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Conference on alternative lithographic technologies VII
Conference on alternative lithographic technologies VII
召开年:
2015
召开地:
San Jose, CA(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
Non-CAR resists and advanced materials for massively parallel e-beam direct write process integration
机译:
非汽车抗蚀剂和先进的材料,用于大规模平行的电子束直接写入过程集成
作者:
Marie-Line Pourteau
;
Isabelle Servin
;
Kevin Lepinay
;
Cyrille Essomba
;
Bernard DalZotto
;
Jonathan Pradelles
;
Ludovic Lattard
;
Pieter Brandt
;
Marco Wieland
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
advanced e-beam resists;
low-energy e-beam lithography;
massively parallel mask-less electron beam lithography;
non-CAR;
CDL;
charging;
LWR;
top-coat;
etch transfer;
2.
Process highlights to enhance DSA contact patterning performances
机译:
工艺亮点增强DSA触点图案化表演
作者:
A. Gharbi
;
R. Tiron
;
M. Argoud
;
G. Chamiot-Maitral
;
A. Fouquet
;
C. Lapeyre
;
P. Pimento Barros
;
A. Sarrazin
;
I. Servin
;
F. Delachat
;
S. Bos
;
S. Berard-Bergery
;
J. Hazart
;
X. Chevalier
;
C. Nicolet
;
C. Navarro
;
I. Cayrefourcq
;
S. Bouanani
;
C. Monget
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
block copolymer;
self-assembly;
contact shrink;
contact multiplication;
planarization;
3.
Prediction of positioning error in EB lithography
机译:
EB光刻定位误差预测
作者:
Masaki Kimura
;
Kazuo Goda
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
EB lithography;
photomask;
position error;
charging effect;
charge-up;
resist;
simulation;
electric dipole;
4.
Manufacturability of dense hole arrays with directed self-assembly using the CHIPS flow
机译:
密集孔阵列的可制造性与芯片流动定向自组装
作者:
Arjun Singh
;
Jaewoo Nam
;
Jongsu Lee
;
Boon Teik Chan
;
Hengpeng Wu
;
Jian Yin
;
Yi Cao
;
Roel Gronheid
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
DSA;
frequency multiplication;
contact holes;
chemo-epitaxy;
hexagonal array;
cylindrical phase;
LCDU;
placement accuracy;
5.
New placement estimator for contact hole printed with DSA
机译:
用于DSA的接触孔的新放置估算器
作者:
L. Schneider
;
V. Farys
;
E. Serret
;
C. Fenouillet-Beranger
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
DSA;
Placement estimator;
Otha-Kawasaki;
6.
Strategies to enable Directed Self-Assembly Contact Hole Shrink for Tight Pitches
机译:
启用定向自组装接触孔的策略缩小距离
作者:
Kristin Schmidt
;
Hitoshi Osaki
;
Kota Nishino
;
Martha Sanchez
;
Chi-Chun Liu
;
Tsuyoshi Furukawa
;
Cheng Chi
;
Jed Pitera
;
Nelson Felix
;
Daniel Sanders
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Directed Self-Assembly;
Block Copolymer;
Contact Hole Shrink;
High chi;
7.
A route to industry compatible directed self-assembly of high-chi PS-PDMS block copolymers
机译:
到业界兼容的高Chi PS-PDMS嵌段共聚物的兼容定向自组装
作者:
S. Boehme
;
C. Girardot
;
J. Garnier
;
J. Arias-Zapata
;
S. Arnaud
;
R. Tiron
;
O. Marconot
;
D. Buttard
;
M. Zelsmann
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
directed self-assembly (DSA);
block copolymers (BCPs);
polystyrene-block-polydimethylsiloxane (PS-b-PDMS);
high-X;
plasma etching;
silicon nanostructures;
plasticizers;
8.
