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SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology
SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology
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1.
Primary Structure Control of ArF Resist Polymer by Regulating FeedRate of Monomers and Initiator
机译:
通过调节单体和引发剂的ARF抗蚀剂的初级结构控制
作者:
Tomoya Oshikiri
;
Atsushi Yasuda
;
Keisuke Kato
;
Shin-ichi Maeda
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
ArF photoresist polymer;
primary structure;
defect reduction;
chemical composition distribution;
2.
Development of New Si-contained hardmaskfor Tri-layer process
机译:
开发新的SI封闭式硬掩模,三层过程
作者:
Makoto Nakajima
;
Yuta Kanno
;
Wataru Shibayama
;
Satoshi Takeda
;
Masakazu Kato
;
Takashi Matsumoto
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
Multi-layer resist process;
QCM;
Hard mask;
Resist compatibility;
Pattern transfer;
3.
Visualization of the Develop Process
机译:
显示过程的可视化
作者:
Linda K. Sundberg
;
Gregory M. Wallraff
;
Alexander M. Friz
;
Blake W. Davis
;
Sally A. Swanson
;
Phillip J. Brock
;
Charles T. Rettner
;
William D. Hinsberg
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
Develop loading;
chemical flare;
CDU;
density effects;
fluorescence;
pH indicator;
visualization;
fluorescein;
phenolphthalein;
lithography;
4.
Impact of post-litho LWR smoothing processes on the post-etch patterning result
机译:
Litho LWR平滑过程对蚀刻后的蚀刻标准结果的影响
作者:
Philippe Foubert
;
Alessandro Vaglio Pret
;
Efrain Altamirano Sanchez
;
Roel Gronheid
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
line width roughness (LWR);
line edge roughness (LER);
smoothing techniques;
etch;
5.
Fundamental Study on Reaction Mechanisms in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists by Using 61nm Free-Electron Laser
机译:
采用61nm自由电子激光器化学扩增的极端紫外线反应机制的根本研究
作者:
Kazumasa Okamoto
;
Takahiro Kozawa
;
Takaki Hatsui
;
Yasuharu Tajima
;
Keita Oikawa
;
Mitsuru Nagasono
;
Takashi Kameshima
;
Tadashi Togashi
;
Kensuke Tono
;
Makina Yabashi
;
Hiroaki Kimura
;
Yasunori Senba
;
Haruhiko Ohashi
;
Takashi Sumiyoshi
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
EUV resist;
free-electron laser;
poly(4-hydroxystyrene);
chemically amplified resist;
6.
Photobase Generator Enabled Pitch Division: A Progress Report
机译:
Photobase Generator支持音高划分:进度报告
作者:
Xinyu Gu
;
Younjin Cho
;
Takanori Kawakami
;
Yuji Hagiwara
;
Brandon Rawlings
;
Ryan Mesch
;
Toshiyuki Ogata
;
Taeho Kim
;
Takehiro Seshimo
;
Wade Wang
;
Arun K. Sundaresan
;
Nicholas J. Turro
;
Roel Gronheid
;
James Blackwell
;
Robert Bristol
;
C. Grant Willson
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
pitch division;
photobase generator;
PBG;
polymer bound PAG;
polymer bound PBG;
two-stage PBG;
non-uniform image;
acid diffusion;
base diffusion;
7.
Coefficient of Thermal Expansion (CTE) in EUV Lithography: LER and Adhesion Improvement
机译:
EUV光刻中的热膨胀系数(CTE):LER和粘附性改善
作者:
Craig Higgins
;
Charles Settens
;
Patricia Wolfe
;
Karen Petrillo
;
Robert Auger
;
Richard Matyi
;
Robert Brainard
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
EUV;
underlayer;
coefficient of thermal expansion;
CTE;
thin film resist;
resist density;
8.
Process capability of implementing ArF negative resist into production
机译:
实施ARF负抗性的过程能力
作者:
Meng-Feng Tsai
;
Yang-Liang Li
;
Chan-Tsun Wu
;
Yi-Shiang Chang
;
Chia-Chi Lin
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
ArF Lithography;
Negative Resist;
Contact Hole;
9.
Implementation of KrF DBARCs for implant applications onadvanced lithography nodes
机译:
用于植入物应用程序的KRF DBarc的实现,其开展光刻节点
作者:
Joyce Lowes
;
Alice Guerrero
;
Michael Weigand
;
Carlton Washburn
;
Charlyn Stroud
;
Shalini Sharma
;
David Torres
;
Mark Slezak
;
Gary Dabbagh
;
Cherry Tang
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
DBARCs;
photosensitive;
implant;
KrF;
developer-soluble;
photoresists;
residue;
topography;
10.
