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Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan
Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan
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1.
Simulation Method Using the Image Filter Method
机译:
使用图像滤波方法的模拟方法
作者:
Masahiko Minemura
;
Kazuhiko Takahashi
;
Mitsuo Sakurai
;
Kazuya Sugawa
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
OPC;
optical simulation;
image filter;
fourier transform;
2.
Life is Better Without Non-orthogonal or Non-45-Degree Edges -- a Practical Solution to Alleviate the Pain on OPC and Mask Writing
机译:
没有非正交或非45度边缘的生活会更好-缓解OPC和蒙版书写时疼痛的实用解决方案
作者:
Eric C. Lynn
;
Shih-Ying Chen
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
3.
Integrating Real-Time CD Corrections into a Laser Pattern Generator
机译:
将实时CD校正集成到激光图案生成器中
作者:
Steven Haddleton
;
Lars Ivansen
;
Michal Simecek
;
Uwe Schnitker
;
Lars Stiblert
;
Manfred Enzinger
;
Wolfgang Rossi
;
Mats Sundqvist
;
Christian Kalus
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
laser pattern generator;
photomask;
sizing;
proximity correction;
micro-loading;
4.
A Novel Procedure For Mask Disposition Using Electrical Signatures of Mask Defects
机译:
利用掩模缺陷的电子签名进行掩模布置的新方法
作者:
Artur Balasinski
;
Walter Iandolo
;
Oindrila Ray
;
Linard Karklin
;
Valery Axelrad
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
5.
A model of coating and drying process for the flat polymer film fabrication
机译:
平面聚合物薄膜制造的涂布和干燥过程模型
作者:
Hiroyuki Kagami
;
Ryuji Miyagawa
;
Atsushi Kawata
;
Daisuke Nakashima
;
Shinji Kobayashi
;
Takahiro Kitano
;
Kazuhiro Takeshita
;
Hiroshi Kubota
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
6.
A New Energy Flux Method for Inspection of Contact Layer Reticles
机译:
接触层掩模版检查的新能量通量方法
作者:
William Volk
;
Hector Garcia
;
Charika Becker
;
George Chen
;
Sterling Watson
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
7.
Application of AlSi-based materials on approach of chemical stability of embedded layer for bi-layer attenuated phase-shifting mask in 193 nm lithography
机译:
AlSi基材料在双层衰减相移掩模在193 nm光刻中嵌入层化学稳定性方法中的应用
作者:
Cheng-ming Lin
;
Wen-an Loong
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
high transmittance;
bi-layer attenuated phase-shifting mask;
etched pattern;
chemical composition;
chemical stability;
optical properties;
sputtering condition;
chemically amplified resist;
8.
High-performance DUV inspection system for 100nm-generation masks
机译:
用于100nm代掩模的高性能DUV检测系统
作者:
Hideo Tsuchiya
;
Ikunao Isomura
;
Kazuhiro Nakashima
;
Kyoji Yamashita
;
Toshiyuki Watanabe
;
Takeshi Nishizaka
;
Hiroyuki Ikeda
;
Eiji Sawa
;
Masami Ikeda
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
inspection;
defect;
phase shift mask;
CD error;
die-to-database;
9.
Improvement of Critical Dimension Stability of Chemically Amplified Resist by Overcoat
机译:
外涂层改善化学增强型抗蚀剂的临界尺寸稳定性
作者:
Teruhiko Kumada
;
Atsuko Sasahara
;
Kazuyuki Maetoko
;
Kunihiro Hosono
;
Takemichi Honma
;
Yuji Kodaira
;
Yukio Nakashiba
;
Masayoshi Tsuzuki
;
Yasutaka Kikuchi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
chemically amplified resist;
post coating delay;
post exposure delay;
overcoat;
critical dimensions stability;
10.
CD variations from non-trivial mask related factors
机译:
非平凡面罩相关因素的CD变化
作者:
Z. Mark Ma
;
Won Kim
;
Benjamen Rathsack
;
Guoqiang Xing
;
Mark Somervell
;
Hyesook Hong
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
CD control;
writing tool;
etch process;
mask blank;
pellicle;
mask metrology;
mask profile;
11.
Application of a Multiple Wavelength Absorption Endpoint System in Photomask Dry Etcher
机译:
多波长吸收终点系统在光掩模干蚀刻机中的应用
作者:
Dong-Soo Min
;
Pil-Jin Jang
;
Hyuk-Joo Kwon
;
Boo-Yeon Choi
;
Soo-Hong Jeong
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
dry etcher;
endpoint detection;
optical emission;
multiple wavelength absorption;
12.
High Performance Hierarchical Fracturing
机译:
高性能分层压裂
作者:
Nick Cobb
;
Weidong Zhang
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
fracturing;
mask data preparation;
hierarchy;
13.
Modification of boundaries conditions in the FDTD algorithm for EUV masks modeling
机译:
FDTD算法中用于EUV蒙版建模的边界条件的修改
作者:
Alexandra Vial
;
Andreas Erdmann
;
Thomas Schmoeller
;
Christian Kalus
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
EUV mask modeling;
FDTD;
14.
