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Conference on photomask technology
Conference on photomask technology
召开年:
2013
召开地:
Monterey, CA(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
Computational Mask Defect Review for Contamination and Haze Inspections
机译:
计算口罩缺陷检查以进行污染和雾霾检查
作者:
Paul Morgan
;
Daniel Rost
;
Daniel Price
;
Noel Corcoran
;
Masaki Satake
;
Peter Hu
;
Danping Peng
;
Dean Yonenaga
;
Vikram Tolani
;
Yulian Wolf
;
Pinkesh Shah
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
32nm and below;
Computational Review;
Computational Lithography;
Pattern Recovery;
Inverse Lithography;
Actinic Inspection;
Aerial Inspection;
High Resolution Inspection;
Contamination inspection;
D2DRf;
nonD2D;
2.
Defects on high resolution negative-tone resist 'The revenge of the blobs'
机译:
高分辨率负性抗蚀剂“斑点的复仇”上的缺陷
作者:
M.I. Sanchez
;
L.K. Sundberg
;
L.D. Bozano
;
R. Sooriyakumaran
;
D.P. Sanders
;
T. Senna
;
M. Tanabe
;
T. Komizo
;
I. Yoshida
;
A.E. Zweber
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
negative-tone;
resist;
defects;
chemical flare;
3.
1D Design Style Implications for Mask Making and CEBL
机译:
面膜制作和CEBL的一维设计风格含义
作者:
Michael C. Smayling
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
1D GDR;
mask cost;
simple OPC;
multiple patterning;
4.
Charting CEBL's Role in Mainstream Semiconductor Lithography
机译:
绘制CEBL在主流半导体光刻中的作用
作者:
David K. Lam
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
CEBL;
EBDW;
Massively Parallel Pixel Writing;
MPPW;
Tennant's Law;
1D layout;
Line and Cuts;
450mm;
5.
Impact of Proximity Model Inaccuracy on Patterning in Electron Beam Lithography
机译:
邻近模型误差对电子束光刻中图案化的影响
作者:
Cheng-Hung Chen
;
Tsung-Chih Chien
;
P.Y. Liu
;
W.C. Wang
;
J.J. Shin
;
S.J. Lin
;
Burn J. Lin
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Electron beam lithography;
electron scattering;
proximity effect;
6.
Simulation and correction of resist charging due to fogging in electron-beam lithography
机译:
电子束光刻中由于起雾引起的抗蚀剂带电的仿真和校正
作者:
Sergey Babin
;
Sergey Borisov
;
Vladimir Militsin
;
Elena Patyukova
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
maskmaking;
critical dimensions;
placement error;
Monte Carlo;
electrons scattering;
fogging;
7.
Using Segmented Models for Initial Mask Perturbation and OPC Speedup
机译:
使用分段模型进行初始模板扰动和OPC加速
作者:
Ayman Hamouda
;
Mohab Anis
;
Karim S. Karim
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
OPC;
Model-based OPC;
initial OPC Bias;
Model-Based initial OPC Bias;
8.
A new mask linearity specification for EUV masks based on time dependent dielectric breakdown requirements
机译:
基于随时间变化的介电击穿要求的EUV掩模的新掩模线性指标
作者:
Keith Standiford
;
Christian Buergel
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
EUV;
proximity effect;
MPC;
data preparation;
mask process correction;
photo mask;
mask linearity;
TDDB;
9.
The Recovering Method of Etch Chamber Condition by using the Optical Emission Spectroscopy Monitoring System
机译:
利用光发射光谱监测系统恢复蚀刻室状态的方法
作者:
Choong Han Ryu
;
Jae Young Jun
;
Ho Yong Jung
;
Sang Pyo Kim
;
Dong Gyu Yim
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Chamber Cleaning;
OES;
Etch;
10.
Improving wafer level CD uniformity for logic applications utilizing mask level metrology process
机译:
利用掩模级计量和工艺为逻辑应用提高晶圆级CD的均匀性
作者:
Avi Cohen
;
Thomas Trautzsch
;
Ute Buttgereit
;
Erez Graitzer
;
Ori Hanuka
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Critical Dimension Uniformity (CDU);
WLCD;
CDC;
wafer CDU;
CD linearity;
intra-field CDU;
logic patterning;
11.
Recovering Effective Amplitude and Phase Roughness of EUV Masks
机译:
恢复EUV掩模的有效幅度和相位粗糙度
作者:
Rene A.Claus
;
IacopoMochi
;
Markus P. Benk
;
Kenneth A. Goldberg
;
Andrew R.Neureuther
;
Patrick P.Naulleau
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
extreme ultraviolet;
lithography;
mask roughness;
speckle;
thin mask;
phase roughness;
phase retrieval;
amplitude roughness;
12.
