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Conference on extreme ultraviolet lithography V
Conference on extreme ultraviolet lithography V
召开年:
2014
召开地:
San Jose, CA(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
Integration of an EUV Metal Layer: A 20/14nm Demo
机译:
EUV金属层的集成:20 / 14nm演示
作者:
Craig Higgins
;
Erik Verduijn
;
Xiang Hu
;
Liang Wang
;
Mandeep Singh
;
Jerome Wandell
;
Sohan Mehta
;
Jean Raymond Fakhoury
;
Mark Zaleski
;
Yi Zou
;
Hui Peng Koh
;
Pawitter Mangat
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV Integration;
Black border mask;
Mask defect mitigation;
Lithography Process optimization;
2.
Experimental verification of the effect of phase defect shape on ABI signal intensity
机译:
相位缺陷形状对ABI信号强度影响的实验验证
作者:
Noriaki Takagi
;
Tsuneo Teresawa
;
Yukiyasu Arisawa
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV-mask;
Actinic Blank inspection;
ABI;
Simulation;
Phase defect shape;
Phase defect;
programmed phase defect;
3.
Effect of Defects on Extreme Ultraviolet Pellicle
机译:
缺陷对极端紫外线细胞膜的影响
作者:
In-Seon Kim
;
Guk-Jin Kim
;
Michael Yeung
;
Eytan Barouch
;
Mun-Ja Kim
;
Seong-Sue Kim
;
Ji-Won Kim
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV lithography;
contamination;
defect;
pellicle;
4.
Clean and Stable LPP Light Source for HVM Inspection Applications
机译:
用于HVM检查应用的干净稳定的LPP光源
作者:
Bob Rollinger
;
Nadia Gambino
;
Andrea Z. Giovannini
;
Luna S. Bozinova
;
Flori Alickaj
;
Konrad Hertig
;
Reza S. Abhari
;
Fariba Abreau
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV source;
LPP;
EUVL;
optical lithography;
droplets;
tin;
5.
Analysis of phase defect effect on contact hole pattern using a programmed phase defect in EUVL mask
机译:
使用EUVL掩模中的已编程相位缺陷分析相位缺陷对接触孔图案的影响
作者:
Yongdae Kim
;
Tsuneo Terasawa
;
Tsuyoshi Amano
;
Sunghyun Oh
;
Yoonsuk Hyun
;
Hidehiro Watanabe
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUVL mask;
mask blank;
phase defect;
contact hole;
printability;
multilayer;
6.
Aerial Image Deformation Caused by Various Defects of EUV Pellicles
机译:
EUV薄膜的各种缺陷引起的航空图像变形
作者:
Sung-Gyu Lee
;
Michael Yeung
;
Eytan Barouch
;
Mun-Ja Kim
;
Seong-Sue Kim
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUVL;
Pellicle;
Defects;
Aerial image deformation;
CD uniformity;
7.
Evaluation of EUV resist performance below 20-nm CD using helium ion lithography
机译:
使用氦离子光刻技术评估20纳米CD以下的EUV抗蚀剂性能
作者:
Diederik Maas
;
Emile van Veldhoven
;
Anja van Langen-Suurling
;
Paul F.A. Alkemade
;
Sander Wuister
;
Rik Hoefnagels
;
Coen Verspaget
;
Jeroen Meessen
;
Timon Fliervoet
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
Lithography;
EUV lithography;
Scanning Helium Ion Beam Lithography;
EUV resist characterization;
Helium Ion Microscope;
Proximity effect;
Energy transfer;
8.
High Speed EUV using post processing and self-aligned double patterning as a speed enhancement technique
机译:
使用后处理和自对准双图案作为速度增强技术的高速EUV
作者:
Jerome Wandell
;
Anton deVilliers
;
Lior Huli
;
Serge Biesemans
;
Kathleen Nafus
;
Mike Carcasi
;
Jeff Smith
;
Dave Hetzer
;
Craig Higgins
;
Vinayak Rastogi
;
Erik Verduijn
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV;
High throughput;
double patterning;
self-align;
spacer;
pitch split;
SADP;
self-aligned double patterning;
low k1 imaging;
lithography;
9.