Hard Pellicle Study for 157-nm Lithography
机译:
157 nm光刻的硬质膜研究
作者:
Emily Y. Shu
;
Fu-Chang Lo
;
Florence O. Eschbach
;
Eric P. Cotte
;
Roxann L. Engelstad
;
Edward G. Lovell
;
Kaname Okada
;
Shinya Kikugawa
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
157-nm lithography;
hard pellicle;
pellicle fabrication;
photomask distortions;
interferometer;
finite element analysis;
15.
130 nm Reticle Inspection using Multi-Beam UV Wavelength Database Inspection
机译:
使用多光束UV波长数据库检查进行130 nm掩模版检查
作者:
Christopher Aquino
;
Robert Schlaffer
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
16.
New Mask Format for Low Energy Electron Beam Proximity Projection Lithography
机译:
低能电子束邻近投影光刻的新掩模格式
作者:
Kaoru KOIKE
;
Shinji OMORI
;
Kazuya IWASE
;
Isao ASHIDA
;
Shigeru MORIYA
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
COSMOS;
LEEPL;
stencil;
complementary;
electron beam;
17.
Next generation mask metrology tool
机译:
下一代口罩计量工具
作者:
Gerhard Schlueter
;
Klaus-Dieter Roeth
;
Carola Blaesing-Bangert
;
Michael Ferber
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
optical measurement system;
pattern placement metrology;
overlay measurement;
registration measurement;
critical dimension measurement;
CD measurement;
transmitted light;
reflected light;
I-line illumination;
230 mm photo mask;
300 mm wafer;
18.
New Concept of Specification for Mask Flatness
机译:
掩模平面度规范的新概念
作者:
Masamitsu Itoh
;
Soichi Inoue
;
Katsuya Okumura
;
Tsuneyuki Hagiwara
;
Jiro Moriya
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
mask;
reticle;
flatness;
vacuum chucking;
prediction;
specification;
19.
Lithography Strategy for 65nm Node
机译:
65nm节点光刻技术
作者:
Y. Borodovskv
;
R. Schenker
;
G. Allen
;
E. Tejnil
;
D. Hwang
;
F. C. Lo
;
V. Singh
;
R. Gleason
;
J. Brandenburg
;
R. Bigwood
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
20.
LITHOGRAPHIC ANALYSIS OF DISTRIBUTED PHOTO MASK DEFECTS. PART Ⅱ: RANDOM MASK CD ERRORS
机译:
分布式光罩缺陷的光刻技术分析。第二部分:随机掩码CD错误
作者:
Linard Karklin
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
sub-wavelength lithography;
photo mask;
random CD errors;
MEF;
21.
Adjustment of Optical Proximity Correction (OPC) Software For Mask Process Correction (MPC). Module 2: Lithography simulation based on Optical Mask Writing Tool Simulation
机译:
调整用于掩模工艺校正(MPC)的光学邻近校正(OPC)软件。模块2:基于光学掩模书写工具模拟的光刻模拟
作者:
A.Barberet
;
P. Buck
;
G.Fanget
;
O. Toublan
;
J-C Richoilley
;
M. Tissier
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
laser writing tool;
OPC;
mask simulation;
193nm lithography simulation;
22.
Microwave plasma resist stripping for mask manufacturing
机译:
微波等离子光刻胶剥离,用于掩模制造
作者:
Guenther Ruhl
;
Pavel Nesladek
;
Astrid Boesl
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
photomask;
plasma stripping;
microwave plasma;
23.
Mask Design Optimization for 70nm Technology Node Using Chromeless Phase Lithography (CPL) Based on 100 Transmission Phase Shifting Mask
机译:
基于100%透射相移掩模的无铬相光刻(CPL)用于70nm技术节点的掩模设计优化
作者:
J. Fung Chen
;
Doug Van Den Broeke
;
Michael Hsu
;
Tom Laidig
;
Kurt E. Wampler
;
Xuelong Shi
;
Stephen Hsu
;
Ted Shafer
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
chromeless phase lithography;
CPL;
PSM;
CLM;
100 transmission PSM;
attenuated PSM;
24.
Lithography technology trend for DRAM devices
机译:
DRAM设备的光刻技术趋势
作者:
Woo-Sung Han
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
customized OAI;
strong OPC;
OPERA;
litho-friendly design;
thin resist process;
chemical attaching process;
25.
Advanced Data Preparation and Design Automation
机译:
先进的数据准备和设计自动化
作者:
F.M. Schellenberg
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
RET;
OPC;
OAI;
PSM;
RET;
resolution enhancement;
data management;
fracturing;
26.
A Progressive Self-learning Photomask Defect Classification
机译:
渐进式自学习光掩模缺陷分类
作者:
Eric C. Lynn
;
Shih-Ying Chen
;
Tyng-Hao Hsu
;
Chang-Cheng Hung
;
Chin-Hsiang Lin
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
27.