A Paradigm Shift in Patterning Foundation from Frequency Multiplication to Edge-Placement Accuracy: A Novel Processing Solution by Selective Etching and Alternating-Material Self-Aligned Multiple Patterning
机译:
Patterning基础的范式转换从频率乘法到边缘放置精度:通过选择性蚀刻和交替材料的新型处理解决方案自对准多图案
作者:
Ting Han
;
Hongyi Liu
;
Yijian Chen
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
edge-placement errors (EPE);
alternating-material (dual-material) self-aligned multiple patterning (altSAMP);
alternating-material (dual-material) self-aligned quadruple/sextuple patterning (altSAQP/altSASP);
selective etching;
cut-hole layout decomposition;
probability of failure (POF);
9.
Complete Data Preparation Flow for Massively Parallel E-beam Lithography on 28nm Node Full Field Design
机译:
在28nm节点全场设计上完成大规模平行电子束光刻的完整数据准备流
作者:
Aurelien Fay
;
Clyde Browning
;
Pieter Brandt
;
Jacky Chartoire
;
Sebastien Berard-Bergery
;
Jerome Hazart
;
Alexandre Chagoya
;
Sergei Postnikov
;
Mohamed Saib
;
Ludovic Lattard
;
Patrick Schiavone
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Massively Parallel Mask-less E-beam lithography;
Data Preparation;
Cycle Time;
Proximity Effect Correction;
Verification;
28nm Metal1;
Simulation;
10.
Experiments towards Establishing of Design Rules for R2R-UV-NIL with Polymer Working Shims
机译:
与聚合物工作垫片建立R2R-UV-NIL设计规则的实验
作者:
Dieter Nees
;
Stephan Ruttloff
;
Ursula Palfinger
;
Barbara Stadlober
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Roll-to-Roll-UV-nanoimprint lithography;
R2R-UV-NIL;
polymer working shims;
design rules;
nanoimprint proximity correction;
design for manufacturing;
11.
DSA patterning options for FinFET formation at 7nm node
机译:
7nm节点的FinFET形成的DSA图案化选项
作者:
Chi-Chun (Charlie) Liu
;
Elliott Franke
;
Fee Li Lie
;
Stuart Sieg
;
Hsinyu Tsai
;
Kafai Lai
;
Hoa Truong
;
Richard Farrell
;
Mark Somervell
;
Daniel Sanders
;
Nelson Felix
;
Michael Guillorn
;
Sean Burns
;
David Hetzer
;
Akiteru Ko
;
John Arnold
;
Matthew Colburn
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Directed self-assembly;
DSA;
block copolymer;
BCP;
Chemoepitaxy;
Graphoepitaxy;
FinFET;
customization;
12.
Virtual fabrication using Directed Self-Assembly for process optimization in a 14nm DRAM
机译:
虚拟制造在14nm DRAM中使用定向自组装进行过程优化
作者:
Mattan Kamon
;
Mustafa Akbulut
;
Yiguang Yan
;
Daniel Faken
;
Andras Pap
;
Vasanth Allampalli
;
Ken Greiner
;
David Fried
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Directed Self-Assembly;
DSA;
Virtual Fabrication;
Process Integration;
DRAM;
Chemoepitaxy;
yield optimization;
13.
Contour-based Kernel Modeling and Verification for E-Beam Lithography
机译:
基于轮廓的电子束光刻核心建模与验证
作者:
Jan-Wen You
;
Cheng-Hung Chen
;
Tsung-Chih Chien
;
Jaw-Jung Shin
;
Shy-Jay Lin
;
Burn J. Lin
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
E-beam lithography;
proximity effect;
contour;
Gaussian kernel;
14.
Development of Ballistic Hot Electron Emitter and its Applications to Parallel Processing: Active-Matrix Massive Direct-Write Lithography in Vacuum and Thin Films Deposition in Solutions
机译:
弹道热电子发射器的开发及其在平行处理中的应用:在溶液中真空和薄膜沉积中的主动矩阵大规模直接写入光刻
作者:
N. Koshida
;
A. Kojima
;
N. Ikegami
;
R. Suda
;
M. Yagi
;
J. Shirakashi
;
T. Yoshida
;
H. Miyaguchi
;
M. Muroyama
;
H. Nishino
;
S. Yoshida
;
M. Sugata
;
K. Totsu
;
M. Esashi
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
nanocrystalline Si;
ballistic hot electron;
planar electron emitter;
active-matrix drive;
mask-less parallel exposure;
direct write system;
thin film deposition;
printing;
15.