Process Optimization of High Aspect Ratio Sub-32 nm HSQ/AR3Bi-layer Resist Pillar
机译:
高纵横比SUB-32 NM HSQ / AR3BI层抗蚀柱的过程优化
作者:
Wei-Su Chen
;
Ming-Jinn Tsai
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
E-beam lithography;
Bi-layer resist;
BLR;
Pillar;
Dry develop process;
Oxygen plasma;
11.
Calculated reactivity analysis of photoacid generators for EUV resist
机译:
EUV抗蚀剂光酸发生器的反应性分析
作者:
M. Endo
;
S. Tagawa
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
EUV;
lithography;
resist;
photoacid generator;
quantum chemical calculation;
12.
A Study of Conductive Material for E-beam Lithography
机译:
电子束光刻导电材料的研究
作者:
Wen-Yun Wang
;
Chen-Yu Liu
;
Tsung-Chih Chien
;
Chun-Ching Huang
;
Shy-Jay Lin
;
Ya-Hui Chang
;
Jack J.H. Chen
;
Ching-Yu Chang
;
Yao-Ching Ku
;
Burn J. Lin
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
e-beam;
lithography;
MEB;
conductive material;
13.
Performance of tri-layer process required for 22nm and beyond
机译:
22nm及以后所需的三层工艺的性能
作者:
Yayi Wei
;
Martin Glodde
;
Hakeem Yusuff
;
Margaret Lawson
;
Sang Yil Chang
;
Kwang Sub Yoon
;
Chung-Hsi Wu
;
Mark Kelling
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
Silicon-containing antireflection coating (SiARC);
Spin-on carbon (SOC) under-layer;
193 nm immersion lithography;
22 nm node;
Etch selectivity;
Rework capability;
14.
Photoinitiated Polymerization of New Hybrid Monomer ContainingVinyl Ether and (Methyl) Acryloyl Groups
机译:
新型杂交单体含有乙烯基醚和(甲基)丙烯酰基的光引出聚合
作者:
Diao Cuimei
;
Zou Yingquan
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
Photoinitiated polymerization;
hybrid monomers;
cationic polymerization;
free radicalpolymerization RTIR kinetics;
15.
Ultra-thin Film EUV Resists beyond 20nm Lithography
机译:
超薄薄膜EUV抵抗超过20nm的光刻
作者:
Hiroki Nakagawa
;
Tomohisa Fujisawa
;
Kentaro Goto
;
Tooru Kimura
;
Toshiyuki Kai
;
Yoshi Hishiro
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
lithography;
EUV;
multi layer;
Si-ARC;
OHM;
16.
Negative Tone Imaging (NTI) at the 22nm Node: Process and Material Development
机译:
22nm节点的负色影像(NTI):过程和材料开发
作者:
Jason Cantone
;
Karen Petrillo
;
Yongan Xu
;
Guillaume Landie
;
Shinichiro Kawakami
;
Shannon Dunn
;
Matt Colburn
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
Negative Tone Imaging;
Negative Tone Development;
22nm;
topcoatless photoresist;
CD uniformity;
defectivity;
17.
Polymer Bound Photobase Generators and Photoacid Generators forPitch Division Lithography
机译:
聚合物结合的光碱基发生器和光拍发电机装饰分型光刻
作者:
Younjin Cho
;
Xinyu Gu
;
Yuji Hagiwara
;
Takanori Kawakami
;
Toshiyuki Ogata
;
Brandon Rawlings
;
Yongjun Li
;
Arun K. Sundaresan
;
Nicholas J. Turro
;
Robert Bristol
;
James M. Blackwell
;
C. Grant Willson
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
pitch division lithography;
line edge roughness;
polymer bound PBG;
polymer bound PAG;
18.
Study on a few a-disulfone compounds as photoacid generators
机译:
研究少数一级磺胺化合物作为光酸发生器
作者:
Dongfang Guo
;
Juan Liu
;
Liyuan Wang
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
photoacid generators;
α-disulfone compounds;
photolysis quantum yield;
chemically amplified;
deep UV;
positive photoresist;
19.