Reflecting on inspectability and wafer printability of EUV mask absorbers
机译:
关于EUV掩模吸收剂的可检查性和晶圆可印刷性的思考
作者:
Kazunori Seki
;
Karen Badger
;
Emily Gallagher
;
Gregory McIntyre
;
Toshio Konishi
;
Yutaka Kodera
;
Satoshi Takahashi
;
Vincent Redding
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
EUVL;
blank inspection;
mask inspection;
wafer printability;
defect sensitivity;
actinic image;
13.
The SEMATECH high-NA actinic reticle review project (SHARP) EUV mask-imaging microscope
机译:
SEMATECH高NA光化分划板审查项目(SHARP)EUV掩模成像显微镜
作者:
Kenneth A. Goldberg
;
Iacopo Mochi
;
Markus P. Benk
;
Chihcheng Lin
;
Arnaud Allezy
;
Michael Dickinson
;
Carl W. Cork
;
James B. Macdougall
;
Erik H. Anderson
;
Weilun Chao
;
Farhad Salmassi
;
Eric. M. Gullikson
;
Daniel Zehm
;
Vamsi Vytla
;
William Cork
;
Jason DePonte
;
Gino Picchi
;
Ahmet Pekedis
;
Takeshi Katayanagi
;
Michael G. Jones
;
Elizabeth Martin
;
Patrick P. Naulleau
;
Senajith B. Rekawa
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
extreme ultraviolet;
EUV;
mask;
microscope;
coherence;
imaging;
14.
EUV patterned mask inspection system using a projection electron microscope technique
机译:
使用投影电子显微镜技术的EUV图案化掩模检查系统
作者:
Hidehiro Watanabe
;
Ryoichi Hirano
;
Susumu Iida
;
Tsuyoshi Amano
;
Tsuneo Terasawa
;
Masahiro Hatakeyama
;
Takeshi Murakami
;
Shoji Yoshikawa
;
Kenji Terao
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Mask;
Defects;
Inspection;
Lithography;
EUV;
Projection electron microscope;
image processing;
learning function;
15.
Studying the Effects of Modified Surface Chemistry on Chrome Migration in Binary Photomasks
机译:
研究改性表面化学对二元光掩模中铬迁移的影响
作者:
Christopher Kossow
;
Peter Kirlin
;
Michael Green
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Chrome Migration;
SEM;
TEM;
XPS;
CDs;
photomask;
16.
2013 Photomask Japan Panel Discussion Summary: 'Future mask patterning technologies in the next decade: searching for the best mix solution'
机译:
2013 Photomask Japan小组讨论摘要:“未来十年的未来掩模图案技术:寻找最佳的混合解决方案”
作者:
Noriaki Nakayamada
;
Ichiro Kagami
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
17.
A novel design-based global CDU metrology for 1X nm node logic devices
机译:
基于新颖设计的1X nm节点逻辑器件的全局CDU度量
作者:
Young-Keun Yoon
;
Dong Hoon Chung
;
Min-Ho Kim
;
Jung-Uk Seo
;
Byung-Gook Kim
;
Chan-Uk Jeon
;
JiUk Hur
;
Wonil Cho
;
Tetsuya Yamamoto
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Photomask;
Metrology;
Inspection;
Logic;
Critical Dimension;
Uniformity;
CDU;
18.
Increased depth of field through wave-front coding: using an off-axis zone plate lens with cubic phase modulation in an EUV microscope
机译:
通过波前编码增加景深:在EUV显微镜中使用具有立方相位调制的离轴波带片透镜
作者:
Markus P. Benk
;
Kenneth A. Goldberg
;
Iacopo Mochi
;
Weilun Chao
;
Erik H. Anderson
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Wave front coding;
cubic phase modulation;
depth of focus;
depth of field;
EUV;
microscopy;
zone plate;
19.
Metrology Variability and its Impact in Process Modeling
机译:
计量可变性及其对过程建模的影响
作者:
Thiago Figueiro
;
Mohamed Saib
;
Kang-HoonChoi
;
ChristophHohle
;
Martin J. Thoraton
;
Cyril Vannuffel
;
Jean-HerveTortai
;
Patrick Schiavone
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Metrology Variability;
Process Variability;
Process Modeling;
Proximity Effect Correction;
Global Optimization;
Electron Beam Lithography;
Model Calibration;
20.