Creation of guiding patterns for directed self-assembly of block copolymers by resistless direct e-beam exposure
机译:
通过无抗抵抗直接电子束曝光创建针对嵌段共聚物的定向自组装的引导模式
作者:
Laura Evangelio
;
Marta Fernandez-Regulez
;
Xavier Borrise
;
Matteo Lorenzoni
;
Jordi Fraxedas
;
Francesc Perez-Murano
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
block copolymer;
directed self-assembly;
contact angle;
resistless;
electron beam;
chemoepitaxy;
guiding patterns;
16.
Advanced Nano Lithography via Soft Materials-Derived and Reversible Nano-Patterning Methodology for Molding of Infrared Nano Lenses
机译:
通过软材料衍生和可逆纳米图案化方法的先进的纳米光刻,用于模塑红外纳米镜片
作者:
Jae Hong Park
;
Hyun Ik Jang
;
Jun Yong Park
;
Seok Woo Jeon
;
Woo Choong Kim
;
Hee Yeoun Kim
;
Chi Won Ahn
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
nano patterning;
nano structure;
lithography;
soft;
molding;
infrared;
nano lens;
17.
Directed self-assembly lithography using coordinated line epitaxy (COOL) process
机译:
采用协调线外延(酷)过程的定向自组装光刻
作者:
Yuriko Seino
;
Yusuke Kasahara
;
Hironobu Sato
;
Katsutoshi Kobayashi
;
Hitoshi Kubota
;
Shinya Minegishi
;
Ken Miyagi
;
HidekiKanai
;
Katsuyoshi Kodera
;
Naoko Kihara
;
Yoshiaki Kawamonzen
;
Toshikatsu Tobana
;
Masayuki Shiraishi
;
Satoshi Nomura
;
Tsukasa Azuma
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
directed self-assembly;
block copolymer;
PS-b-PMMA;
line and space;
18.
Comparison between e-beam direct write and immersion lithography for 20 nm node
机译:
E-梁直接写入和浸入式20nm节点之间的比较
作者:
Pieter Brandt
;
Cham Sardana
;
Dale Ibbotson
;
Marco Wieland
;
Aurelien Fay
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
20 nm node lithography;
E-beam Direct Write lithography;
Electronic Design Automation;
Process Window;
Altera Corporation;
FPGA;
Mapper Lithography;
FLX-1200;
19.
Mapping self-assembled dots and line arrays by image analysis for quantification of defect density and alignment
机译:
通过图像分析映射自组装的点和线阵列,以定量缺陷密度和对准
作者:
C. Simao
;
D. Tuchapsky
;
W. Khunsin
;
A. Amann
;
M. A. Morris
;
C. M. Sotomayor Torres
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
block copolymers;
directed self-assembly;
metrology;
defect density;
order quantification;
image analysis;
alignment;
20.
Development of NIL processes for PV applications
机译:
开发PV应用的NIL流程
作者:
H. Hauser
;
N. Tucher
;
K. Tokai
;
P. Schneider
;
Ch. Wellens
;
A. Volk
;
S. Barke
;
C. Mueller
;
T. Glinsner
;
B. Blaesi
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
NIL;
Solar Cells;
Light Trapping;
Photon Management;
Plasma Etching;
21.
Computational analysis of hole placement errors for directed self-assembly
机译:
定向自组装孔放置误差的计算分析
作者:
K. Yamamoto
;
T. Nakano
;
M. Muramatsu
;
T. Tomita
;
K. Matsuzaki
;
T. Kitano
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
Directed self-assembly;
DSA;
Dissipative particle dynamics simulation;
Placement error;
Block co-polymer;
Hole shrink;
Hole multiplication;
22.
Negative e-beam resists using for nano-imprint lithography and silicone mold fabrication
机译:
负电子束抗蚀剂,用于纳米印记光刻和硅树脂模具制造
作者:
Anil Kumar T V
;
S. L. Shy
;
Gene Sheu
;
Shao-Ming Yang
;
M. C. Chen
;
C. S. Hong
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
NEB22 A2;
Negative e-beam resist;
Thermal nano-imprint lithography;
23.