At wavelength observation of phase defect embedded in EUV mask using microscope technique
机译:
使用显微镜技术在EUV掩模中嵌入的相缺陷的波长观察
作者:
Tsuneo Terasawa
;
Tsuyoshi Amano
;
Takeshi Yamane
;
Hidehiro Watanabe
;
Mitsunori Toyoda
;
Tetsuo Harada
;
Takeo Watanabe
;
Hiroo Kinoshita
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV microscope;
phase defect;
multilayer;
at wavelength observation;
mask;
10.
The Factors affecting improvement of sensitivity, CDU and resolution in EUV resist
机译:
影响EUV光刻胶灵敏度,CDU和分辨率提高的因素
作者:
Joonhee Han
;
Hyun Soon Lim
;
Jin Ho Kim
;
Sumi Choi
;
Jin Bong Shin
;
Chang Wan Bae
;
In Young Yoo
;
Bong Ha Shin
;
Eun Kyo Lee
;
Hyun Sang Joo
;
Dong Chul Seo
;
Jun Sung Chun
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV resist;
CDU;
solvent;
Mw;
polymer blending PAG;
11.
Stochastic and systematic patterning failure mechanisms for contact-holes in EUV lithography (part 2)
机译:
EUV光刻中接触孔的随机和系统构图破坏机理(第2部分)
作者:
Alessandro Vaglio Pret
;
Peter De Bisschop
;
Mark D. Smith
;
John J. Biafore
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV lithography;
local contact-hole uniformity;
printability limits;
photon shot noise;
NILS;
12.
Fast rigorous model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in EUV lithography
机译:
快速严格的掩模谱模型,用于仿真和分析EUV光刻中的掩模阴影效应
作者:
Xiaolei Liu
;
Xiangzhao Wang
;
Sikun Li
;
Guanyong Yan
;
Andreas Erdmann
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV lithography;
mask model;
shadowing effect;
pattern shift;
CD bias;
13.
Correlation study on resist outgassing between EUV and E-beam irradiation
机译:
EUV与电子束辐照下抗蚀剂脱气的相关性研究
作者:
Yukiko Kikuchi
;
Kazuhiro Katayama
;
Isamu Takagi
;
Norihiko Sugie
;
Toshiya Takahashi
;
Eishi Shiobara
;
Hiroyuki Tanaka
;
Soichi Inoue
;
Takeo Watanabe
;
Tetsuo Harada
;
Hiroo Kinoshita
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV;
E-beam;
outgassing;
resist;
CAR;
PAG;
protecting group;
witness sample;
RGA;
14.
Development of an EUVL collector with infrared radiation suppression
机译:
开发具有红外线抑制功能的EUVL收集器
作者:
Michael Kriese
;
Yuriy Platonov
;
Bodo Ehlers
;
Licai Jiang
;
Jim Rodriguez
;
Ulrich Mueller
;
Jay Daniel
;
Shayna Khatri
;
Adam Magruder
;
Steven Grantham
;
Charles Tarrio
;
Thomas Lucatorto
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV;
collector;
infra-red;
IR suppression;
multilayer;
MoSi;
grating;
smoothening;
15.
The economic impact of EUV lithography on critical process modules
机译:
EUV光刻对关键工艺模块的经济影响
作者:
Arindam Mallik
;
Naoto Horiguchi
;
Juergen Boemmels
;
Aaron Thean
;
Kathy Barla
;
Geert Vandenberghe
;
Kurt Ronse
;
Julien Ryckaert
;
Abdelkarim Mercha
;
Altimime Laith
;
Diederik Verkest
;
An Steegen
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
Cost of Ownership;
EUV Lithography;
FinFET technology;
16.
Predicting LER PSD Caused by Mask Roughness Using a Mathematical Model
机译:
使用数学模型预测由掩模粗糙度引起的LER PSD
作者:
Rene A. Claus
;
Andrew R. Neureuther
;
Laura Waller
;
Patrick P. Naulleau
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
Extreme Ultraviolet Lithography;
Mask Roughness;
LER;
Speckle;
Power Spectral Density;
17.
SEMATECH's Cycles of Learning Test for EUV Photoresist and its applications for Process Improvement
机译:
SEMATECH EUV光刻胶的学习测试周期及其在工艺改进中的应用
作者:
Jun Sung Chun
;
Shih-Hui Jen
;
Karen Petrillo
;
Cecilia Montgomery
;
Dominic Ashworth
;
Mark Neisser
;
Takashi Saito
;
Lior Huli
;
David Hetzer
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
Cycles of learning test;
Line width roughness (LWR);
Local CD uniformity (LCDU);
Extreme ultraviolet lithography (EUVL);
Smoothing;
FIRM™;
18.