Advanced pattern correction method for fabricating highly accurate reticles
机译:
用于制造高精度标线的高级图案校正方法
作者:
Shunichiro Sato
;
Masaaki Koyama
;
Mikio Katsumata
;
Ichiro Kagami
;
Hiroichi Kawahira
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
pattern correction;
dry etching;
loading effect;
rule-based OPC;
CD uniformity;
28.
Pattern printability for reflectance degradation of Mo/Si mask blanks in EUV lithography
机译:
用于在EUV光刻中降低Mo / Si掩模坯料反射率的图案可印刷性
作者:
Minoru Sugawara
;
Masaaki Ito
;
Akira Chiba
;
Eiichi Hoshino
;
Hiromasa Yamanashi
;
Hiromasa Hoko
;
Taro Ogawa
;
Byoung Taek Lee
;
Takashi Yoneda
;
Masashi Takahashi
;
Iwao Nishiyama
;
Shinji Okazaki
会议名称:
《》
|
2002年
关键词:
multilayer;
thickness variation;
reflectance;
phase-shifting mask;
29.
Development of Reticle-Free Exposure Method with LCD Projection Image
机译:
LCD投影图像的无网版曝光方法的发展
作者:
Kazumitu Nakamura
;
Hiroshi Kubota
;
Akira Nakada
;
Tsuneo Inokuchi
;
Kouji Kosaka
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
optical lithography;
stepper;
g-line;
liquid crystal display;
reticle;
30.
Development of Hard Pellicle for 157 nm
机译:
157 nm硬质膜的开发
作者:
K.Okada
;
K.Ootsuka
;
I.Ishikawa
;
Y.Ikuta
;
H.Kojima
;
T.Kawahara
;
T.Minematsu
;
H.Mishiro
;
S. Kikugawa
;
Y.Sasuga
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
157-nm lithography;
hard pellicle;
transmission of pellicle;
durability to F2 laser irradiation;
hard pellicle bow of measurement;
31.
Pattern fidelity improvement by considering the underlying patterns at defocus
机译:
通过考虑散焦时的基本图案来提高图案保真度
作者:
Karl. Chiou
;
Jerry. Huang
;
Snow. Lee
;
C. Y. Lee
;
Nail. Tang
;
Janet. Peng
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
OPC;
rule base OPC;
model base OPC;
hybrid OPC;
32.
Process development of 6-inch EUV mask with TaBN absorber
机译:
使用TaBN吸收剂的6英寸EUV掩模的工艺开发
作者:
Tsutomu Shoki
;
Mono Hosoya
;
Takeru Kinoshita
;
Hideo Kobayashi
;
Youichi Usui
;
Ryo Ohkubo
;
Shinichi Ishibashi
;
Osamu Nagarekawa
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
EUV mask;
TaBN absorber;
multilayer;
CrX buffer layer;
EUV lithography;
33.
Processing Techniques in the Manufacture of 100nm Node and Below Inspection Test Reticles
机译:
100nm节点及以下检验测试掩模版制造中的处理技术
作者:
Nicole Cheng
;
Clyde Su
;
Frank Chen
;
Bill Cheng
;
Darren Taylor
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
50keV;
e-beam;
OPC;
34.
Dry Etching of Chrome for Photomasks for 100nm Technology using Chemically Amplified Resist
机译:
使用化学增强抗蚀剂对用于100nm技术的光掩模镀铬进行干法蚀刻
作者:
Mark Mueller
;
Serguei Komarov
;
Ki-Ho Baik
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
dry etching;
photomask;
e-beam;
raster scan;
chemically amplified resist;
35.
A Method for Generating Complementary Mask Data for an EPL Stencil Mask Using a Commercial Pattern Operation Tool
机译:
一种使用商业图案操作工具为EPL模板掩模生成互补掩模数据的方法
作者:
Akemi Moniwa
;
Fumio Murai
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
complementary mask;
electron beam projection lithography;
data generation;
stencil mask;
pattern operation;
36.
Defect Printability of ArF Alternative Phase-Shift Mask: A Critical Comparison of Simulation and Experiment
机译:
ArF替代相移掩模的缺陷可印刷性:仿真和实验的关键比较
作者:
Ken Ozawa
;
Tohru Komizo
;
Hidetoshi Ohnuma
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
phase defect printability;
alternative phase shift mask;
process phase defect;
3-dimensional FDTD simulation;
37.
A feasibility study of TaSiOx type Att-PSM for 157-nm lithography
机译:
TaSiOx型Att-PSM用于157 nm光刻的可行性研究
作者:
Kunio Watanabe
;
Osamu Yamabe
;
Noriyoshi Kanda
;
Jaehwan Kim
;
Noboru Uchida
;
Shigeo Irie
;
Toshifumi Suganaga
;
Toshiro Itani
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
157-nm lithography;
attenuated phase shifting mask;
hole pattern;
resolution enhancement technology;
aerial image simulation;
side lobe;
exposure experiment;
depth of focus;
mask error enhancement factor;
optical proximity correction;
38.