Modeling and Parameter Tuning for Templated Directed Self-Assembly
机译:
模板定向自组装的建模和参数调整
作者:
B. Meliorisz
;
T. Muelders
;
H.-J. Stock
;
S. Marokkey
;
W. Demmerle
;
K. Lai
;
A. Raghunathan
;
P. Dhagat
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
directed self-assembly (DSA);
modeling;
simulation;
optimization;
DSA defectivity;
24.
Investigation of Coat-Develop Track System for Placement Error of Contact Hole Shrink Process
机译:
接触孔收缩过程涂层轨道系统的涂层轨道系统研究
作者:
Masahiko Harumoto
;
Harold Stokes
;
Yuji Tanaka
;
Koji Kaneyama
;
Charles Pieczulewski
;
Masaya Asai
;
Isabelle Servin
;
Maxime Argoud
;
Ahmed Gharbi
;
Celine Lapeyre
;
Raluca Tiron
;
Cedric Monget
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
directed self-assembly (DSA);
placement error;
coat develop track;
resist process;
contact-hole shrink;
25.
Design for nanoimprint lithography: Total layout refinement utilizing NIL process simulation
机译:
纳米压印光刻设计:利用NIL工艺模拟的总布局精制
作者:
Sachiko Kobayashi
;
Motofumi Komori
;
Inanami Ryoichi
;
Kyoji Yamashita
;
Akiko Mimotogi
;
Ji-Young Im
;
Masayuki Hatano
;
Takuya Kono
;
Shimon Maeda
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
nanoimprint lithography;
resist fluid;
alignment;
shear stress;
design for imprint;
26.
Dots-on-the-fly electron beam lithography
机译:
圆点 - 飞行电子束光刻
作者:
Tero J. Isotalo
;
Tapio Niemi
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
periodic nano-structures;
electron beam lithography;
nano-particle arrays;
nano-fabrication;
optoelectronics;
plasmonics;
27.
Nanoscale patterning in ambient conditions using liquid electromigration
机译:
使用液体电迁移的纳米级图案化在环境条件下
作者:
Santanu Talukder
;
Praveen Kumar
;
Rudra Pratap
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Electromigration;
lithography;
vector scan;
large area patterning;
28.
High Throughput Jet and Flash Imprint Lithography for semiconductor memory applications
机译:
用于半导体存储器应用的高吞吐量射流和闪光印记光刻
作者:
Wei Zhang
;
Brian Fletcher
;
Ecron Thompson
;
Weijun Liu
;
Tim Stachowiak
;
Niyaz Khusnatdinov
;
J. W. Irving
;
Whitney Longsine
;
Matthew Traub
;
Van Truskett
;
Dwayne LaBrake
;
Zhengmao Ye
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Jet and Flash Imprint Lithography;
J-FIL;
nanoimprint lithography;
NIL throughput;
non-fill defects;
29.
Chemoepitaxial guiding underlayers for density asymmetric and energetically asymmetric diblock copolymers
机译:
用于密度不对称和能量不对称二嵌段共聚物的化疗引导底层
作者:
Benjamin D. Nation
;
Peter J. Ludovice
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
directed self-assembly;
block copolymer;
simulation;
chemoepitaxy;
molecular dynamics;
process window;
30.
Requirements of the e-beam shot quality for mask patterning of the sub-1X device
机译:
屏蔽屏蔽质量的要求对Sub-1X设备的屏蔽图案化
作者:
Sinjeung Park
;
Jongmun Park
;
Boram Lee
;
Jin Choi
;
In Kyun Shin
;
Chan-Uk Jeon
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Photomask;
Pattern complexity;
Variable Shaped Beam;
E-beam writer;
Shot quality;
Data fracturing;
31.
