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International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces
International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces
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1.
Dual Gate Oxide for 0.18μm Technologies and Below: Optimization of the Wet Processing Sequence
机译:
双栅极氧化物0.18μm技术及以下:湿法处理序列的优化
作者:
S. Pe
;
C. Pizzetti
;
C. Dezauzier
;
F. Guyader
;
H. Bernard
;
S. Petitdidier
;
D. Levy
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
dual gate oxide;
wet cleaning;
overetch;
2.
Modification of Low-K SiCOH Film Porosity by a HF Solution
机译:
HF溶液改性低k SicoH膜孔隙率
作者:
K. Maex
;
S. Vanhaelemeersch
;
G. Verenckee
;
M. R. Baklanov
;
D. Shamiryan
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
low-k material;
porosity;
3.
Non-Contact Post Cu CMP Cleaning Using Megasonic Energy
机译:
非接触式Cu CMP清洁使用兆座能量
作者:
J. La
;
M. Heyns
;
P. Mertens
;
M. Meuris
;
I. Vos
;
J. Lauerhaas
;
W. Fyen
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
Cu;
post Cu CMP cleaning;
megasonics;
4.
Characterization of Dl Water/O_3 Oxidation of Si (100) and Si (111) Surfaces by OCP Measurements
机译:
OCP测量表征DL水/ O_3 Si(100)和Si(111)表面的氧化
作者:
R. Murphy
;
C. DEmic
;
H.F. Okorn-Schmidt
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
OCR;
roughness;
ozone;
5.
Layer-By-Layer Oxidation of Silicon
机译:
晶体硅层逐层氧化
作者:
K.
;
T. Ohmi
;
H. Nohira
;
K. Takahashi
;
T. Hattori
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
6.
Defects and Contamination in Microelectronic Device Production: State-of-the-Art and Prospects
机译:
微电子设备生产中的缺陷和污染:最先进的和前景
作者:
G. Zoth
;
H. Cerva
;
B.O. Kolbesen
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
dislocation;
transmission electron microscopy TE;
stacking fault;
process optimization;
process chemicals;
physical analysis;
metal precipitates;
metal contamination;
material specifications;
extended crystalline defects;
electrical failures;
DRAMs;
7.
Improved Phosphoric Acid Mixtures for Nitride Strip
机译:
改进氮化物条带的磷酸混合物
作者:
M. Lux
;
Z. Hatcher
;
M. Heyns
;
Paul Mertens
;
H. De Witte
;
T. Conard
;
M. Lux
;
R. Vos
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
nitride etch selectivity;
wafer cleaning;
particle removal;
oxide etch selectivity;
8.
Photo Resist Stripping Using an Alkaline Accelerator Containing Wet-Vapor
机译:
使用含有湿蒸气的碱性促进剂剥离光电剥离
作者:
Tadahiro Ohmi
;
Nobuhiro Miki
;
Takahisa Nitta
;
Senri Ojima
;
Toshikazu Abe
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
alkaline accelerator;
Wet-Vapor;
resist removal;
high dose ion implantation;
9.
A Probe of Chemical Oxide Growth Conditions
机译:
氧化氧化物生长条件的探针
作者:
Carissima Vitus
;
Claire Frey
;
Larry W. Shive
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
photo-thermal reflection spectroscopy;
stress;
silicon dioxide;
10.
Dry Cleaning of Organic Contamination on Silicon Wafers Using Rapid Optical Surface Treatment
机译:
使用快速光学表面处理在硅晶片上干洗有机污染
作者:
N. R
;
F. Tardif
;
A. Roche
;
M. Olivier
;
N. Rochat
;
A. Danel
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
cleaning;
organic;
contamination;
11.
Electronic Properties of Wet-Chemically Prepared Oxide Layers
机译:
湿化学制备的氧化物层的电子性能
作者:
M. Rebien
;
W. Henrion
;
H. Angermann
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
interface state density;
wet chemical oxides;
spectroscopic ellipsometry (SE);
12.