Comparative evaluation of e-beam sensitive chemically amplified resists for mask making
机译:
电子束敏感化学增幅抗蚀剂用于面膜制作的比较评估
作者:
Mathias Irmscher
;
Dirk Beyer
;
Joerg Butschke
;
Chris Constantine
;
Thomas Hoffmann
;
Corinna Koepernik
;
Christian Krauss
;
Bernd Leibold
;
Florian Letzkus
;
Dietmar Mueller
;
Reinhard Springer
;
Peter Voehringer
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
chemically amplified resist;
e-beam, photomask process and materials;
stencil mask;
39.
Comparing photomask and wafer post-develop defect formation
机译:
比较光掩模和晶圆显影后缺陷的形成
作者:
Adam Smith
;
William Aaskov
;
Steven Knight
;
Robert Leidy
;
Andrew Watts
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
photomask;
defect control;
40.
Comparison and Correlation of VSS Simulation Results Using Images from Different Inspection Systems
机译:
使用不同检查系统的图像进行VSS仿真结果的比较和相关
作者:
Kevin Hung
;
Denis Lin
;
Rex Chou
;
Samuel Yang
;
Don Li
;
Alex Tseng
;
Hiromosa Unno
;
Toppan
;
Jiunn-Hung Chen
;
Jason Huang
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
defect inspection;
defect printability;
defect classification;
virtual stepper system;
mix-and-match;
41.
Alternating Phase Shift Mask Inspection Using Multiple Simultaneous Illumination Techniques
机译:
使用多种同时照明技术的交替相移掩模检查
作者:
Larry Zurbrick
;
Jan Heumann
;
Maciej Rudzinski
;
Stan Stokowski
;
Jan-Peter Urbach
;
Lantian Wang
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
42.
In-situ optical emission spectroscopic examination of chrome etch for photomasks
机译:
光掩模镀铬的原位光发射光谱检查
作者:
Rex Anderson
;
Nicole Sandlin
;
Melisa J. Buie
;
Clyde Su
;
Yi-Chiau Huang
;
Brigitte Stoehr
;
Ashish Agarwal
;
Cindy Brooks
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
chrome etch;
optical emission spectroscopy;
OES;
endpoint detection;
principal component analysis;
plasma diagnostics;
43.
Simulation of Transmittance on the Effect of Resolution Enhancement of 100 nm Pattern with Attenuated Phase-Shifting Mask in 193 nm Lithography
机译:
衰减衰减相移掩模在193 nm光刻中透射率对100 nm图案分辨率提高效果的模拟
作者:
Cheng-ming Lin
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
high transmittance;
attenuated phase-shifting mask;
contact hole;
resolution enhancement;
dark tone;
normalized image log-slope;
side-lobes;
44.
EPL Data Conversion System EPLON
机译:
EPL数据转换系统EPLON
作者:
Kokoro Kato
;
Kuninori Nishizawa
;
Tamae Haruki
;
Tadao Inoue
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
45.
The Development of mask-making process for CLM Manufacturing Technology
机译:
CLM制造技术的掩模制造工艺的发展
作者:
Jin-Hyung Park
;
Dong-Hoon Chung
;
Man-Ki Lee
;
In-Kyun Shin
;
Sung-Woon Choi
;
Hee-Sun Yoon
;
Jung-Min Sohn
;
Fung Chen
;
Douglas Van Den Broeke
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
RETs (resolution enhancement techniques);
CLM (chrome-less mask);
depth of focus;
quartz dry etch;
46.
Etching Selectivity and Surface Profile of Attenuated Phase Shifting Mask Using CF_4/O_2/He Inductively Coupled Plasma (ICP)
机译:
使用CF_4 / O_2 / He电感耦合等离子体(ICP)的衰减型移相掩模的蚀刻选择性和表面轮廓
作者:
Si Yeul Yoon
;
Se-Jong Choi
;
Young-Dae Kim
;
Dong-Hyuk Lee
;
Han-Sun Cha
;
Jin-Min Kim
;
Sang-Soo Choi
;
Soo Hong Jeong
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
PSM;
MoSiON;
surface morphology;
profile;
ICP;
CF_4;
dry etch;
47.
Enriching Design Intent for Optimal OPC and RET
机译:
优化OPC和RET的丰富设计意图
作者:
Michael Rieger
;
Valery Gravoulet
;
Jeffrey Mayhew
;
Dan Beale
;
Robert Lugg
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
OPC;
RET;
frugal correction;
process window optimization;
target modification;
mask design rules;
48.
Required Performances of Reticle Inspection System for ArF Lithography: Through Analysis of Defect Printability Study
机译:
ArF光刻的光罩检查系统的必要性能:通过缺陷可印性研究的分析
作者:
Byung Gook Kim
;
Keishi Tanaka
;
Nobuyuki Yoshioka
;
Naohisa Takayama
;
Keiichi Hatta
;
Shingo Murakami
;
Masao Otaki
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
49.