Numerical placement analysis in hole multiplication patterns for directed self-assembly
机译:
定向自组装孔乘法模式的数值放置分析
作者:
K. Yamamoto
;
T. Nakano
;
M. Muramatsu
;
H. Genjima
;
T. Tomita
;
K. Matsuzaki
;
T. Kitano
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Hole doublets;
Hole placement error;
Dissipative particle dynamics simulation;
Grapho-epitaxy;
Directed self-assembly;
Computational analysis;
32.
Sub-15nm Patterning Technology using Directed Self-Assembly on Nano-Imprinting Guide
机译:
纳米印迹指南上的亚15NM图案化技术
作者:
Seiji Morita
;
Masahiro Kanno
;
Ryosuke Yamamoto
;
Norikatsu Sasao
;
Shinobu Sugimura
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Lithography;
Nano-imprint;
NIL;
DSA;
Shrink;
UV resin;
Organic material;
Block copolymer;
33.
HVM readiness of nanoimprint lithography templates: defects, CD, and overlay
机译:
HVM准备纳米压印光刻模板:缺陷,CD和覆盖
作者:
Koji Ichimura
;
Kouji Yoshida
;
Saburo Harada
;
Takaharu Nagai
;
Masaaki Kurihara
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
NIL;
nanoimprint;
template;
replica;
defect;
image placement;
34.
Electric-Field Assisted Assembly of Core-Shell Nanoparticle Arrays for Contact Hole Patterning
机译:
电磁辅助组装芯壳纳米粒子阵列接触孔图案化
作者:
Lan Lin
;
Xuexue Guo
;
Theresa S. Mayer
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
Directed assembly;
core-shell nanoparticles;
contact hole;
electric-field assisted assembly;
dielectrophoresis;
35.
Alternative Stitching Method for Massively Parallel E-beam Lithography
机译:
大型平行电子束光刻的替代缝合方法
作者:
Pieter Brandt
;
Celine Tranquillin
;
Marco Wieland
;
Sebastien Bayle
;
Matthieu Millequant
;
Guillaume Renault
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
Massively Parallel E-beam Direct Write;
FLX 1200;
Stiching;
Soft Edge;
Proximity Effect Correction;
MAPPER Lithography;
Aselta Nanographics;
36.
An Instruction-based High-Throughput Lossless Decompression Algorithm for E-Beam Direct-Write System
机译:
基于指令的电子波束直接写入系统的高吞吐量无损减压算法
作者:
Cheng-Chi Wu
;
Jensen Yang
;
Wen-Chuan Wang
;
Shy-Jay Lin
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
multiple e-beam direct write;
MEBDW;
lossless compression;
instruction-based;
37.
Understanding of PS-b-PMMA phase segregation under laser induced millisecond thermal annealing
机译:
在激光诱导的毫秒热退火下理解PS-B-PMMA相偏析
作者:
Alan G. Jacobs
;
Clemens Liedel
;
Christopher K. Ober
;
Michael O. Thompson
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
Laser Spike Annealing;
LSA;
PS-b-PMMA;
Phase Segregation;
Order-Disorder Transition;
ODT;
GISAXS;
μGISAXS;
38.
Fabrication of functional electromechanical nanowire resonators by focused ion beam (FIB) implantation
机译:
通过聚焦离子束(FIB)植入通过聚焦离子机械纳米线谐振器的制造
作者:
J. Llobet
;
M. Gerboles
;
M. Sansa
;
X. Borrise
;
F. Perez-Murano
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
Focused ion beam;
nanoelectromechanical devices;
39.
Self-aligned line-space pattern customization with directed self-assembly graphoepitaxy at 24nm pitch
机译:
自对准线路空间图案定制,其中24纳米间距为指向自组装Graphoepitaxy
作者:
HsinYu Tsai
;
Hiroyuki Miyazoe
;
Joy Cheng
;
Markus Brink
;
Simon Dawes
;
David Klaus
;
James Bucchignano
;
Dan Sanders
;
Eric Joseph
;
Matthew Colburn
;
Michael Guillorn
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
directed self assembly;
grapho-epitaxy;
FinFET device;
PS-PMMA;
pitch scaling;
40.