Optimisations of SC-1 Conditions for Sub 0.18μm Technologies in an Industrial Environment
机译:
工业环境中018μm技术SC-1条件的优化
作者:
D. Levy
;
H. Shirakawa
;
F. Landa
;
E. Bellandi
;
H. Bernard
;
S. Petitdidier
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
COPs;
silicon consumption;
SC-1;
13.
Preparation and Characterization of Time Dependent Haze on Silicon Surfaces
机译:
硅表面依赖性雾度的制备与表征
作者:
B.
;
T. Mueller
;
W. Storm
;
B.O. Kolbesen
;
N. Muenter
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
adhesion;
pulsed force mode;
contamination;
14.
Rinsing and Drying Effects on Heterogeneous Substrates
机译:
对异质基材的漂洗和干燥效果
作者:
R. Vo
;
M. Heyns
;
P. Mertens
;
M. Meuris
;
K. Devriendt
;
R. Vos
;
W. Fyen
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
drying;
rinsing;
post-CMP cleaning;
heterogeneous substrate;
15.
Contamination and Cleaning of Oxide Areas Exposed During Copper CMP in Hydroxylamine Based Slurries
机译:
在羟胺基浆中铜CMP暴露的氧化物区域的污染和清洁
作者:
W. H
;
J. Jeon
;
M. Peterson
;
R. Small
;
Z. Chen
;
S. Raghavan
;
W. Huang
;
C. Shang
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
chemical mechanical planarization;
hydroxylamine;
copper (Cu);
contamination;
16.
Post Copper CMP: a Two Steps Cleaning Recipe
机译:
Post Copper CMP:一个两个步骤清洁配方
作者:
J
;
P. Besson
;
F. Tardif
;
D. Levy
;
J.M. Fabbri
;
A. Beverina
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
cleaning;
copper (Cu);
CMP;
17.
Materials Compatibility and Organic Build-Up during Ozone-Based Cleaning of Semiconductor Devices
机译:
基于臭氧的半导体器件清洁过程中的材料兼容性和有机积聚
作者:
S
;
C. Vinckier
;
M.M. Heyns
;
S. De Gendt
;
F. De Smedt
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
carboxylic acids;
semiconductor cleaning;
ozone;
organic;
ion-chromatography;
18.
Investigation of Trace Metals Analyses of Dry Residue on Silicon Wafer Surfaces by TXRF and ICP-MS
机译:
TXRF和ICP-MS对硅晶片表面干残渣的痕量金属分析研究
作者:
M. Ba
;
S. Brennan
;
K. Baur
;
P. Pianetta
;
M. Balazs
;
J. Wang
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
dry residue;
wafer surface;
VPD;
TXRF;
SR-TXRF;
ICP-MS;
19.
SC-1 Clean Improvements for Post STI CMP
机译:
SC-1后STI CMP的清洁改进
作者:
Chad Binkerd
;
Andrew Hoadley
;
Kenneth McAvey
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
CMP cleaning;
STI;
megasonics;
20.
New Insights into Particle Adhesion
机译:
粒子粘附的新见解
作者:
Stephen Beaudoin
;
Anand Gupta
;
Kevin Cooper
;
Sean Eichenlaub
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
21.
A Controlled Deposition of Organic Contamination and the Removal with Ozone Based Cleanings
机译:
有机污染的受控沉积和用基于臭氧的清洁去除
作者:
S. D
;
M.M. Heyns
;
P. Mertens
;
S. Lagrange
;
T. Bauer
;
W. Storm
;
H. Bender
;
T. Conard
;
C. Kenens
;
S. De Gendt
;
M. Claes
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
MIR-FTIR;
ToF-SIMS;
ozone cleaning;
organic contamination;
22.
Pre-Diffusion Cleaning Using Ozone and HF
机译:
使用臭氧和HF的预扩散清洁
作者:
Erika Roehr
;
Stefan De Gendt
;
Martine Claes
;
Sebastien Lagrange
;
Eric J. Bergman
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
clean;
pre-diffusion;
ozone;
23.