Efficient Full-chip Mask 3D Model for Off-Axis Illumination
机译:
用于轴外照明的高效全芯片掩模3D模型
作者:
Hongbo Zhang
;
Qiliang Yan
;
Lin Zhang
;
Ebo Croffie
;
Peter Brooker
;
Qian Ren
;
Yongfa Fan
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
21.
AF printability check with a full chip 3D resist profile model
机译:
使用全芯片3D抗蚀剂轮廓模型进行AF可打印性检查
作者:
Cheng-En Rich Wu
;
Jason Chang
;
Hua Song
;
James Shiely
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Compact 3D resist model;
resist profile;
AF printability check;
OPC;
reaction diffusion;
RET;
22.
Advancement of Fast EUV Lithography Modeling/Simulations and Applications on Evaluating Different Repair Options to EUV Mask Multilayer Defect
机译:
快速EUV光刻建模/仿真的进展以及在评估EUV掩模多层缺陷的不同修复方案方面的应用
作者:
Ying Li
;
Masaki Satake
;
Danping Peng
;
Peter Hu
;
Linyong (Leo) Pang
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
EUV;
DPS;
FDTD;
RCWA;
multilayer defect compensation;
23.
Performance of an Automatic Algorithm for Quantifying Critical Dimensions in Actinic Aerial Images
机译:
量化光化航空影像中关键尺寸的自动算法的性能
作者:
Doug Uzzel
;
Mark Ma
;
Shad E. Hedges
;
Saghir Munir
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
inspection;
image;
automatic;
disposition;
critical-dimension;
AHDC;
24.
An Accurate ILT-Enabling Full-Chip Mask 3D Model for All-Angle Patterns
机译:
适用于全角度图案的准确的支持ILT的全芯片掩模3D模型
作者:
Hongbo Zhang
;
Qiliang Yan
;
Ebo Croffie
;
Lin Zhang
;
Yongfa Fan
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
25.
Implementable and systematic mitigation of native defects in EUV masks
机译:
可以有效,系统地缓解EUV掩模中的固有缺陷
作者:
Wen-Chang Hsueh
;
Li-Chih Yeh
;
Ming-Jiun Yao
;
Yun-Yue Lin
;
Jia-Jen Chen
;
Shin-Chang Lee
;
Anthony Yen
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
26.
Investigation of EUVL Reticle Capping Layer Peeling under Wet Cleaning
机译:
湿法清洗EUVL掩模层的研究
作者:
Sherjang Singh
;
Davide Dattilo
;
Uwe Dietze
;
Arun John Kadaksham
;
Il-Yong Jang
;
Frank Goodwin
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
ultraviolet;
ruthenium damage;
contaminants;
radicals;
thermal stress;
mask cleaning;
EUVL;
27.
Mask automation : Need a revolution in mask makers and equipment industry
机译:
口罩自动化:需要在口罩制造商和设备行业进行一场革命
作者:
Seong-yong Moon
;
Sang-yong Yu
;
Young-hwa Noh
;
Ki-jung Son
;
Hyun-Joo Lee
;
Han-Ku Cho
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
automation;
SECS/GEM;
FDC;
mask facility automation;
mask industry;
28.
Direct phase-shift measurement of an EUV mask with gradient absorber thickness
机译:
具有梯度吸收层厚度的EUV掩模的直接相移测量
作者:
Hiroyoshi Tanabe
;
Tetsunori Murachi
;
Seh-Jin Park
;
Eric Gullikson
;
Tsukasa Abe
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
EUV mask;
phase-shift mask;
reflectometer;
topological effect;
29.
Full chip implant correction with wafer topography OPC modeling in 2x nm bulk technologies
机译:
采用2x nm批量技术的晶片形貌OPC建模进行全芯片注入校正
作者:
J-C. Michel
;
J-C. Le Denmat
;
E. Sungauer
;
F. Robert
;
E. Yesilada
;
A-M Armeanu
;
J. Entradas
;
J. L. Sturtevant
;
T. Do
;
Y. Granik
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
OPC;
wafer topography;
optical lithography;
ionic implantation;
underlying layer;
30.
Phase Preservation Study on ArF Mask For Haze-free Mask Resist Strip and Cleaning
机译:
ArF面膜用于无雾面膜抗蚀剂剥离和清洗的相保存研究
作者:
Irene Shi
;
Eric Guo
;
Eric Tian
;
Tracy Gu
;
Forrest Jiang
;
Sandy Qian
;
Daisuke Matsushima
;
Jinyuan Pang
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Phase preservation;
Ozonated water;
Plasma Asher;
AttPSM;
Oxidization;
passivation layer;
clean cycle;
31.