Directed self-assembly of diblock copolymers in cylindrical confinement: effect of underfilling and air-polymer interactions on configurations
机译:
圆柱形监禁中的二嵌段共聚物的定向自组装:欠填空和空气聚合物相互作用对配置的影响
作者:
Corinne L. Carpenter
;
Kris T. Delaney
;
Nabil Laachi
;
Glenn H. Predrickson
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
41.
Optimization of Near-Field Scanning Optical Lithography
机译:
优化近场扫描光学光刻
作者:
Ben S. Routley
;
John L. Holdsworth
;
Andrew J. Fleming
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
Near-field scanning optical lithography;
Simulation;
42.
Verification of Directed Self-Assembly (DSA) Guide Patterns through Machine Learning
机译:
通过机器学习验证定向自组装(DSA)指南图案
作者:
Seongbo Shim
;
Sibo Cai
;
Jaewon Yang
;
Seunghune Yang
;
Byungil Choi
;
Youngsoo Shin
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
Directed self-assembly (DSA);
verification;
machine learning;
SVM;
43.
Experimental Study of Sub DSA resolution Assist Features (SDRAF)
机译:
子DSA分辨率辅助功能(SDRAF)的实验研究
作者:
He Yi
;
Joost Bekaert
;
Roel Gronheid
;
Geert Vandenberghe
;
Kathleen Nafus
;
H.-S. Philip Wong
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
44.
Customization and Design of Directed Self-Assembly Using Hybrid Prepatterns
机译:
使用混合备用定向自组装定制和设计
作者:
Joy Cheng
;
Gregory S. Doerk
;
Charles T. Rettner
;
Gurpreet Singh
;
Melia Tjio
;
Hoa Truong
;
Noel Arellano
;
Srinivasan Balakrishnan
;
Markus Brink
;
Hsinyu Tsai
;
Chi-Chun Liu
;
Michael Guillorn
;
Daniel P. Sanders
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
directed self-assembly;
DSA;
block copolymer;
self-aligned customization;
hybrid prepattern;
45.
Impact of BCP Asymmetry on DSA Patterning Performance
机译:
BCP不对称对DSA图案化性能的影响
作者:
Lance Williamson
;
JiHoon Kim
;
Yi Cao
;
Guanyang Lin
;
Roel Gronheid
;
Paul F. Nealey
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
block copolymer;
directed self-assembly;
chemo-epitaxy;
asymmetry;
homopolymer;
46.
Improved cost-effectiveness of the block co-polymer anneal process for DSA
机译:
提高DSA块共聚物退火过程的成本效益
作者:
Hari Pathangi
;
Maarten Stokhof
;
Werner Knaepen
;
Varun Vaid
;
Arindam Mallik
;
Boon Teik Chan
;
Nadia Vandenbroeck
;
Jan Willem Maes
;
Roel Gronheid
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Directed self-assembly;
chemo epitaxy;
defect reduction;
cost of ownership;
batch anneal;
47.
DSA materials contributions to the defectivity performance of 14 nm half-pitch LiNe flow @ imec
机译:
DSA材料对14纳米半间距线流的缺陷性能@ IMEC
作者:
Hari Pathangi
;
Varun Vaid
;
Boon Teik Chan
;
Nadia Vandenbroeck
;
Jin Li
;
Sung Eun Hong
;
Yi Cao
;
Baskaran Durairaj
;
Guanyang Lin
;
Mark Somervell
;
Takahiro Kitano
;
Ryota Harukawa
;
Kaushik Sah
;
Andrew Cross
;
Hareen Bayana
;
Lucia DUrzo
;
Roel Gronheid
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Directed self-assembly;
chemo epitaxy;
defect reduction;
DSA materials;
Block-co polymer defectivity;
48.
Reversible Nano-Lithography for Commercial Approaches
机译:
用于商业方法的可逆纳米光刻
作者:
Jae Hong Park
;
Hyun Ik Jang
;
Woo Choong Kim
;
Hae Su Yun
;
Jun Yong Park
;
Seok Woo Jeon
;
Hee Yeoun Kim
;
Chi Won Ahn
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
nano patterning;
nano structure;
lithography;
soft;
molding;
imprinting;
commercialization;
49.