Effect of Surface Charge and Fluid Properties on Particle Removal Characteristics of a Surface-Optimized REB Filter
机译:
表面电荷和流体性能对表面优化韦尔雷滤波器颗粒去除特性的影响
作者:
Srini Raghavan
;
Wayne Huang
;
Joseph Zahka
;
Donald C. Grant
;
Wayne P. Kelly
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
filters;
zeta potential;
retention;
24.
Characterization and Production Metrology of Thin Transistor Gate Dielectric Films
机译:
薄晶体管栅极介电膜的表征与生产计量
作者:
Curt Richter
;
Jesse Canterbury
;
Alain Diebold
;
William Chism
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
dispersion models;
gate dielectrics;
ellipsometry;
25.
Controlling Silicon Surface Roughness During Photochemical Cleaning
机译:
在光化学清洁期间控制硅表面粗糙度
作者:
Martin L. Green
;
Thomas Sorsch
;
Brent Schwab
;
Jeffery W. Butterbaugh
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
dry cleaning;
UV/Chlorine;
silicon roughness;
26.
Influence of Boron and Fluorine Incorporation on the Network Structure of Ultrathin SiO_2
机译:
硼和氟掺入对超薄SiO_2网络结构的影响
作者:
Masataka Hirose
;
Kohichi Morino
;
Seiichi Miyazaki
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
impurity pileup;
structural relaxation;
SiO_2/Si interface;
27.
Novel Back Side Processes for Copper and Pre-Lithography Cleans
机译:
铜和预光刻清洁的新型背面工艺
作者:
Patrick Van Doorne
;
Curt Dundas
;
Sebastien Lagrange
;
Brian Aegerter
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
back side clean;
single wafer;
single side clean;
ozone;
copper (Cu);
capsule~(TM);
28.
Reduced Water Consumption for Post Clean Treatment and Metal Ion Contamination on VLSI Structures
机译:
降低水消耗,用于在VLSI结构上进行清洁处理和金属离子污染
作者:
Becky Hon
;
Cherry Wang
;
Zhefei Chen
;
Robert Small
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
29.
Particle Deposition Studies in Acidic Solutions
机译:
酸性溶液中的颗粒沉积研究
作者:
Yolaine Dumesnil
;
D. Martin Knotter
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
electrostatic double layer;
particle removal;
megasonics;
30.
Influence of Cleaning on the Quality of the Bonding Interface in Direct Bonded Silicon Wafers
机译:
清洁对直接粘合硅晶片中粘接界面质量的影响
作者:
D.
;
G. ONeill
;
D.L. Gay
;
W.A. Nevin
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
impurity gettering;
Si-Si interface;
silicon bonding;
31.
Silicon Wafer Cleaning Processes Monitoring by the Surface Charge Profiler Method
机译:
硅晶片清洁工艺通过表面电荷分析方法监测
作者:
P. B
;
F. Tardif
;
T. Lardin
;
P. Besson
;
A. Danel
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
cleaning;
monitoring;
contamination;
32.
Behaviors of Metallic Contaminants in Si Wafer Processing
机译:
Si晶片加工中金属污染物的行为
作者:
Bob Ogle
;
Cynthia Gonsalves
;
Marcia Almanza-Workman
;
Srini Raghavan
;
Stefan De Gandt
;
Joong S. Jeon
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
Co;
Ti;
oxide;
Ni;
metal;
lifetime;
Fe;
contamination;
33.
New Method to Generate the High Concentration Ozonated Water by Using the Ultrapure Water of the Semiconductor Factory
机译:
使用半导体厂的超纯水产生高浓度臭氧水的新方法
作者:
Masaki Kuzumoto
;
Seiji Noda
;
Izumi Oya
;
Makoto Miyamoto
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
electrification;
resistivity;
ozonated water;
hollow fiber module;
34.
The Origins of Fluorine in Dry Ultrathin Silicon Oxides
机译:
氟在干燥超薄硅氧化物中的起源
作者:
E
;
M. Heyns
;
H. De Witte
;
T. Conard
;
R.J. Carter
;
E. Roehr
;
G. Vereecke
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
fluorine contamination;
ultrathin silicon oxides;
subsurface fluorine;
35.
