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Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US
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1.
Utilizing Near Edge X-ray Absorption Fine Structure to Probe Interfacial Issues in Photolithography
机译:
利用近边缘X射线吸收精细结构探测光刻中的界面问题
作者:
Joseph L. Lenhart
;
Daniel A. Fischer
;
Sharadha Sambasivan
;
Eric K. Lin
;
Christopher L. Soles
;
Ronald L. Jones
;
Wen-li Wu
;
Dario L. Goldfarb
;
Marie Angelopoulos
会议名称:
《》
|
2002年
2.
Layer-by-Layer Assembly of Molecular Materials for Electrooptical Applications
机译:
用于电光应用的分子材料的逐层组装
作者:
M. E. van der Boom
;
T. J. Marks
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
3.
Design of Nanoporous Polyarylene Polymers for Use as Low-k Dielectrics in Microelectronic Devices
机译:
微电子器件中用作低k电介质的纳米多孔聚亚芳基聚合物的设计
作者:
H. Craig Silvis
;
Kevin J. Bouck
;
James P. Godschalx
;
Q. Jason Niu
;
Michael J. Radler
;
Ted M. Stokich
;
John W. Lyons
;
Brandon J. Kern
;
Joan G. Marshall
;
Karin Syverud
;
Mary Leff
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
4.
Benzocyclobutene-Based Polymers for Microelectronic Applications
机译:
微电子应用中基于苯并环丁烯的聚合物
作者:
Ying-Hung So
;
Phil E. Garrou
;
Jang-Hi Im
;
Karou Ohba
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
5.
Molecular Brushes as Templating Agents for Nanoporous SiLK* Dielectric Films
机译:
分子刷作为纳米多孔SiLK *介电膜的模板剂
作者:
Q. Jason Niu
;
Steven J. Martin
;
James P. Godschalx
;
Paul H. Townsend
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
6.
Nanoporous, Low-Dielectric Constant Organosilicate Materials Derived from Inorganic Polymer Blends
机译:
源自无机聚合物共混物的纳米多孔,低介电常数有机硅酸盐材料
作者:
R. D. Miller
;
W. Volksen
;
V. Y. Lee
;
E. Connor
;
T. Magbitang
;
R. Zafran
;
L. Sundberg
;
C. J. Hawker
;
J. L. Hedrick
;
E. Huang
;
M. Toney
;
Q. R. Huang
;
C. W. Frank
;
H. C. Kim
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
7.
Micro- and Nanoporous Materials Developed Using Supercritical CO_2
机译:
超临界CO_2开发的微孔和纳米孔材料
作者:
Sara N. Paisner
;
Joseph M. DeSimone
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
8.
Oxidative Solid-State Cross-Linking of Polymer Precursors to Pattern Intrinsically Conducting Polymers
机译:
聚合物前体的氧化固态交联以图案化本征导电聚合物
作者:
Sung-Yeon Jang
;
Manuel Marquez
;
Gregory A. Sotzing
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
9.
Recent Progress in Materials for Organic Electronics
机译:
有机电子材料的最新进展
作者:
Zhenan Bao
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
10.
Formation of Nanocomposites by In Situ Intercalative Polymerization of 2-Ethynylpyrdine in Layered Aluminosilicates: A Solid-State NMR Study
机译:
通过2-乙炔基吡啶在层状硅铝酸盐中的原位插入聚合形成纳米复合材料:固态NMR研究。
作者:
A. L. Cholli
;
S. K. Sahoo
;
D. W. Kim
;
J. Kumar
;
A. Blumstein
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
11.
Evaluation of Infrared Spectroscopic Techniques to Assess Molecular Interactions
机译:
评估分子相互作用的红外光谱技术的评估
作者:
Robert K. Oldak
;
Raymond A. Pearson
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
12.
Photolabile Ultrathin Polymer Films for Spatially Defined Attachment of Nano Elements
机译:
用于空间定义的纳米元素附着的光不稳定超薄聚合物薄膜
作者:
B. Voit
;
F. Braun
;
Ch. Loppacher
;
S. Trogisch
;
L. M. Eng
;
R. Seidel
;
A. Gorbunoff
;
W. Pompe
;
M. Mertig
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
13.