Deep-UV Interference Lithography combined with Masked Contact Lithography for Pixel Wiregrid Patterns
机译:
深度紫外干扰光刻与像素线格图案的屏蔽接触光刻相结合
作者:
David Lombardo
;
Piyush Shah
;
Pengfei Guo
;
Andrew Sarangan
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Interferometric;
deep-UV;
wiregrid polarizers;
50.
Control of morphological defects at the boundary between the periodic and non-periodic patterns in directed self-assembly process
机译:
控制定期自组装过程中周期性和非周期性模式之间的形态缺陷
作者:
Akihisa Yoshida
;
Kenji Yoshimoto
;
Masahiro Ohshima
;
Katsuyoshi Kodera
;
Yoshihiro Naka
;
Hideki Kanai
;
Sachiko Kobayashi
;
Simon Maeda
;
Phubes Jiravanichsakul
;
Katsutoshi Kobayashi
;
Hisako Aoyama
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
directed self-assembly;
diblock copolymer;
PS-b-PMMA;
lamella;
non-periodic;
simulation;
51.
Directed self-assembly of Si-containing and topcoat free block copolymer
机译:
定向自组装的含Si和面漆免费嵌段共聚物
作者:
Tasuku Matsumiya
;
Takehiro Seshimo
;
Tsuyoshi Kurosawa
;
Hitoshi Yamano
;
Ken Miyagi
;
Tomotaka Yamada
;
Katsumi Ohmori
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Directed self-assembly (DSA);
Block copolymer (BCP);
High chi BCP;
Si-containing;
Topcoat free;
Graphoepitaxy;
Perpendicular lamella;
52.
Nano-imprint lithography using Poly (Methyl Methacrylate) (PMMA) and Polystyrene (PS) polymers
机译:
使用聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)和聚苯乙烯(PS)聚合物的纳米印记光刻
作者:
Yung-Chiang Ting
;
Shyi-Long Shy
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
PMMA polymer;
PS polymer;
Thermal nano-imprint lithography;
53.
Sub-10 nm lines and spaces patterning using grapho-epitaxial directed self-assembly of lamellar block copolymers
机译:
使用LAPLAR嵌段共聚物的Grapho-Xizaxial的自组装图案化的10nm线和空间
作者:
Yuriko Seino
;
Hironobu Sato
;
Yusuke Kasahara
;
Shinya Minegishi
;
Ken Miyagi
;
Hitoshi Kubota
;
Hideki Kanai
;
Katsuyoshi Kodera
;
Masayuki Shiraishi
;
Naoko Kihara
;
Yoshiaki Kawamonzen
;
Toshikatsu Tobana
;
Katsutoshi Kobayashi
;
Hitoshi Yamano
;
Satoshi Nomura
;
Tsukasa Azuma
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
grapho-epitaxial directed self-assembly;
lamellar block copolymer;
line-and-space pattern;
54.
Introduction
机译:
介绍
作者:
Douglas J. Resnick
;
Christopher Bencher
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
55.
NIL defect performance toward High volume mass production
机译:
NIL缺陷性能对大量批量生产
作者:
Masayuki Hatano
;
Kei Kobayashi
;
Hiroyuki Kashiwagi
;
Hiroshi Tokue
;
Takuya Kono
;
Nakasugi Tetsuro
;
Eun Hyuk Choi
;
Wooyung Jung
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Nanoimprint;
Lithography;
Template;
Defect classification;
Defect control;
56.
Lithography Alternatives meet Design Style Reality; How do they 'Line' Up?
机译:
光刻替代品符合设计风格的现实;他们如何'线'起来?
作者:
Michael C. Smayling
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Low k_1;
1D design style;
gridded design rules;
pitch division;
lines and cuts;
design source mask optimization (DSMO);
self-aligned pitch division;
DSA;
CEBL;
57.