Deconstructing contact hole CD printing variability in EUV lithography
机译:
解构EUV光刻中的接触孔CD打印变异性
作者:
D. Civay
;
T. Wallow
;
N. Doganaksoy
;
E. Verduijn
;
G. Schmid
;
P. Mangat
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV;
LCDU;
shot noise;
metrology;
contact holes;
19.
A study of the effect of pellicle support structure on aerial-image quality in EUV lithography by rigorous electromagnetic simulation
机译:
严格电磁仿真研究EUV光刻中防护膜支撑结构对航拍质量的影响
作者:
Michael S. Yeung
;
Eytan Barouch
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV mask;
EUV pellicle;
lithography simulation;
20.
Super-flat wafer chucks: from simulation and testing to a complete 300mm wafer chuck with low wafer deformation between pins
机译:
超平晶片卡盘:从仿真和测试到完整的300mm晶片卡盘,插针之间的晶片变形小
作者:
Renate Muelle
;
Konstantin Afanasiev
;
Marcel Ziemann
;
Volker Schmidt
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
wafer chuck;
wafer;
ultra-flat;
anti-sticking;
pin pattern;
burls;
simulation;
testing;
21.
AIS wavefront sensor: a robust optical test of exposure tools using localized wavefront curvature
机译:
AIS波前传感器:使用局部波前曲率对曝光工具进行强大的光学测试
作者:
Ryan Miyakawa
;
Xibin Zhou
;
Michael Goldstein
;
Dominic Ashworth
;
Kevin Cummings
;
Yu-Jen Fan
;
Yashesh Shroff
;
Gregory Denbeaux
;
Yudhi Kandel
;
Patrick Naulleau
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
optical testing;
wavefront;
aberration;
in-situ;
focus sensor;
22.
Design and Synthesis of Novel Resist Materials for EUVL
机译:
EUVL新型抗蚀材料的设计与合成
作者:
V. S. V. Satyanarayana
;
Vikram Singh
;
Subrata Ghosh
;
Satinder Sharma
;
Kenneth E. Gonsalves
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
Non-chemically amplified negative tone resists;
EB lithography;
EUV lithography;
23.
Observation of Phase defect on Extreme Ultraviolet Mask Using an Extreme Ultraviolet Microscope
机译:
用极紫外显微镜观察极紫外掩模上的相缺陷
作者:
Tsuyoshi Amano
;
Tsuneo Terasawa
;
Hidehiro Watanabe
;
Mitsunori Toyoda
;
Tetsuo Harada
;
Takeo Watanabe
;
Hiroo Kinoshita
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV;
EUV microscope;
phase defect;
defect mitigation;
compensation repair;
24.
EUV resist dissolution optimization for CD uniformity and defect control in coat develop track process
机译:
EUV抗蚀剂溶出度优化,可在涂层开发过程中优化CD均匀性和缺陷控制
作者:
Masahiko Harumoto
;
Harold Stokes
;
Yan Thouroude
;
Osamu Tamada
;
Tadashi Miyagi
;
Koji Kaneyama
;
Charles Pieczulewski
;
Masaya Asai
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
extreme ultraviolet lithography (EUVL);
coat develop track system;
EUV resist process;
25.
EUV resist simulation based on process parameters of pattern formation reaction
机译:
基于图案形成反应工艺参数的EUV抗蚀剂模拟
作者:
Norihiko Sugie
;
Toshiro Itani
;
Takahiro Kozawa
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
Extreme ultraviolet lithography;
trade-off;
sensitivity;
simulation;
26.
OBPL for the Best Solution to Resist Outgassing and Out-of-Band Issues in EUVL toward 1Xnm hp
机译:
OBPL是抵制EUVL中向1Xnm hp排气和带外问题的最佳解决方案
作者:
Noriaki Fujitani
;
Rikimaru Sakamoto
;
Takafumi Endo
;
Hiroaki Yaguchi
;
Ryuji Onishi
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV lithography;
photo resist outgassing;
out-of-band;
Outgassing Out-of-Band Protection Layer (OBPL);
27.
Study of angular effects for optical systems into the EUV
机译:
研究EUV中光学系统的角效应
作者:
Andrew Burbine
;
Zac Levinson
;
Anthony Schepis
;
Bruce W. Smith
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
Mask 3D effects;
sidewall angle;
source shapes;
CD bias;
absorber thickness;
28.