Reticle Defect Printability for Sub-0.3k_1 Chromeless Phase Lithography(CPL) Technology
机译:
低于0.3k_1的无铬相光刻(CPL)技术的光罩缺陷可印刷性
作者:
Stephen Hsu
;
Doug Van Den Broeke
;
Xuelong Shi
;
J. Fung Chen
;
William Knose
;
Noel Corcoran
;
Srinivas Vedula
;
Craig MacNaughton
;
Michael Richie
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
defect printability;
defect sensitivity;
phase defect;
chrome defect;
chromeless phase lithography (CPL);
chromeless mask;
off-axis illumination (OAI);
KrF;
50.
Generic hierarchical engine for mask data preparation
机译:
用于遮罩数据准备的通用分层引擎
作者:
Christian K. Kalus
;
Wolfgang Roessl
;
Uwe Schnitker
;
Michal Simecek
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
mask data preparation;
hierarchical processing;
51.
Photomask CD metrology at the 100nm node
机译:
100nm节点处的光掩模CD计量
作者:
John Allsop
;
Stephen Johnson
;
Marcel Demarteau
;
Onno Wismans
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
metrology;
reticle;
CDSEM;
correlation;
52.
Fogging and pattern loading effect by writing strategy
机译:
书写策略的雾化和图案加载效果
作者:
JS Cho
;
SH Baek
;
KH Nam
;
HJ Cho
;
Courboin Daniel
;
SH Jeong
;
IS Lee
;
C Shin
;
HS Kim
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
chemically amplified resist;
fogging effect;
loading effect;
proximity effect correction;
fogging effect correction;
50 kV e-beam system;
pattern density;
dose latitude;
contrast (γ) value;
53.
Flexible mask specifications
机译:
口罩规格灵活
作者:
Shigeki Nojima
;
Shoji Mimotogi
;
Masamitsu Itoh
;
Osamu Ikenaga
;
Shigeru Hasebe
;
Kohji Hashimoto
;
Soichi Inoue
;
Mineo Goto
;
Ichiro Mori
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
mask specifications;
lithography simulation;
hot spot patterns;
54.
Experimental and Numerical Studies of the Effects of Materials and Attachment Conditions on Pellicle-Induced Distortions in Advanced Photomasks
机译:
材料和附着条件对高级光掩模中膜片诱发畸变影响的实验和数值研究
作者:
Eric P. Cotte
;
Roxann L. Engelstad
;
Edward G. Lovell
;
Daniel Tanzil
;
Florence O. Eschbach
;
Emily Y. Shu
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
pellicle;
distortion;
overlay;
reticle;
photomask;
lithography;
55.
Solution for 100nm - EBM-4000 -
机译:
100nm解决方案-EBM-4000-
作者:
Yoshiaki Hattori
;
Kiyoshi Hattori
;
Ken-ichi Murooka
;
Takayuki Abe
;
Satoshi Yasuda
;
Taiga Uno
;
Eiji Murakamai
;
Noriaki Nakayamada
;
Naoharu Shimomura
;
Ttsuyoshi Yamashita
;
Noboru Yamada
;
Akihiro Sakai
;
Hirohiko Honda
;
Toshiaki Shimoyama
;
Kiyoshi Nakaso
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
56.
Study of Defect Printability Analysis on Alternating Phase Shifting Masks
机译:
交替相移掩模的缺陷可印性分析研究
作者:
Linyong Pang
;
Qi-De Qian
;
Kevin Chan Yasutaka Morikawa
;
Masaharu Nishiguchi
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
alternating aperture PSM;
defect inspection;
defect printability analysis;
57.
Early Mask Results of KRS-XE and Current Progress in Improving Sensitivity and Etch Resistance
机译:
KRS-XE的早期面膜结果以及提高敏感性和耐蚀性的最新进展
作者:
Christina Deverich
;
Andrew Watts
;
Paul Rabidoux
;
Thomas Cardinali
;
William Aaskov
;
Peter Levin
;
Wu-Song Huang
;
Wayne Moreau
;
Marie Angelopoulos
;
Karen Petrillo
;
David Medeiros
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
chemically amplified resist (CAR);
KRS-XE;
mask;
CD uniformity;
e-beam lithography;
58.
The 157nm Lithography Program at International SEMATECH
机译:
国际SEMATECH的157nm光刻技术
作者:
Giang Dao
;
Anthony Yen
;
Walt Trybula
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
59.
Template of Specifications for Assist Feature Script Implementation
机译:
辅助功能脚本实现的规范模板
作者:
Shih-Ying Chen
;
Eric C. Lynn
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
60.
EPL mask fabrication
机译:
EPL掩模制作
作者:
Michael Lercel
;
Carey Williams
;
Mark Lawliss
;
Robin Ackel
;
Louis Kindt
;
Emily Fisch
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
electron beam projection lithography;
next generation lithography;
mask;
stencil;
61.
EPL Technology Development
机译:
EPL技术开发
作者:
Kazuaki Suzuki
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
electron projection lithography (EPL);
EPL reticle;
stencil reticle;
image blur;
proximity effect correction;
stitching;
vacuum stage;
error budget;
62.