Extending Photo-Patternable Low-K Concept to 193 nm Lithography and E-beam Lithography
机译:
将光学图案的低k概念扩展到193 nm光刻和电子束光刻
作者:
Qinghuang Lin
;
A. Nelson
;
L. Bozano
;
P. Brock
;
S. Cohen
;
B. Davis
;
R. Kwong
;
E. Liniger
;
D. Neumayer
;
J. S. Rathore
;
H. Shobha
;
R. Sooriyakumaran
;
S. Purushothaman
;
R. Miller
;
R. Allen
;
T. Spooner
;
R. Wisnieff
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
photo-patternable low-κ (PPLK) material;
193 nm lithography;
e-beam lithography;
dielectric properties;
lithographic performance;
ultraviolet cure;
low-cost semiconductor manufacturing;
20.
Development of molecular resistsbased on Phenyl4calixarene for EBL
机译:
在苯基上进行分子抗性的显影4钙芳烃
作者:
Masaaki Takasuka
;
Yu Okada
;
Hiromi Hayashi
;
Masatoshi Echigo
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
Calix4resorcinarene;
molecular resist;
negative-tone;
EB;
lithography;
LER;
LWR;
21.
Meso-scale simulation of the line-edge structure based on resist polymer molecules by negative-tone process
机译:
作者:张莹莹,王莹,王莹,王莹,王莹,王莹,王莹,王莹,王莹
作者:
Hiroshi Morita
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
line edge roughness;
dissipative particle dynamics simulation;
OCTA;
dynamics of polymer chain;
negative tone process;
22.
Sensitive Polysulfone Based Chain Scissioning Resists for 193 nmLithography
机译:
基于敏感的聚砜的链脱裂,193种Nmlithography抗蚀剂
作者:
Yong Keng Goh
;
Lan Chen
;
Anneke Dorgelo
;
Xie Peng
;
Neal Lafferty
;
Bruce Smith
;
Paul Zimmerma
;
Warren Montgomery
;
Idriss Blakey
;
Andrew K. Whittaker
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
polysulfones;
absorbing;
chain scission;
depolymerization;
23.
Novel approaches to implement the self-aligned spacer double-patterning process toward 11-nm node and beyond
机译:
对11NM节点及更远的方式实现自对准间隔双图案化过程的新方法
作者:
Hidetami Yaegashi
;
Kenichi Oyama
;
Kazuo Yabe
;
Shohei Yamauchi
;
Arisa Hara
;
Sakurako Natori
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
double patterning;
SADP;
spacer DP;
11nm;
Spacer amp;
Cut;
RDR;
restricted design rule;
24.
Systematic Studies on Reactive Ion Etch-Induced Deformations of Organic Underlayers
机译:
有机底层反应离子蚀刻诱导变形的系统研究
作者:
Martin Glodde
;
Sebastian Engelmann
;
Michael Guillorn
;
Sivananda Kanakasabapathy
;
Erin Mclellan
;
Chiew-Seng Koay
;
Yunpeng Yin
;
Muthmanickam Sankarapandian
;
John C. Arnold
;
Karen Petri11o
;
Markus Brink
;
Hiroyuki Miyazoe
;
E. Anuja de Silva
;
Hakeem Yusuff
;
Kwang Yoon
;
Yayi Wei
;
Chung-hsi J. Wu
;
P. Rao Varanasi
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
trilayer;
spin on carbon;
planarizing layer;
underlayer;
plasma etch;
pattern transfer;
wiggling;
25.
Developer effect on the negative tone development processunder low NILS conditions
机译:
在低NILS条件下对负面显影过程的显影效果
作者:
Young C. Bae
;
Seung-Hyun Lee
;
Rosemary Bell
;
Lori Joesten
;
George G. Barclay
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
negative tone development;
organic solvent developer;
image log-slope;
193 nm immersion lithography;
26.
Developable BARC (DBARC) Technology as a Solution to Today's Implant Lithography Challenges
机译:
可开发的Barc(DBarc)技术作为当今植入式光刻挑战的解决方案
作者:
James Cameron
;
Jin Wuk Sung
;
Sabrina Wong
;
Adam Ware
;
Yoshihiro Yamamoto
;
Hiroaki Kitaguchi
;
Libor Vyklicky
;
Steve Holmes
;
Irene Popova
;
Ranee Kwong
;
Pushkara Rao Varanasi
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
developable BARC;
DBARC;
implant;
reflection control;
ArF;
KrF;
lithography;
27.
Plasma Etching of High-resolution Features in a Fullerene MolecularResist
机译:
富勒烯分子仪中的高分辨率特征等离子体蚀刻
作者:
J. Manyam
;
M. Manickam
;
J.A. Preece
;
R.E. Palmer
;
A.P.G. Robinson
会议名称:
《SPIE Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology》
|
2011年
关键词:
ICP Etching;
Electron Beam Lithography;
Silicon;
Molecular Resist;
Fullerene;
Chemically Amplified Resist;
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