193 nm Inspection of Extreme-Ultraviolet Mask Absorber Defect
机译:
极紫外掩模吸收剂缺陷的193 nm检查
作者:
Guk-Jin Kim
;
In-Seon Kim
;
Michael Yeung
;
Chang-Moon Lim
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
193 nm inspection;
EUV mask;
EUV mask inspection;
29.
Clear Sub-Resolution Assist Features for EUV
机译:
清除EUV的子解决方案辅助功能
作者:
Martin Burkhardt
;
Greg McIntyre
;
Ralph Schlief
;
Lei Sun
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV Lithography;
SRAF;
Assist Features;
OPC;
Bossung Tilt;
Focus Shift;
30.
Investigating Printability of Native Defects on EUV Mask Blanks through Simulations and Experiments
机译:
通过模拟和实验研究EUV掩模毛坯上的天然缺陷的可印刷性
作者:
Mihir Upadhyaya
;
Vibhu Jindal
;
Henry Herbol
;
Il-Yong Jang
;
Hyuk Joo Kwon
;
Jenah Harris-Jones
;
Gregory Denbeaux
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
31.
Repetitive operation of counter-facing plasma focus device: toward a practical light source for EUV lithography
机译:
对面等离子聚焦装置的重复操作:朝着EUV光刻的实用光源方向发展
作者:
Tatsuya Sodekoda
;
Hajime Kuwabara
;
Masashi Masuda
;
Shijia Liu
;
Kouki Kanou
;
Kenta Kawaguchi
;
Kazuhiko Horioka
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV;
light source;
plasma focus;
counter-facing;
32.
Temporal and spatial dynamics of a laser-produced plasma through a multiple Langmuir probe detector
机译:
通过多个Langmuir探测器检测到的激光产生等离子体的时空动态
作者:
Nadia Gambino
;
Markus Brandstaetter
;
Bob Rollinger
;
Reza S. Abhari
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
Laser Plasma;
Langmuir Probe;
Droplet Target;
EUV Lithography;
33.
EUV source modeling
机译:
EUV源代码建模
作者:
S. Kulkarni
;
I. Golovkin
;
J. MacFarlane
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
34.
Imaging performance of attenuated phase-shift mask using Coherent Scattering Microscope
机译:
相干散射显微镜对衰减相移掩模的成像性能
作者:
Jae Uk Lee
;
SeeJun Jeong
;
Seong Chul Hong
;
Seung Min Lee
;
Jinho Ahn
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV;
mask;
PSM;
CSM;
actinic inspection;
image contrast;
NILS;
H-V CD bias;
35.
OPTIMIZATION OF PROCESSING PARAMETERS METROLOGY FOR NOVEL NCA NEGATIVE RESISTS FOR NGL
机译:
NGL新型NCA阴性电阻的加工参数和计量的优化
作者:
Vikram Singh
;
V. S. V. Satynarayana
;
Felipe Kessler
;
Francine R. Scheffer
;
Daniel E. Weibel
;
Satinder K. Sharma
;
Subrata Ghosh
;
Kenneth E. Gonsalves
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EBL;
EUVL;
non-Chemical Amplified Resist;
PEB;
PAB;
Surface roughness;
Contrast;
Sensitivity and Etch resistance;
36.
Improvement of defect mitigation with EUV Actinic Blank Inspection Prototype for 16 nm hp
机译:
使用EUV光化空白检测原型针对16 nm hp改善缺陷缓解
作者:
Tetsunori Murachi
;
Tsuyoshi Amano
;
Tomohiro Suzuki
;
Hiroki Miyai
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
Extreme ultra-violet lithography;
EUVL mask blanks;
multi-layers;
fiducial mark;
phase defects;
defect mitigation;
EUV actinic blank inspection tool;
defect location accuracy;
37.
Evaluations of negative tone development resist and process for EUV lithography
机译:
负色调显影抗蚀剂和EUV光刻工艺的评估
作者:
Toshiya Takahashi
;
Noriaki Fujitani
;
Toshiro Itani
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV;
negative tone development;
resist;
underlayer;
rinse;
38.
Aerial Image of Mesh Supported Extreme Ultra-Violet Pellicle
机译:
网格支撑的极紫外光囊的航拍图像
作者:
Ki-ho Ko
;
Guk-Jin Kim
;
Michael Yeung
;
Eytan Barouch
;
Mun-Ja Kim
;
Seung-Sue Kim
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV;
Pellicle;
Mesh support;
39.