OPC modeling using AFM CD measurement
机译:
使用AFM CD测量进行OPC建模
作者:
Kyoil Koo
;
Gyeongseop Kim
;
Sanghun Kim
;
Seunghune Yang
;
Sooryong Lee
;
Youngchang Kim
;
Jungdal Choi
;
Hokyu Kang
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Physical CD;
AFM;
OPC modeling;
32.
Pupil shaping and coherence control in an EUV mask-imaging microscope
机译:
EUV掩模成像显微镜中的瞳孔塑形和相干控制
作者:
Iacopo Mochi
;
Kenneth A. Goldberg
;
Markus P. Benk
;
Patrick P. Naulleau
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
EUV lithography;
EUV microscopy;
mask inspection;
coherence;
pupil-fill;
33.
A novel method for utilizing AIMS™ to evaluate mask repair and quantify over-repair or under-repair condition
机译:
利用AIMS™评估口罩修复并量化过度修理或修理不足情况的新颖方法
作者:
Doug Uzzel
;
Anthony Garetto
;
Krister Magnusson
;
Gilles Tabbone
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
AIMS™;
Bossung plot;
linewidth versus defocus;
quartz height;
EAPSM;
repair verification;
MeRiT™;
Litho simulation;
34.
HSQ process development for a superior resolution and a reasonable sensitivity for an EB master-mold for nanoimprint lithography
机译:
HSQ工艺开发为纳米压印光刻的EB主模提供了更高的分辨率和合理的灵敏度
作者:
Hideo Kobayashi
;
Hiromasa Iyama
;
Takeshi Kagatsume
;
Takashi Sato
;
Shuji Kishimoto
;
Tsuyoshi Watanabe
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
HSQ;
XR-1541;
EB lithography;
Nanoimprint lithography;
mold;
35.
Entering Mask Process Correction era for EUV mask manufacturing
机译:
进入EUV掩模制造的掩模工艺校正时代
作者:
Christian Buergel
;
Keith Standiford
;
Gek Soon Chua
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
KEY WORDS: EUV;
proximity effect;
point spread function;
data preparation;
process correction;
50kV Lithography;
photo mask;
36.
Simulation study of CD variation caused by field edge effects and out-of-band radiation in EUVL
机译:
EUVL中场边缘效应和带外辐射引起的CD变化的仿真研究
作者:
Weimin Gao
;
ArdavanNiroomand
;
GianF. Lorusso
;
Robert Boone
;
Kevin Lucas
;
Wolfgang Demmerle
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
EUV simulation;
field edge effects;
black border;
flare;
out-of-band (OoB);
37.
Two-dimensional mask effects at the 14 nm logic node
机译:
14 nm逻辑节点处的二维掩模效果
作者:
A. E. Zweber
;
A. McGuire
;
M. Hibbs
;
S. Nash
;
K. Ballman
;
T. Faure
;
J. Rankin
;
T. Isogawa
;
T. Senna
;
Y. Negishi
;
M. Miller
;
S. Barai
;
D. J. Dechene
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
2D;
two dimension;
corner rounding;
contact area;
mask;
model accuracy;
38.
Controlling the sidewall angle of advanced attenuated phase-shift photomasks for 14nm and 10nm lithography
机译:
控制用于14nm和10nm光刻的高级衰减相移光掩模的侧壁角度
作者:
Richard Wistrom
;
Yoshifumi Sakamoto
;
Jeffery Panton
;
Thomas Faure
;
Takeshi Isogawa
;
Anne McGuire
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
MoSi etch;
sidewall angle;
SWA;
photomask variability;
39.
SEM image quality enhancement technology for bright field mask
机译:
用于明场掩模的SEM图像质量增强技术
作者:
Naoki Fukuda
;
Yuta Chihara
;
Soichi Shida
;
Keisuke Ito
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
CD-SEM;
CDSEM;
Charge Control;
Contour Metrology;
Dot;
Multiple Patterning;
ROI Scan;
Shuffled line scan;
Shadow;
40.
Analysis of EUV mask durability under various absorber etch conditions
机译:
在各种吸收体蚀刻条件下的EUV掩模耐久性分析
作者:
Dong Wook Lee
;
Sang Jin Jo
;
Sung Hyun Oh
;
Tae Joong Ha
;
Sang Pyo Kim
;
Dong Gyu Yim
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
EUV;
mask cleaning;
Ru capping layer;
absorber etch;
Ru durability;
41.
Under-Layer Effects for Block Levels: Are They Under Control?
机译:
块级的底层效应:它们处于受控状态吗?