Porous Low-k Dielectrics: Material Properties
机译:
多孔低k电介质:材料特性
作者:
C. Tyberg
;
E. Huang
;
J. Hedrick
;
E. Simonyi
;
S. Gates
;
S. Cohen
;
K. Malone
;
H. Wickland
;
M. Sankarapandian
;
M. Toney
;
H.-C. Kim
;
R. Miller
;
W. Volksen
;
P. Rice
;
L. Lurio
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
14.
PPV Nanotubes, Nanorods, and Nanofilms as well as Carbonized Objects Derived Therefrom
机译:
PPV纳米管,纳米棒和纳米膜以及由此衍生的碳化物
作者:
Kyungkon Kim
;
Guolun Zhong
;
Jung-Il Jin
;
Jung Ho Park
;
Seoung Hyun Lee
;
Dong Woo Kim
;
Yung Woo Park
;
Whikun Yi
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
15.
Thermally Degradable Photocross-Linking Polymers
机译:
可热降解的光交联聚合物
作者:
Masamitsu Shirai
;
Satoshi Morishita
;
Akiya Kawaue
;
Haruyuki Okamura
;
Masahiro Tsunooka
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
16.
Ultra Low-k Dielectric Films with Ultra Small Pores Using Poragens Chemically Bonded to Siloxane Resin
机译:
使用与硅氧烷树脂化学键合的Poragens制成的具有超细孔的超低k介电薄膜
作者:
Bianxiao Zhong
;
Eric S. Moyer
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
17.
X-ray Reflectivity as a Metrology to Characterize Pores in Low-k Dielectric Films
机译:
X射线反射率作为表征低k介电膜中孔隙的度量衡
作者:
Christopher L. Soles
;
Hae-Jeong Lee
;
Ronald C. Hedden
;
Da-wei Liu
;
Barry J. Bauer
;
Wen-Ii Wu
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
18.
Study on Metal Chelates as Catalysts of Epoxy and Anhydride Cure Reactions for No-Flow Underfill Applications
机译:
金属螯合物在无流动底部填充应用中作为环氧和酸酐固化反应催化剂的研究
作者:
Zhuqing Zhang
;
C. P. Wong
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
19.
Soft Lithography on Block Copolymer Films: Generating Functionalized Patterns on Block Copolymer Films as a Basis to Further Surface Modification
机译:
嵌段共聚物膜上的软光刻:在嵌段共聚物膜上生成功能化图案,作为进一步表面改性的基础
作者:
Martin Brehmer
;
Lars Conrad
;
Lutz Funk
;
Dirk Allard
;
Patrick Theato
;
Anke Heifer
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
20.
157-nm Resist Materials Using Main-Chain Fluorinated Polymers
机译:
使用主链氟化聚合物的157 nm电阻材料
作者:
Toshiro Itani
;
Hiroyuki Watanabe
;
Tamio Yamazaki
;
Seiichi Ishikawa
;
Naomi Shida
;
Minoru Toriumi
会议名称:
《》
|
2002年
21.
Correlation of the Reaction Front with Roughness in Chemically Amplified Photoresists
机译:
化学放大光致抗蚀剂中反应前沿与粗糙度的相关性
作者:
Ronald L. Jones
;
Vivek M. Prabhu
;
Dario L. Goldfarb
;
Eric K. Lin
;
Christopher L. Soles
;
Joseph L. Lenhart
;
Wen-li Wu
;
Marie Angelopoulos
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
22.
Fluorocarbon Polymer-Based Photoresists for 157-nm Lithography
机译:
基于氟碳聚合物的157 nm光刻胶
作者:
T. H. Fedynyshyn
;
W. A. Mowers
;
R. R. Kunz
;
R. F. Sinta
;
M. Sworin
;
A. Cabral
;
J. Curtin
会议名称:
《Symposium on Polymers for Microelectronics and Nanoelectronics; 20020818-20020822; Boston,MA; US》
|
2002年
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