The Characteristics of Residues and Optical Change of HT PSM during Stepwise Wet Cleaning and Optimization of HT PSM Cleaning Process
机译:
逐步湿法清洗中HT PSM的残留特征和光学变化及HT PSM清洗工艺的优化
作者:
Woo-Gun Jeong
;
Dae-Woo Kim
;
Chang-Min Park
;
Ki-Won An
;
Dong-Heok Lee
;
Jin-Min Kim
;
Sang-Soo Choi
;
Soo-Hong Jeong
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
DHF;
FPM;
SPM;
dilute SC-1;
GAE repair;
HT PSM;
SL3UV;
SEM;
XPS;
63.
EUVL Mask Fabrication for the 45-nm Node
机译:
用于45纳米节点的EUVL掩模制造
作者:
Emily Fisch
;
Louis Kindt
;
Michael Lercel
;
Ken Racette
;
Carey Williams
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
64.
Raster Scan Patterning Solution for 100nm and 70nm OPC Masks
机译:
适用于100nm和70nm OPC掩模的光栅扫描图案解决方案
作者:
Frank Abboud
;
Ki-Ho Baik
;
Varoujan Chakarian
;
Damon Cole
;
Robert Dean
;
Mark Gesley
;
Herb Gillman
;
William Moore
;
Mark Mueller
;
Bob Naber
;
Tom Newman
;
Romin Puri
;
F. Raymond Ⅲ
;
Mario Rougieri
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
MEBES;
electron beam lithography;
e-beam;
photomask;
raster graybeam;
hierarchical data;
65.
Phase assignment for bright field of dense contact
机译:
密集接触的明场的相位分配
作者:
Nail Tang
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
PSM;
alternating PSM;
phase assignment;
assist feature;
scattering bar;
OPC;
hybrid OPC;
66.
Pellicle-Induced Distortions in Advanced Photomasks
机译:
先进光掩模中的薄膜诱发的畸变
作者:
Minoru Fujita
;
Masaya Akiyama
;
Masahiri Kondo
;
Hiroaki Nakagawa
;
Daniel Tanzil
;
Florence O. Eschbach
;
Eric P. Cotte
;
Roxann L. Engelstad
;
Edward G. Lovell
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
67.
Fabrication of the 70-nm line patterns with ArF chromeless phase-shift masks
机译:
使用ArF无铬相移掩膜制作70 nm线型
作者:
Haruo Iwasaki
;
Shinji Ishida
;
Takeo Hashimoto
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
ArF lithography;
phase shift mask (PSM);
chromeless;
70-nm line pattern;
68.
Pattern Recognition in the Database of a Mask Layout
机译:
掩膜版图数据库中的图案识别
作者:
Shih-Ying Chen
;
Eric C. Lynn
;
J.J. Shin
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
69.
Distributed Hierarchical Processing
机译:
分布式分层处理
作者:
Paul DePesa
;
Danny Keogan
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
data prep;
hierarchical;
linux;
distributed processing;
fracture;
CATS;
CREF;
70.
Polarized Phase Shift Mask: Concept, Design, and Potential Advantages to Photolithography Process and Physical Design
机译:
偏振相移掩模:光刻工艺和物理设计的概念,设计和潜在优势
作者:
Ruoping Wang
;
Warren Grobman
;
Alfred Reich
;
Matthew Thompson
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
phase shift mask;
polarized light;
phase conflict;
physical design;
71.
Detection of Half-tone PSM Pinhole with DUV Reflected Light Source
机译:
DUV反射光源检测半色调PSM针孔
作者:
Takeshi Fujiwara
;
Hiromu Inoue
;
Kentaro Okuda
;
Takehiko Nomura
;
Mitsuo Tabata
;
Satoshi Endo
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
photolithography mask;
phase shift mask;
reflected light source;
defect;
inspection;
72.
Design flow automation for variable shaped beam pattern generators
机译:
可变形状光束图案发生器的设计流程自动化
作者:
Martin Bloecker
;
Gerd Ballhorn
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
design flow;
automation;
variable shaped beam;
pattern generator;
CATS~(TM);
distributed processing;
73.
Defect Dispositioning Using Mask Printability Analysis on Alternating Phase Shifting Masks
机译:
使用交替相移掩模的掩模可印性分析进行缺陷处理
作者:
Chung-Hsing Chang
;
Chen-Hao Hsieh
;
San-De Tzu
;
Chun-Ming Dai
;
Burn J. Lin
;
Linyong Pang
;
Qi-De Qian
;
Jiunn-Hung Chen
;
Jason Huang
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
alternating aperture phase shifting mask;
defect inspection;
defect printability;
defect dispositioning;
74.
Defect printability for 100nm design rule using 193nm lithography
机译:
使用193nm光刻技术进行100nm设计规则的可印刷性缺陷
作者:
Vicky Philipsen
;
Rik Jonckheere
;
Stephanie Kohlpoth
;
Andres Torres
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
defect printability;
193nm lithography;
soft defects;
100nm node;
reticle quality;
75.