作者:
Dongbing Shao
;
Bidan Zhang
;
Shayak Banerjee
;
Hong Kry
;
Anuja De Silva
;
Ranee Kwong
;
Kisup Chung
;
Yea-Sen Lin
;
Alan Leslie
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
computational lithography;
OPC;
photolithography;
process simulation;
developable BARC;
OPC model calibration;
rule based OPC;
42.
Line width roughness and its control on photomask
机译:
线宽粗糙度及其对光掩模的控制
作者:
Banqiu Wu
;
Ajay Kumar
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
43.
Improve Mask Inspection Capacity with Automatic Defect Classification (ADC)
机译:
通过自动缺陷分类(ADC)提高口罩检查能力
作者:
Crystal Wang
;
Steven Ho
;
Eric Guo
;
Kechang Wang
;
Suresh Lakkapragada
;
Jiao Yu
;
Peter Hu
;
Vikram Tolani
;
Linyong Pang
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Automatic Defect Classification (ADC);
mask inspection;
mask defect dispositioning;
mask defect review;
compmtational defect review, ADC, defect review, mask defect classification;
44.
Increasing reticle inspection efficiency and reducing wafer print-checks using automated defect classification and simulation
机译:
使用自动缺陷分类和模拟,提高标线检查效率并减少晶圆打印检查
作者:
Sung Jae Ryu
;
Sung Taek Lim
;
Anthony Vacca
;
Peter Fiekowsky
;
Dan Fiekowsky
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
simulation;
inspection;
photomask;
reticle;
defect;
disposition;
requalification;
45.
Inline detection of Chrome degradation on binary 193nm photomasks
机译:
在线检测二进制193nm光掩模上的Chrome退化
作者:
Felix Dufaye
;
Astrid Sippel
;
Mark Wylie
;
Edgardo Garcia-Berrios
;
Charles Crawford
;
Carl Hess
;
Luca Sartelli
;
Carlo Pogliani
;
Hiroyuki Miyashita
;
Stuart Gough
;
Frank Sundermann
;
Christophe Brochard
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Chrome degradation;
Chrome migration;
photomask aging;
intrafield CD degradation;
binary 193nm;
COG;
iCDU;
46.
Comparison of CD measurements of an EUV photomask by EUV scatterometry and CD-AFM
机译:
通过EUV散射法和CD-AFM比较EUV光掩模的CD测量
作者:
Frank Scholze
;
Victor Soltwisch
;
Gaoliang Dai
;
Mark-Alexander Henn
;
Hermann Gross
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
mask metrology;
EUV lithography;
CD metrology;
line edge roughness;
line width roughness;
47.
Fleet matching performance for multiple registration measurement tools
机译:
多种配准测量工具的车队匹配性能
作者:
D. Beyer
;
C. Biaesing
;
K. Boehm
;
S. Heisig
;
D. Seidel
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
photomask metrology;
registration;
tool matching;
fleet matching;
golden grid;
length standard;
accuracy;
long-term repeatability;
48.
A fast convolution method using basis expansion for highly efficient intensity calculation in mask optimization
机译:
使用基数展开的快速卷积方法,用于掩模优化中的高效强度计算
作者:
Yaping Sun
;
Yehua Zuo
;
Jinyu Zhang
;
Yan Wang
;
Zhiping Yu
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
fast convolution;
basis expansion;
pixel-based approach;
intensity calculation;
mask optimization;
49.
Impact of an etched EUV mask black border on imaging. Part Ⅱ
机译:
蚀刻的EUV掩模黑色边框对成像的影响。第二部分
作者:
Natalia Davydova
;
Robert de Kruif
;
Hiroaki Morimoto
;
Yo Sakata
;
Jun Kotani
;
Norihito Fukugami
;
Shinpei Kondo
;
Tomohiro Imoto
;
Brid Connolly
;
Dries van Gestel
;
Dorothe Oorschot
;
David Rio
;
John Zimmerman
;
Noreen Harned
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
EUV lithography;
imaging;
photomask;
image border;
black border;
ML etching;
50.
Analysis of edge effects in attenuating phase shift masks using quantitative phase imaging
机译:
使用定量相位成像分析衰减相移掩模中的边缘效应
作者:
Aamod Shanker
;
Martin Sczyrba
;
Brid Connolly
;
Andy Neureuther
;
Laura Waller
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Attenuated Phase Shift Mask;
Transport of Intensity Equation;
Aerial Image Measurement System;
thick mask effects;
phase imaging;
SPLAT;
quadrature edge effects;
51.