Effect of Copper on the Breakthrough Voltage of Poly-Si - Poly-Si Capacitors
机译:
铜对多Si - Poly-Si电容器突破电压的影响
作者:
J. Hauber
;
G. Zielonka
;
J. Zahka
;
H. Zhang
;
D. Aquino
;
P. Brauchle
;
K. Winz
;
M. Rygula
;
V. Erdmann
;
J.E. Pillion
;
M. Boehringer
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
copper (Cu);
polysilicon;
hydrofluoric acid;
36.
Chemical Processing and Materials Compatibility of High-K Dielectric Materials for Advanced Gate Stacks
机译:
高k介电材料用于高级闸门堆叠的化学加工和材料兼容性
作者:
G.W
;
H.R. Huff
;
M. Jackson
;
G. Bersuker
;
G.W. Gale
;
J.J. Guan
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
chemical processing;
MOSFET;
high k dielectrics;
gate stack;
37.
An Exploration on the Bridge Formation Mechanism of Cylindrical Storage Poly-Silicon by Water Marks in High Performance 4Gigabit DRAM Capacitor
机译:
高性能4Gigabit DRAM电容中水标记圆柱储存多晶硅桥梁形成机理的探索
作者:
W
;
Jootae Moon
;
Sangrock Hah
;
Yongpil Han
;
Hoyoung Kim
;
Hyungho Ko
;
Woogwan Shim
;
Kuntack Lee
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
capacitor;
water marks;
DRAMs;
38.
Use of Surfactants for Improved Particle Performance of dHF-Based Cleaning Recipes
机译:
使用表面活性剂以改善基于DHF的清洁配方的颗粒性能
作者:
K. Xu
;
M. Heyns
;
Z. Hatcher
;
P. Mertens
;
Z. Chen
;
R. Singh
;
W. Fyen
;
M. Lux
;
K. Xu
;
R. Vos
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
hydrophobic interactions;
surface charge;
particle removal efficiency;
39.
Structural and Electrical Characterization of Ultra-Thin SiO_2 Films Prepared by Catalytic Oxidation Method
机译:
催化氧化方法制备的超薄SiO_2膜的结构和电学特性
作者:
M
;
Hideki Matsumura
;
Manabu Kudo
;
Akira Izumi
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
low temperature;
ultra thin SiO_2;
oxidation;
40.
Metal Wet Cleaning with No Corrosion: A Novel Approach
机译:
金属湿清洗没有腐蚀:一种新颖的方法
作者:
Tadahiro Ohmi
;
Geun-Min Choi
;
Francesco Pipia
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
etch rate;
wet cleaning;
particle removal;
metal;
41.
The Evolution of Chemical Oxides Into Ultrathin Oxides: A Spectroscopic Characterization
机译:
化学氧化物进化到超薄氧化物:光谱性表征
作者:
R.L. O
;
M. L. Green
;
T. Sorsch
;
R. Masaitis
;
T. Boone
;
Y.J. Chabal
;
B.J. Sapjeta
;
J.M. Rosamilia
;
R.L. Opila
;
J. Eng
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
spectroscopy;
wet chemical oxides;
ultrathin silicon oxides;
42.
Effect of Chemical Oxides Formed During Pre-Gate Oxide Cleaning on the Properties of Sub 20 Thick Ultra -Thin Stack Gate Dielectrics
机译:
在栅极氧化物清洁前形成的化学氧化物对亚20厚超堆栅极电介质特性的影响
作者:
Bob Ogle
;
Joong S. Jeon
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
chemical oxide;
stack gate dielectrics;
RTCVD;
leakage current;
CV;
cleaning;
43.
Iron Bulk Concentration Effect on the Yield Reliability of Thin Oxides
机译:
铁批量浓度对薄氧化物的产量和可靠性影响
作者:
Hwee Ling Yeo
;
Chee Kong Leong
;
Kah Keen Lai
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
l_(dd) (off-state standby current;
j factor (current density in a/cm~2), q_(bd) (charge to breakdown);
44.
