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Annual semiconductor pure water and chemicals conference
Annual semiconductor pure water and chemicals conference
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1.
Advances in Resistivity Instrumentation for UPW Systems of the Future
机译:
未来UPW系统电阻率仪器的进展
作者:
Anthony C. Bevilacqua
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
2.
Development of Ozonated Ultrapure Water Supplying System Using Direct-Dissolving Method
机译:
使用直接溶解法开发臭氧纯供水系统
作者:
Tet
;
Hiroshi Morita
;
Kazumi Tsukamoto
;
Jun-ichi Ida
;
Tetsuo Mizuniwa
;
Osamu Ota
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
3.
The Impact of Different Resins on Final DI Water Quality For Advanced Semiconductor Processing
机译:
不同树脂对先进半导体加工的最终DI水质的影响
作者:
K.
;
Kenneth Somerville
;
K. Somerville
;
E. Johnson
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
4.
Silica Levels in RO Concentrate to 1000 ppm and Beyond
机译:
RO的二氧化硅水平浓缩至1000ppm及更远
作者:
Mike Ferrigno
;
Mike Ferrigno
;
Allen Boyce
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
5.
Laboratory-Scale Production of Water Suitable for Trace Metal Analysis
机译:
实验室规模的水,适用于痕量金属分析
作者:
Byron Stewart
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
6.
Photoresist Stripping Technology Utilizing Water Vapor
机译:
利用水蒸气的光致抗蚀剂剥离技术
作者:
T
;
Tadahiro Ohmi
;
Toshikazu Abe
;
Nobuhiro Miki
;
Takahisa Nitta
;
Senri Ojima
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
7.
High Resolution ICP-MS for the Direct Determination Of Ultratrace Elements in Semiconductor-Related Chemicals
机译:
高分辨率ICP-MS,用于直接测定半导体相关化学品中的超速度元素
作者:
Petra Krystek
;
Julian Wills
;
Meike Hamester
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
8.
Evaluation of a New Ozone-Water Process for Backend Post-Metal Etch or Post-Oxide Etch Resist or Residue Removal
机译:
对金属后金属蚀刻或后氧化物蚀刻抗蚀剂或残留物去除的新臭氧水处理评价
作者:
R
;
J. Theodore Cremer
;
David G. Boyers
;
Irene Leal
;
Rahim Kavari
;
Russ Parker
;
Shawming Ma
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
9.
Method for Improved Post HF Processing Using Ultra-Dilute RCA Chemistries and Megasonics
机译:
使用超稀释RCA化学品和甲型改进后HF处理的方法
作者:
M
;
S. Rafie
;
F. Soriano
;
T. Patel
;
V. George
;
M. Olesen
;
T. Nicolosi
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
10.
Using Process Simulation to Predict Wastewater Treatment Outcomes
机译:
使用流程模拟预测废水处理结果
作者:
Anthony J. Gerbino
;
Dustin K. James
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
11.
Optimization of Filter Properties For Recirculating Etch Baths
机译:
过滤器性能优化蚀刻灰浴
作者:
Joseph Zahka
;
Donald C. Grant
;
Wayne P. Kelly
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
12.
Impact of Moisture on Wafer Storage and Transport
机译:
水分对晶圆储存和运输的影响
作者:
Sheng-Bai Zhu
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
13.
A Hydrogen-Dissolved Water Application In Wet Cleaning Technology
机译:
湿式清洗技术中的氢溶解水应用
作者:
Tadahiro Ohmi
;
Toshihiro Ii
;
Ikunori Yokoi
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
14.
The Performance Comparison of Ultrapure Water TOC Analyzers using an Automated Standard Addition Apparatus
机译:
超纯水TOC分析仪使用自动标准添加装置的性能比较
作者:
Richard Godec
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
15.
Advances in the Use of UPW in Wafer Cleaning
机译:
在晶圆清洁中使用UPW的进展
作者:
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
16.
Advanced Wet Cleaning Technology For Next Generation FPD Manufacturing
机译:
下一代FPD制造的先进湿式清洁技术
作者:
Takashi Imaoka
;
Norihisa Takahashi
;
Yasuhiko Kasama
;
Nobuaki Haga
;
Tadahiro Ohmi
;
Ken-ichi Mitsumori
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
17.
Post Clean Treatment for Reduced Water Consumption and Metal Corrosion on VLSI Structures
机译:
清洁处理降低水消耗和金属腐蚀对VLSI结构
作者:
Becky Hon (a)
;
Cherry Wang
;
Zhefei Chen
;
Robert Small
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
18.
Advances in Microextraction for Ion Chromatographic Measurements Of Surface Ionic Contamination on Microcircuit Devices
机译:
微型电路装置表面离子污染离子色谱测量的微萃取研究进展
作者:
Beverly Newton
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
19.
Ultrapure Water, Chemicals and Cleanroom Air Particle Measuring Systems Integrating Data into Standard Facilities Management and Control Systems for Viewing, Trending and Control
机译:
将数据集成到标准设施管理和控制系统中的超纯水,化学品和洁净室空气粒子测量系统,以查看,趋势和控制
作者:
Allen R. Boyce
;
Matthew J. Brinkman
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
20.
Measuring Ultra Low Levels of Metals in Ultra Pure Water and Guidelines 2000
机译:
超纯水和2000指南中测量超低水平的金属
作者:
Hong K. Ly
;
Fuhe Li
;
Marjorie K. Balazs
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
21.
Conductometric TOC Detection Instrument Accuracy in Semiconductor Ultrapure Water
机译:
半导体超纯水中的导电TOC检测仪精度
作者:
Jay Rasmussen
;
John Stillian
;
Patrick Gallegos
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
22.
Analytical Techniques for Trace Elemental Analyses On Wafer Surfaces for Monitoring and Controlling Contamination
机译:
晶圆表面痕量元素分析的分析技术,用于监测和控制污染
作者:
M. K.
;
S. Brennan
;
K. Baur
;
P. Pianetta
;
M. K. Balazs
;
J. Wang
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
23.
'Boron Removal from Ultrapure Water By Boron Selective Ion Exchange'
机译:
“通过硼选择性离子交换从超纯水中除去硼”
作者:
Scott Walsh
;
Marcel Montalvo
;
Dan Wilcox
;
Peter Meyers
会议名称:
《Annual semiconductor pure water and chemicals conference》
|
2000年
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