Data processing for LEEPL mask: splitting and placement correction
机译:
LEEPL遮罩的数据处理:分割和放置校正
作者:
Isao ASHIDA
;
Shinji OMORI
;
Hidetoshi OHNUMA
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
NGL;
LEEPL;
COSMOS;
mask data processing;
stencil;
complementary mask;
strain;
placement correction;
76.
A New Resolution Enhancement Method Realizing the Limit of Single Mask Exposure
机译:
实现单个掩模曝光极限的新分辨率增强方法
作者:
Kenji Yamazoe
;
Masanobu Hasegawa
;
Kenji Saitoh
;
Akiyoshi Suzuki
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
optical lithography;
resolution enhancement technique;
IDEAL;
IDEALSmile;
contact hole;
MEEF;
77.
Comparison Between Positive and Negative 50k ev E-beam CAR For 0.1 um Generation
机译:
正负50k ev电子束CAR产生0.1 um的比较
作者:
Denis Lin
;
Kevin Hung
;
Don Lee
;
Rex Chou
;
Unno Hiromasa
;
Samuel Yang
;
Toppan Chunghua
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
78.
Characteristics of Negative-tone Chemically Amplified Resist (MES-EN1G) for 50keV EB Mask Writing System
机译:
50keV EB掩模写入系统的负性化学放大抗蚀剂(MES-EN1G)的特性
作者:
Takehiro Kondoh
;
Masamitsu Itoh
;
Toshiyuki Kai
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
resist;
VSB;
e-beam;
negative-tone;
chemically amplified;
79.
An investigation into mask contribution to device performance and chip functionality
机译:
调查掩模对设备性能和芯片功能的贡献
作者:
Andrew J. Watts
;
Jed H. Rankin
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
80.
Alternating Phase Shifting Masks: Phase Determination and Impact of Quartz Defects ― Theoretical Experimental Results
机译:
交替相移掩模:石英缺陷的相测定和影响―理论与实验结果
作者:
Uwe A. Griesinger
;
Wolfgang Dettmann
;
Mario Hennig
;
Jan Heumann
;
Roderick Koehle
;
Ralf Ludwig
;
Martin Verbeek
;
Mardjan Zarrabian
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
alternating phase shifting mask;
phase balancing;
AIMS;
phase measurement;
3D mask simulation;
quartz defect;
phase defect repair;
MSM-100;
MSM-193;
81.
CAR dry etching technology to produce 0.13 um reticle
机译:
CAR干法刻蚀技术可生产0.13 um标线
作者:
Wei-Zen Chou
;
Fei-Gwo Tsai
;
C.C.Tuo
;
C.S.Yoo
;
T.S. Tsai
;
Lawrence Shue
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
82.
Improved Method for Measuring and Assessing Reticle Pinhole Defects for the 100nm Lithography Node
机译:
测量和评估100nm光刻节点的掩模版针孔缺陷的改进方法
作者:
Darren Taylor
;
Anthony Vacca
;
Larry Zurbrick
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
inspection;
pinhole;
printability;
83.
A novel baking technology using halogen lamps for higher precision photomask fabrication
机译:
使用卤素灯的新型烘烤技术,可用于更高精度的光掩模制造
作者:
Hideaki Sakurai
;
Masamitsu Itoh
;
Noboru Fujiwara
;
Satoshi Yasuda
;
Takiji Ishimura
;
Shigeru Wakayama
;
Shinichi Ito
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
84.
Simulation Based Defect Printability Analysis on Attenuated Phase Shifting Masks
机译:
基于仿真的衰减相移掩模缺陷可印性分析
作者:
Linyong Pang
;
Qi-De Qian
;
Kevin Chan
;
Nobuhito Toyama
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
attenuated PSM;
halftone mask;
defect inspection;
defect printability;
85.
The Process of Manufacturing and Inspection of High-end (Ternary) Tritone EAPSM Reticles for 0.13μm Design Rule Generation
机译:
高端(三元)Tritone EAPSM掩模版的制造和检查过程,生成0.13μm设计规则
作者:
Steve Tuan
;
Gidi Gottlib
;
Anja Rosenbusch
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
AEPSM;
tritone PSM inspection;
attenuated phase shift mask;
mask inspection;
UV inspection;
flexible light calibration;
86.
Imaging Capability of Low-Energy Electron-Beam Proximity-Projection Lithography Toward the 70 nm Node
机译:
低能电子束接近投影光刻技术对70 nm节点的成像能力
作者:
Hiroyuki Nakano
;
Kumiko Oguni
;
Shinichiro Nohdo
;
Kaoru Koike
;
Shigeru Moriya
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
electron beam lithography;
LEEPL;
stencil mask;
complementary alignment;
multi layer resist process;
87.
Impact of Deformation of the Edges of Two Complementary Patterns on Electron Beam Projection Lithography Mask Making
机译:
两种互补图形边缘变形对电子束投影光刻掩模制作的影响
作者:
Hisatake Sano
;
Kenichi Morimoto
;
Yuuki Aritsuka
;
Hiroshi Fujita
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
88.