The Ozone Solubility and its Decay in Aqueous Solutions: Crucial Issues in Ozonated Chemistries for Semiconductor Cleaning
机译:
臭氧溶解度及其腐蚀水溶液:半导体清洗臭氧化学中的关键问题
作者:
S
;
C. Vinckier
;
M.M. Heyns
;
S. De Gendt
;
F. De Smedt
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
decomposition;
solubility;
semiconductor cleaning;
ozone;
kinetics;
45.
Megasonic Silicon Wafer Cleaning and Its Influence on LSI Devices
机译:
巨型硅晶圆清洗及其对LSI器件的影响
作者:
Takashi Nakano
;
Hideo Kinoshita
;
Akihiro Ohnishi
;
Akihiro Tomozawa
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
megasonics;
single wafer cleaning;
schlieren method;
46.
The Effect of Ion Implantation on the Metal Contamination of Silicon Surfaces in Aqueous Solution
机译:
离子植入对水溶液中硅表面金属污染的影响
作者:
Marc Heyns
;
Paul Mertens
;
Lee M. Loewenstein
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
47.
New Aqueous Clean for Aluminum Interconnects: Part I. Fundamentals
机译:
铝合金互连的新型清洁:第一部分。基础知识
作者:
R.
;
B.N. Rhoads
;
D.D. Miura
;
K.J. McCullough
;
G. Stojakovic
;
E.W. Kiewra
;
R.G. Filippi
;
D.J. Delehanty
;
R. Ravikumar
;
D.L. Rath
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
aqueous acid;
post Al RIE clean;
passivation;
galvanic corrosion;
DRAMs;
48.
Single Chemistry Cleaning Solution for Advanced Wafer Cleaning
机译:
用于高级晶圆清洁的单一化学清洁解决方案
作者:
O. Dol
;
M. Heyns
;
P. Mertens
;
Z. Hatcher
;
E. Schellkes
;
S. Degendt
;
B. Onsia
;
K. Kenis
;
M. Lux
;
B.O. Kolbesen
;
A. Fester
;
O. Doll
;
R. Vos
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
ARM;
SC1;
metal contamination;
complexing agents;
49.
Surface Characterization after Different Wet Chemical Cleans
机译:
不同湿化学品清洁后的表面特征
作者:
E. R
;
M.M. Heyns
;
P. Mertens
;
T. Bauer
;
W. Storm
;
S. De Gendt
;
F. De Smedt
;
T. Conard
;
E. Roehr
;
M. Claes
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
ozone cleaning;
XPS;
ToF-SIMS;
surface characterization;
50.
Wet Preparation of Defect-Free Hydrogen-Terminated Silicon Wafer Surface and Its Characterization in Atomic-Scale
机译:
无缺陷氢封端硅晶片表面的湿法制备及其在原子尺度中的表征
作者:
Hiroyuki Sakaue
;
Shoso Shingubara
;
Takayuki Takahagi
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
51.
Wet Cleaning of Trenches and Vias after Oxide/Nitride Dry Etch with Cu Exposed
机译:
氧化物/氮化物干燥蚀刻后的沟槽和通孔的湿法清洁用Cu暴露
作者:
Lewis Liu
;
Jason Chi-Hao Shao
;
Steven Verhaverbeke
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
Cu clean;
via cleaning;
post dry etch cleaning;
52.
A Hydrogenated Water Application to Semiconductor Manufacturing
机译:
半导体制造的氢化水应用
作者:
Tadahiro Ohmi
;
Yoshio Yamazaki
;
Geun-Min Choi
;
Ikunori Yokoi
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
copper (Cu);
oxidation-reduction potential (ORP);
oxidation;
hydrogenated ultrapure water (H_2-UPW);
53.
Determination of Photoresist Degradation Products in O_3/DI Processing
机译:
O_3 / DI加工中光致抗蚀剂降解产物的测定
作者:
C. Vinckier
;
M.M. Heyns
;
S. De Gendt
;
M. Claes
;
B. Van Herp
;
F. De Smedt
;
H. Vankerckhoven
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
carboxylic acids;
semiconductor cleaning;
photoresist;
ozone;
ion chromatography;
54.
Gap States at the Interface of Ultra-Thin Oxide and Organic Films on Si(100)
机译:
在Si(100)上的超薄氧化物和有机膜的界面处的间隙状态
作者:
T.