Resist roughness improvement by chemical shrink process
机译:
通过化学收缩过程抵抗粗糙度
作者:
Tatsuro Nagahara
;
Takashi Sekito
;
Yuriko Matsuura
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
NTD;
LWR;
LER;
CDU;
pattern roughness;
ArF;
EUV;
shrink;
SPM;
AFM;
58.
Enhanced Patterning by Tilted Ion Implantation
机译:
通过倾斜的离子植入增强图案化
作者:
Sang Wan Kim
;
Peng Zheng
;
Kimihiko Kato
;
Leonard Rubin
;
Tsu-Jae King Liu
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
alternative lithography;
tilted ion implantation;
self-align;
low-cost;
structural damage;
enhanced etch rate;
59.
Nanoimprint lithography using disposable biomass template
机译:
使用一次性生物量模板的Nanoimprint光刻
作者:
Makoto Hanabata
;
Satoshi Takei
;
Kigen Sugahara
;
Shinya Nakajima
;
Naoto Sugino
;
Takao Kameda
;
Jiro Fukushima
;
Yoko Matsumoto
;
Atsushi Sekiguchi
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
thermal nanoimprint lithography;
template;
mold;
biomass;
cellulose;
defect reduction;
60.
Tilting of Lamellar Domains on Neutral Random Copolymer Brushes
机译:
中性随机共聚物刷子上的层状域倾斜
作者:
Indranil Mitra
;
Nikhila Mahadevapuram
;
Joseph Strzalka
;
Gila E. Stein
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
block copolymer;
domain orientation;
self-assembly;
poly(styrene-b-methyl methacrylate);
grazing incidence small-angle X-ray scattering;
preferential substrate;
defects;
lithography;
61.
Shape Change of Cured 2D and 3D Nanostructures from Imprint Lithography
机译:
压缩光刻的固化2D和3D纳米结构的形状变化
作者:
Meghali J. Chopra
;
Roger T. Bonnecaze
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
Nanoimprint lithography;
polymer shrinkage;
nanosculpting;
62.
Smart plastic functionalization by nanoimprint and injection molding
机译:
纳米压印和注塑成型型智能塑性功能化
作者:
Maksim Zalkovskij
;
Lasse H. Thamdrup
;
Kristian Smistrup
;
Thomas Anden
;
Alicia C. Johansson
;
Niels Jorgen Mikkelsen
;
Morten Hannibal Madsen
;
Jorgen Garnaes
;
Tommy Tungelund Kristiansen
;
Mads Diemer
;
Michael Dossing
;
Daniel Minzari
;
Peter Torben Tang
;
Anders Kristensen
;
Rafael Taboryski
;
Soren Essendrop
;
Theodor Nielsen
;
Brian Bilenberg
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2015年
关键词:
nanoimprint;
injection molding;
plastic;
sub-micro structures;
surface functionalization;
63.
Contact Hole Patterning by Electric-Field Assisted Assembly of Core-Shell Nanoparticles
机译:
通过电磁辅助组装芯壳纳米粒子的电磁辅助组件图案化
作者:
Xuexue Guo
;
Lan Lin
;
Theresa S. Mayer
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
Electric-field assisted assembly;
core-shell nanoparticles;
contact hole;
dielectrophoretic (DEP) force;
pattern placement error;
64.
Grapho-epitaxial sub-10-nm line and space patterning using lamella-forming Si-containing block copolymer
机译:
使用薄片形成含Si的嵌段共聚物的Grapho-外延子10-10nm线和空间图案化
作者:
Hironobu Sato
;
Yusuke Kasahara
;
Naoko Kihara
;
Yuriko Seino
;
Ken Miyagi
;
Shinya Minegishi
;
Hitoshi Kubota
;
Katsutoshi Kobayashi
;
Hideki Kanai
;
Katsuyoshi Kodera
;
Yoshiaki Kawamonzen
;
Masayuki Shiraishi
;
Hitoshi Yamano
;
Satoshi Nomura
;
Tsukasa Azuma
;
Teruaki Hayakawa
会议名称:
《Conference on alternative lithographic technologies VII》
|
2016年
关键词:
PMAPOSS-b-PTFEMA;
grapho-epitaxy;
cross-sectional TEM;
pattern transfer;
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