Automated Defect Classification (ADC) and Progression Monitoring (DPM) in Wafer Fab Reticle Requalification
机译:
晶圆厂掩模版重新认证中的自动缺陷分类(ADC)和进度监控(DPM)
作者:
T. H. Yen
;
Rick Lai
;
Laurent C. Tuo
;
Vikram Tolani
;
Dongxue Chen
;
Peter Hu
;
Jiao Yu
;
George Hwa
;
Yan Zheng
;
Suresh Lakkapragada
;
Kechang Wang
;
Danping Peng
;
Bill Wang
;
Kaiming Chiang
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
32nm and below;
Computational Review;
Computational Lithography;
Reticle Requalification;
Requal;
Haze growth;
Repair degradation;
Defect progression;
DPM;
Automated Defect Classification;
ADC;
Defect Review;
52.
The impact of 14-nm photomask uncertainties on computational lithography solutions
机译:
14 nm光掩模不确定性对计算光刻解决方案的影响
作者:
John Sturtevant
;
Edita Tejnil
;
Peter Buck
;
Steffen Schulze
;
Franklin Kalk
;
Kent Nakagawa
;
Guoxiang Ning
;
Paul Ackmann
;
Fritz Gans
;
Christian Buergel
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Simulation;
OPC;
3DEMF;
photomask;
53.
Sensitivity analysis for OMOG and EUV photomasks characterized by UV-NIR Spectroscopic Ellipsometry
机译:
UV-NIR光谱椭偏仪表征的OMOG和EUV光掩模的灵敏度分析
作者:
A. Heinrich
;
I. Dirnstorfer
;
J. Bischoff
;
K. Meiner
;
U. Richter
;
T. Mikolajick
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
spectroscopic ellipsometry;
RCWA;
photomask;
EUV;
OMOG;
sensitivity;
54.
Your worst Nightmare - Inspection of aggressive OPC on 14 nm masks with emphasis on defect sensitivity and wafer defect print predictability
机译:
您最糟糕的噩梦-检查14 nm掩模上的侵蚀性OPC,重点是缺陷敏感性和晶圆缺陷印刷可预测性
作者:
Karen D. Badger
;
Michael Hibbs
;
Jed Rankin
;
Kazunori Seki
;
Ian Stobert
;
Dan J. Dechene
;
Ben Bleiman
;
Mini Ghosal
;
William Broadbent
;
Vincent Redding
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
mask inspection;
14 nm node;
OPC;
wafer printability;
55.
2013 Mask Industry Survey
机译:
2013口罩行业调查
作者:
Matt Malloy
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Mask industry;
photomask;
mask yield;
photomask yield;
mask quality;
photomask quality;
56.
Evaluation of Dry Technology for Removal of Pellicle Adhesive Residue on Advanced Optical Reticles
机译:
去除高级光学掩模版上胶粘剂残留物的干法技术评估
作者:
Shazad Paracha
;
Samy Bekka
;
Benjamin Eynon
;
Jaehyuck Choi
;
Mehdi Balooch
;
Ivin Varghese
;
Tyler Hopkins
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
pellicle adhesive residue removal;
pellicle glue residue removal;
atmospheric dry reactive gas cleaning;
dry reactive gas cleaning;
advanced optical reticles;
UV exposures on mask;
re-deposits;
reticle main array;
care area;
57.
EUV multilayer defect compensation (MDC): Latest progress on model and compensation methods
机译:
EUV多层缺陷补偿(MDC):模型和补偿方法的最新进展
作者:
Linyong (Leo) Pang
;
Masaki Satake
;
Ying Li
;
Peter Hu
;
Danping Peng
;
Dongxue Chen
;
Vikram Tolani
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
multilayer defect repair;
mask repair;
multilayer defect compensation;
fast lithography simulation;
extreme ultraviolet lithography;
EUV mask;
mask defect;
58.
A study on the ESD damage of a silicon oxy-nitride hard mask on the chromium surface of PSM blank
机译:
PSM毛坯铬表面上氮氧化硅硬掩模的ESD损伤研究
作者:
Songbae Moon
;
Heebom Kim
;
Inkyun Shin
;
Chanuk Jeon
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
hard mask;
PSM;
defect;
ESD;
59.
A study of the defect detection technology using the optic simulation for the semiconductor device
机译:
基于光学仿真的半导体器件缺陷检测技术的研究
作者:
Yusin Yang
;
Yongdeok Jeong
;
Mitsunori Numata
;
Mira Park
;
Mingoo Seo
;
Sangkil Lee
;
Chungsam Jun
;
Kyupil Lee
;
Insoo Cho
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Optic simulation;
FDTD;
20nm Defects;
Bright Field Inspection;
60.