;
F. Koch
;
T. Dittrich
;
N.V. Richardson
;
T. Rada
;
T. Bitzer
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
dap states;
ultra-thin oxide;
organic film/silicon interface;
55.
Low Consumption Front End of the Line Cleaning: LC-FEOL
机译:
低消耗前端线路清洁:LC-FEOL
作者:
C.
;
A. Beverina
;
F. Tardif
;
J.M. Fabbri
;
C. Cowache
;
P. Besson
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
cleaning;
silicon consumption;
megasonics;
56.
Megasonic, Non-Contact Cleaning Followed by 'Rotagoni' Drying of CMP Wafers
机译:
巨型,非接触式清洁,然后是“Rotaghi”的CMP晶片干燥
作者:
Marc Heyns
;
Wim Fyen
;
Karine Kenis
;
Tom Nicolosi
;
Paul W. Mertens
;
Jeff Lauerhaas
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
cleaning;
rotagoni;
megasonics;
drying;
57.
Barium, Strontium and Bismuth Contamination in CMOS Processes
机译:
CMOS工艺中的钡,锶和铋污染
作者:
H. Ryssel
;
L. Frey
;
A. Bauer
;
B.O. Kolbesen
;
G. Kilian
;
J. Steiner
;
W. Pamler
;
C. Dehm
;
J. Hoepfner
;
T. Mikolajick
;
H. Boubekeur
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
FeRAMs;
metal contamination;
high-K DRAMs;
58.
Synchronous Schlieren Image Analysis of Megasonic Single Wafer Cleaning
机译:
同步Schlieren Megasonic单晶圆清洗的图像分析
作者:
Shin-ichiro Umemura
;
Hideo Kinoshita
;
Akihiro Tomozawa
;
Takashi Azuma
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
lamb wave;
schlieren method;
megasonics;
59.
Particle Removal Efficiency Evaluation at 40 nm Using Haze Particle Standard
机译:
40nm使用雾度粒子标准在40nm下去除效率评估
作者:
Gregory Thomes
;
Natraj Narayanswami
;
James Sun
;
Benjamin Y.H. Liu
;
Seong Ho Yoo
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
haze;
wafer scanner;
wafer cleaning;
60.
Electrochemical Study for the Characterization of Wet Silicon Oxide Surfaces
机译:
湿氧化硅表面表征的电化学研究
作者:
R
;
D. Levy
;
S. Petitdidier
;
M. Chemla
;
F. Rouelle
;
R. Erre
;
V. Bertagna
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
impedance;
silicon;
oxide;
61.
New Aqueous Clean for Aluminum Interconnects: Part II. Applications
机译:
铝合金互连的新型清洁:第二部分。应用程序
作者:
B.N. Rhoads
;
F. Schnabel
;
J. Gambino
;
D.D. Miura
;
K.J. McCullough
;
G. Stojakovic
;
E.W. Kiewra
;
R.G. Filippi
;
D.J. Delehanty
;
D.L. Rath
;
R. Ravikumar
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
post Al RIE clean;
via clean;
reliability;
62.
New Single Wafer Double Sided Spin Cleaning Method
机译:
新的单晶圆双面自旋清洁方法
作者:
Hans-Juergen Kruwinus
;
Joerg Leberzammer
;
Alfred Lechner
;
Stefan Detterbeck
;
Reinhard Sellmer
;
Walter Starflinger
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
DHF/DI-O_3;
wafer cleaning;
spin process;
63.
Wettability Modification of Polysilicon for Stiction Reduction in Silicon Based Micro-electromechanical Structures
机译:
多晶硅对硅基微机电结构钝化减少的润湿性改性
作者:
Ray Roop
;
David J. Monk
;
Pierre Deymier
;
Srini Raghavan
;
Angeles Marcia Almanza-Workman
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
polysilicon;
water dispersible silanes;
stiction;
self-assembled monolayers;
64.