Two-dimensional G-MEEF Theory and Applications
机译:
二维G-MEEF理论与应用
作者:
Yuri Granik
;
Nick Cobb
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
MEEF;
MEF;
G-MEEF;
mask error factor;
mask error enhancement factor;
OPC;
89.
Use of Nanomachining for Subtractive Repair of EUV and Other Challenging Mask Defects
机译:
纳米加工在EUV和其他具有挑战性的面膜缺陷的减法修复中的应用
作者:
David Brinkley
;
Roy White
;
Ron Bozak
;
Ted Liang
;
Gang Liu
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
90.
Improvements in MoSi EAPSM CD Bias and Iso-Dense Linearity Plasma Etch Results Utilizing Design of Experiments Process Optimization of Gen Ⅲ ICP Plasma Source
机译:
利用实验设计改进GenⅢICP等离子体源的MoSi EAPSM CD偏置和等密度线性等离子体蚀刻结果
作者:
J. Plumhoff
;
C. Constantine
;
J. Shin
;
E. Rausa
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
91.
Application of vector scan electron beam lithography to 45nm node extreme ultraviolet lithography reticles
机译:
矢量扫描电子束光刻技术在45nm节点极紫外光刻掩模版中的应用
作者:
David Walker
;
DP Mathur
;
Clyde Su
;
Torey Huang
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
92.
Assessment of Mask Quality Assurance Method of Critical Layers with High MEEF
机译:
高MEEF的关键层掩模质量保证方法的评估
作者:
Hiroyuki ISHIDA
;
Michihide TANAKA
;
Yasuhiro Mizuma
;
Tetuya KITAGAWA
;
Akihiro OGURA
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
pixel grid;
mask inspection;
mask quality;
93.
Highly Anisotropic Etching of Phase Shift Masks Using ICP of CF_4-SF_6-CHF_3 gas mixtures
机译:
使用CF_4-SF_6-CHF_3混合气体的ICP对相移掩模进行高度各向异性刻蚀
作者:
Se-Jong Choi
;
Han-Sun Cha
;
Si-Yeul Yoon
;
Yong-Dae Kim
;
Dong-Hyuk Lee
;
Jin-Min kim
;
Jin-Su Kim
;
Dong-Soo Min
;
Pil-Jin Jang
;
Byung-Soo Chang
;
Hyuk-Joo Kwon
;
Boo-Yeon Choi
;
Sang-Soo Choi
;
Soo Hong Jeong
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
phase shift mask;
sidewall passivation;
surface roughness;
anisotropy;
CHF_3;
SF_6;
MoSiON;
94.
NEGATIVE-CAR blanks feasibility study results for EB reticle fabrication beyond 100 nm node
机译:
超过100 nm节点的EB掩模版制造的NEGATIVE-CAR坯料可行性研究结果
作者:
Fumiko Ota
;
Masahiro Hashimoto
;
Keishi Asakawa
;
Takao Higuchi
;
Yasunori Yokoya
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
photomask;
reticle;
blanks;
CAR (chemically amplified resist);
PCD (post-coating delay);
PED (post-exposure delay);
excess-undercut;
fidelity;
process latitude;
95.
Molecular Contamination Control in Photomask/Reticle Manufacturing using Chemically Amplified Resists (CAR) Lessons from Wafer Lithography
机译:
晶圆光刻技术中使用化学放大的抗蚀剂(CAR)进行光掩模/掩模版生产中的分子污染控制
作者:
James S. Hudzik
;
Oleg P. Kishkovich
;
John K. Higley
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
t-topping;
amines;
photoresist contamination;
chemically amplified photoresist delay stability;
CD control;
post exposure delay;
96.
100kV High Resolution E-Beam Lithography System, JBX-9300FS
机译:
100kV高分辨率电子束光刻系统,JBX-9300FS
作者:
Hitoshi Takemura
;
Hirofumi Ohki
;
Moriyuki Isobe
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
97.
Metrology Methods Comparison for 2D Structures on Binary and Embedded Attenuated Phase Shift Masks
机译:
二进制和嵌入式衰减相移掩模上二维结构的计量方法比较
作者:
Matthew Lassiter
;
Benjamin Eynon
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
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2002年
关键词:
phase shift mask;
energy flux sizing;
automated visual inspection;
98.
Optimization of Alt-PSM structure for 100nm-node ArF lithography (part-2)
机译:
用于100nm节点ArF光刻的Alt-PSM结构的优化(第二部分)
作者:
Kei Mesuda
;
Nobuhito Toyama
;
Shogo Narukawa
;
Yasutaka Morikawa
;
Hiroshi Mohri
;
Naoya Hayashi
;
Morihisa Hoga
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX, Apr 23-25, 2002, Yokohama, Japan》
|
2002年
关键词:
alternating phase-shifting mask;
100nm-node ArF lithography;
mask structure;
computer simulation;
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