Characterization Using Transmission-Line Measurement

机译：使用传输线测量互连介电表征
- 作者：Michael Janezic;Dylan Williams;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
6.Development of Quantitative Measurements for Vacuum Process Control

机译：真空过程控制定量测量的开发
- 作者：Robert F. Berg;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
7.Metrology for Simulation and Computer-Aided Design

机译：模拟和计算机辅助设计的计量
- 作者：Allen R. Hefner;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
8.Lithographic Polymers

机译：光刻聚合物
- 作者：Eric K. Lin;Christopher L. Soles;Wen-li Wu;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
9.Porous Thin Films Metrology for Low K Dielectrics

机译：低k电介质的多孔薄膜计量
- 作者：Barry J. Bauer;Wen-li Wu;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
10.Thin Film Metrology Using X-rays

机译：使用X射线的薄膜计量
- 作者：Richard J. Matyi;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
11.Gate Dielectric Metrology

机译：栅极电介质计量
- 作者：James R. Ehrstein;Eric Steel;Deborah Kaiser;John S. Suehle;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
12.Wire Bonding to Cu/Low-k Semiconductor Devices

机译：引线键合到Cu / Low-K半导体器件
- 作者：G. Harman;D. Kelley;C. Johnson;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
13.Phase Identification from sub 200 nm particles by electron backscatter diffraction (EBSD)

机译：通过电子反向散射衍射（EBSD）从亚200nm粒子的相位识别
- 作者：Eric Steel;John Small;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
14.Optical-Based Dimensional Metrology

机译：基于光学维度计量
- 作者：R. Silver;J. Potzick;T. Doiron;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
15.Modeling, Measurements, and Standards for Wafer Surface Inspection

机译：晶圆表面检查的建模，测量和标准
- 作者：Thomas A. Germer;George W. Mulholland;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
16.Thermophysical Property Data for Modeling CVD Processes and for the Calibration of Mass Flow Controllers

机译：用于建模CVD工艺的热物理数据和校准质量流量控制器
- 作者：John Hurly;Michael R. Moldover;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
17.Linewidth and Overlay Standards for Nanometer Metrology

机译：纳米计量的线宽和覆盖标准
- 作者：Michael W. Cresswell;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
18.Temperature Measurements and Standards for Rapid Thermal Processing

机译：快速热处理的温度测量和标准
- 作者：K.G. Kreider;D.P. DeWitt;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
19.High Resolution Microcalorimeter X-ray Spectrometer for Chemical Analysis

机译：高分辨率微量仪X射线光谱仪进行化学分析
- 作者：Sae Woo Nam;Gene Hilton;Kent Irwin;David Wollman;David Rudman;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
20.Models and Data for Chemical Vapor Deposition

机译：化学气相沉积的模型和数据
- 作者：R. W. Davis;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
21.Interconnect Materials and Reliability Metrology

机译：互连材料和可靠性计量
- 作者：David T. Read;Michael Gaitan;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
22.Packaging Reliability

机译：包装可靠性
- 作者：Elizabeth Drexler;Andrew Slifka;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
23.Metrology Supporting Deep Ultraviolet Lithography

机译：支撑深紫外光刻的计量学
- 作者：J. H. Burnett;M. Dowell;R. Gupta;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
24.Plasma Process Metrology

机译：等离子体工艺计量
- 作者：M. Sobolewski;K. Steffens;J. Olthoff;Y. Wang;L. Christophorou;A. Goyette;E. Benck;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
25.Scanning Electron Microscope Metrology

机译：扫描电子显微镜计量
- 作者：A. E. Vladar;M. T. Postek;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
26.Low Concentration Humidity Standards

机译：低浓度湿度标准
- 作者：Joseph T. Hodges;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
27.Wafer and Chuck Flatness Metrology

机译：晶圆和夹头平整度计量
- 作者：Tony L. Schmitz;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
28.Atom-Based Dimensional Metrology

机译：基于原子的维度计量
- 作者：R. Silver;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
29.Scanning Probe Microscope-Based Dimensional Metrology

机译：扫描探针基于显微镜的尺寸计量
- 作者：T.V. Vorburger;J.A. Dagata;R. Dixson;M.T. Postek;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
30.Model-Based Linewidth Metrology

机译：基于模型的线宽计量
- 作者：John Villarrubia;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年
31.Two- and Three-Dimensional Dopant Profiling

机译：两维和三维掺杂剂分析
- 作者：Greg Gillen;David Simons;Joseph Kopanski;Jay Marchiando;NTIS
- 会议名称：《Electronics and electrical engineering laboratory, office of microelectronics programs》 | 2002年