Particle Removal Mechanism of Hydrogenated Ultrapure Water with Megasonic Irradiation
机译:
甲型辐射辐射氢化超纯水的颗粒去除机理
作者:
Tadahiro Ohmi
;
Kazumi Tsukamoto
;
Osamu Ota
;
Jun-ichi Ida
;
Hiroshi Morita
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
hydrogenated ultrapure water;
surplus radical model;
particle removal mechanism;
65.
Application of Megasonic Single Wafer Cleaning Technology to LSI Mass Production Line
机译:
兆元晶圆清洗技术在LSI大规模生产线中的应用
作者:
Akihiro Tomozawa
;
Tatsumi Shirasu
;
Yoshiaki Ishii
;
Hiroshi Itou
;
Yutaka Shimada
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
66.
A Novel Rinsing Tank Concept to Save Dl Water Using an Internal Recirculation Flow: 'Circle Stream Rinser'
机译:
一种新型漂洗坦克概念,用于使用内部再循环流量保存DL水:'圆圈垃圾箱'
作者:
F.
;
A. Di Martino
;
V. Oravec
;
T. Vareine
;
F. de Bourmont
;
F. Tardif
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
cost reduction;
simulation;
rinsing;
environment;
67.
Control of Ozonated Water Cleaning Process for Photoresist Removal
机译:
对光致抗蚀剂去除的臭氧化水清洗方法的控制
作者:
Christopher E.D. Chidsey
;
Sang Woo Lim
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
ozone decomposition;
rrocess optimization;
photoresist removal;
68.
From Piranha to Barracuda: Mechanism of Ozone and Water Vapor Photoresist Strip in a Wet Bench
机译:
从Piranha到Barracuda:湿凳中臭氧和水蒸气光致抗蚀剂带的机制
作者:
K.
;
B. Onsia
;
S. De Gendt
;
K. Wolke
;
T. Riedel
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
organic removal;
vapor;
stripping;
ozone;
69.
Pattern Dependent Corrosion Effects in HF Based Post Cu CMP Cleanings
机译:
基于HF的CU CMP清除术中的模式依赖性腐蚀效应
作者:
I. Te
;
M. Heyns
;
P. Mertens
;
A. Steegen
;
S.H. Brongersma
;
S. Lagrange
;
I. Teerlinck
;
W. Fyen
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
corrosion;
post Cu CMP cleaning;
hf;
70.
The Effect of Dl Water and Intermediate Rinse Solutions on Post Metal Etch Residue Removal Using Semi-Aqueous Cleaning Chemistries
机译:
DL水和中间冲洗溶液对使用半含水清洗化学后金属蚀刻残留物去除的影响
作者:
Robert Small
;
Simon J. Kirk
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
corrosion;
semi-aqueous cleaning;
Dl water rinsing;
71.
Silicon Surface Cleaning after Spacer Dry Etching
机译:
垫片干蚀刻后硅表面清洁
作者:
Serge Vanhaelemeersch
;
Mikhail Baklanov
;
Denis Shamiryan
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
ellipsometry;
spacer etching;
post dry etch cleaning;
72.
Detection and Identification of Organic Contamination on Silicon Substrates
机译:
硅基衬底上有机污染的检测与鉴定
作者:
S. M
;
F. Tardif
;
M. Juhel
;
M. Olivier
;
A. Danel
;
N. Rochat
;
J.F. Pie
;
S. Marthon
;
A. Roche
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
characterisation;
organic;
73.
The Role of Oxidant in HF-Based Solution for Noble Metal Removal from Substrate
机译:
氧化剂在基于HF的基础溶液中的作用
作者:
Tadahiro Ohmi
;
Ikunori Yokoi
;
Geun-Min Choi
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
FOM (HF/O_3);
removal efficiency;
metallic impurity;
FPM (HF/H_2O_2);
74.
Post SiN Etching Cleaning During Copper and Low K Integration
机译:
在铜和低k集成期间柱蚀刻清洁
作者:
D
;
W.M. Lee
;
S. Lee
;
D. Maloney
;
D. Holmes
;
C. Peyne
;
P. Besson
;
E. Lajoinie
;
C. Arvet
;
D. Louis
;
A. Beverina
会议名称:
《International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces》
|
2001年
关键词:
cleaning;
low k;
copper (Cu);
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