Designing extreme-ultraviolet lithographic objective for 11 nm node
机译:
设计用于11 nm节点的极紫外光刻物镜
作者:
Zhen Cao
;
Yanqiu Li
;
Fei Liu
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV lithography;
lithographic objective;
grouping design;
six-mirror system;
high-NA;
40.
Optimization of image-based aberration metrology for EUV lithography
机译:
EUV光刻的基于图像的像差计量的优化
作者:
Zac Levinson
;
Germain Fenger
;
Andrew Burbine
;
Anthony R. Schepis
;
Bruce W. Smith
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV aberrations;
aberration metrology;
aberration retrieval;
image-based aberration metrology;
41.
TNO Reticle Handling Test Platform
机译:
TNO标线处理测试平台
作者:
W.E. Crowcombe
;
C.L. Hollemans
;
E.C. Fritz
;
J.C.J. van der Donck
;
N.B. Koster
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
reticle handling;
EUV;
particle free;
ultra-clean;
42.
Limitations of Resist-Based Characterization of EUV Mask Surface Roughness
机译:
EUV掩模表面粗糙度的基于抗蚀剂的表征的局限性
作者:
Suchit Bhattarai
;
Andrew R. Neureuther
;
Patrick P. Naulleau
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
stochastic resist model (SRM);
chemically amplified resist;
mask surface roughness;
43.
At-Wavelength Observation of Phase Defect Using Focused Lensless Microscope
机译:
使用聚焦无镜显微镜在波长下观察相位缺陷
作者:
Tetsuo Harada
;
Yusuke Tanaka
;
Tsuyoshi Amano
;
Youichi Usui
;
Takeo Watanabe
;
Hiroo Kinoshita
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
Extreme ultraviolet lithography;
EUV mask;
micro coherent EUV scatterometry microscope;
phase defect;
44.
Characterization of high-resolution HafSOx inorganic resists
机译:
高分辨率HafSOx无机抗蚀剂的表征
作者:
R. P. Oleksak
;
G. S. Herman
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
Inorganic resist;
electron beam lithography;
solution film deposition;
hafnium oxide;
thin film;
cross-sectional TEM;
45.
Evaluating vacuum components for particle performance for EUV lithography
机译:
评估真空组件的EUV光刻颗粒性能
作者:
Yashdeep Khopkar
;
Gregory Denbeaux
;
Vibhu Jindal
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV Lithography;
mask defectivity;
particle contamination;
vacuum component testing;
46.
High-resist sensitization by pattern and flood combination lithography
机译:
图案和水浸组合光刻法进行高抗蚀剂敏化
作者:
Seiichi Tagawa
;
Akihiro Oshima
;
Satoshi Enomoto
;
C. Q. Dinh
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV;
PS-CAR;
PF combination lithography;
EB;
resist sensitivity;
RLS trade off;
47.
Ptychographic wavefront sensor for high-NA EUV inspection and exposure tools
机译:
用于高NA EUV检查和曝光工具的谱图波前传感器
作者:
Antoine Wojdyla
;
Ryan Miyakawa
;
Patrick Naulleau
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
48.
Laser Produced Plasma Light Source Development for HVM
机译:
用于HVM的激光生产等离子光源开发
作者:
Igor V. Fomenkov
;
David C. Brandt
;
Nigel R. Farrar
;
Bruno La Fontaine
;
David W. Myers
;
Daniel J. Brown
;
Alex I. Ershov
;
Norbert R. Boewering
;
Daniel J. Riggs
;
Robert J. Rafac
;
Silvia De Dea
;
Michael Purvis
;
Rudy Peeters
;
Hans Meiling
;
Noreen Harned
;
Daniel Smith
;
Robert Kazinczi
;
Alberto Pirati
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV source;
EUV lithography;
laser-produced plasma;
collector;
droplet generator;
49.
Emission properties of Tin droplets laser-produced-plasma light sources
机译:
锡滴激光产生的等离子光源的发射特性
作者:
Chen Hong
;
Wang Xinbing
;
Zuo Duluo
;
Lu Peixiang
;
Zhu Haihong
;
Wu Tao
会议名称:
《Conference on extreme ultraviolet lithography V》
|
2014年
关键词:
EUV source;
lithography;
laser produced plasma;
tin droplets;
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