E-beam GIDC resolution enhancement technology in practical applications
机译:
实际应用中的电子束GIDC分辨率增强技术
作者:
S. Martens
;
J. Butschke
;
R. Galler
;
M. Krueger
;
H. Sailer
;
M. Suelzle
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
electron beam lithography;
e-beam;
electron beam proximity effect;
PEC;
geometrically induced dose correction;
GIDC;
ePLACE;
nCAR;
pCAR;
61.
Ultra-low roughness magneto-rheological finishing for EUV mask substrates
机译:
EUV掩模基材的超低粗糙度磁流变抛光
作者:
Paul Dumas
;
Richard Jenkins
;
Chuck McFee
;
Arun J Kadaksham
;
Dave K Balachandran
;
Ranganath Teki
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
EUV mask;
Magneto-rheological finishing;
Flatness;
Roughness;
Defectivity;
EUV optics;
62.
Color Balancing for Triple Patterning Lithography with Complex Designs
机译:
具有复杂设计的三重图案光刻的色彩平衡
作者:
Haitong Tian
;
Hongbo Zhang
;
Martin D.F. Wong
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Color Balancing;
Triple Patterning Lithography;
Standard Cells;
63.
450mm Wafer Patterning with Jet and Flash Imprint Lithography
机译:
使用喷射和闪光压印光刻技术进行的450mm晶圆图案化
作者:
Ecron Thompson
;
Paul Hellebrekers
;
Paul Hofemann
;
Dwayne L. LaBrake
;
Douglas J. Resnick
;
S. V. Sreenivasan
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
450mm;
Jet and Flash Imprint Lithography;
J-FIL;
template;
nanoimprint;
64.
DSA Template Mask Determination and Cut Redistribution for Advanced 1D Gridded Design
机译:
用于高级1D网格设计的DSA模板遮罩确定和剪切重新分配
作者:
Zigang Xiao
;
Yuelin Du
;
Martin D.F. Wong
;
Hongbo Zhang
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
DSA;
Directed self-assembly;
template;
cut redistribution;
algorithm;
65.
Shot count reduction for non-Manhattan geometries: concurrent optimization of data fracture and mask writer design
机译:
非曼哈顿几何图形的镜头数量减少:数据断裂和蒙版编写器设计的同时优化
作者:
Russell Cinque
;
Tadashi Komagata
;
Taiichi Kiuchi
;
Clyde Browning
;
Patrick Schiavone
;
Paolo Petroni
;
Luc Martin
;
Thomas Quaglio
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
non-Manhattan;
photonic;
VSB;
shot count;
fracture;
66.
Turret-type electron gun for EBM-8000
机译:
EBM-8000炮塔式电子枪
作者:
Nobuo Miyamoto
;
Rodney Kendall
;
Kenichi Saito
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
67.
High-Fidelity Dummy Fill Printing with Repair OPC
机译:
带有维修OPC的高保真假人填充印刷
作者:
Louis Lin
;
Wei-Long Wang
;
Sarah McGowan
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
FILL;
DUMMY;
OPC;
ORC;
cycle time;
Repair;
68.
In-Die Mask Registration Measurement on 28nm Node and Beyond
机译:
28nm及更高节点上的模内掩模配准测量
作者:
Shen Hung Chen
;
Yung Feng Cheng
;
Ming Jui Chen
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
registration;
image placement error;
double patterning;
mask;
overlay;
69.
Alternative material to mitigate chrome degradation on high volume ArF layers
机译:
缓解高容量ArF层上铬降解的替代材料
作者:
Guoxiang Ning
;
Selvi Gopalakrishnan
;
Thomas Thamm
;
Nikolay Oleynik
;
Paul Ackmann
;
Remi Riviere
;
Stephanie Maelzer
;
Yee Mei Foong
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
proximity matching;
optical proximity correction;
reticle blanks difference;
3D mask effect;
70.
Mask contamination study in electron and ion beam repair system
机译:
电子和离子束修复系统中的面膜污染研究
作者:
Hyo-Jin Ahn
;
Jong-Min Kim
;
Dong-Seok Lee
;
Gyu-Yong Lee
;
Dong-Heok Lee
;
Sang-Soo Choi
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
ToF-SIMS;
FIB;
Reflectance change;
Hydrocarbon contamination;
Scan area;
Discolor defect;
71.
Model-driven target optimization to resolve design hotspots through image quality enhancement
机译:
模型驱动的目标优化,通过图像质量增强来解决设计热点
作者:
Sung-Woo Lee
;
Tom Cecil
;
Guangming Xiao
;
Mindy Lee
;
Jung-Hoe Choi
;
Seung-Hee Baek
;
Jin-HyuckJeon
;
Chan Ha Park
;
Dave Kim
;
Kevin Lucas
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
hotspot;
fixer;
ILT;
RETs;
pixel;
solver;
pitch relaxation;
72.
In-die Mask Registration for Multi-Patterning
机译:
模内掩膜配准,实现多模式
作者:
F. Laske
;
S. Kunitani
;
T. Kamibayashi
;
M. Yamana
;
A. Fuse
;
M. Wagner
;
K.-D. Roeth
;
M.Ferber
;
M. Daneshpanah
;
S. Czerkas
;
H. Sakaguchi
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Metrology;
photomask;
mask registration;
LMS IPRO;
in-die;
model-based;
pattern placement;
intra-field overlay;
73.
Development of Inspection System for EUV Mask with Novel Projection Electron Microscopy (PEM)
机译:
新型投影电子显微镜(EUV)的EUV掩模检测系统的开发
作者:
Masahiro Hatakeyama
;
Takeshi Murakami
;
Kenji Terao
;
Kenji Watanabe
;
Shoji Yoshikawa
;
Tsuyoshi Amano
;
Ryoichi Hirano
;
Susumu Iida
;
Tsuneo Terasawa
;
Hidehiro Watanabe
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
EUV mask;
EB inspection;
projection electron microscopy;
pattern defect;
74.
Extreme Ultraviolet Mask Defect Observation Using an Extreme Ultraviolet Microscope
机译:
使用极端紫外显微镜观察极端紫外面罩缺陷
作者:
Tsuyoshi Amano
;
Tsuneo Terasawa
;
Hidehiro Watanabe
;
Mitsunori Toyoda
;
Tetsuo Harada
;
Takeo Watanabe
;
Hiroo Kinoshita
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
EUV;
phase defect;
EUV microscope;
defect mitigation;
compensation repair;
75.
Potential of mask production process for finer pattern fabrication
机译:
掩模生产工艺的潜力,可以进行更精细的图案制造
作者:
Keisuke Yagawa
;
Kunihiro Ugajin
;
Machiko Suenaga
;
Yoshihito Kobayashi
;
Takeharu Motokawa
;
Kazuki Hagihara
;
Masato Saito
;
Masamitsu Itoh
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
EB mask writer;
VSB;
finer pattern fabrication;
mask production process;
76.
Model-based Etch Profile Simulation of PSM Films
机译:
PSM膜的基于模型的蚀刻轮廓模拟
作者:
Michael Grimbergen
;
Madhavi Chandrachood
;
Jeffrey Tran
;
Becky Leung
;
Keven Yu
;
Amitabh Sabharwal
;
Ajay Kumar
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
photomask;
mask etch;
etch simulation;
binary;
phase-shift;
photoresist;
etch profile;
77.
Performance of the Proof-of-Concept Multi-Beam Mask Writer (MBMW POC)
机译:
概念验证多光束掩模写入器(MBMW POC)的性能
作者:
Christof Klein
;
Hans Loeschner
;
Elmar Platzgummer
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
electron;
multi-beam;
mask writer;
template writer;
direct wafer writer;
MBMW;
EBDW;
78.
EUV scatterometry-based measurement method for the determination of phase roughness
机译:
基于EUV散射法的测量方法,用于确定相粗糙度
作者:
Rikon Chao
;
Eric Gullikson
;
Michael Goldstein
;
Frank Goodwin
;
Ranganath Teki
;
Andy Neureuther
;
Patrick Naulleau
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Phase roughness;
power spectral density;
scatterometry;
extreme ultraviolet lithography;
metrology;
79.
Patterning of EUVL binary etched multilayer mask
机译:
EUVL二元蚀刻多层掩模的图案
作者:
Kosuke Takai
;
Takeharu Motokawa
;
Koji Murano
;
Takashi Kamo
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
EUV lithography;
EUV mask;
etched multilayer;
hard mask;
high-NA;
80.
Measurement of EUV absorber and resist CD using spectroscopic ellipsometer
机译:
使用光谱椭偏仪测量EUV吸收剂和抗蚀剂CD
作者:
Kyung m Lee
;
Malahat Tavassoli
;
Pei-yang Yan
;
Guojing Zhang
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Scatterometry;
EUV;
Absorber;
Ellipsometry;
Ellipsometer;
RCWA;
CD uniformity;
81.
Finishing of EUV Photomask Substrates by CNC Precessed Bonnet Polisher
机译:
CNC旋入式阀盖抛光机对EUV光掩模基材的精加工
作者:
Anthony T. H. Beaucamp
;
Yoshiharu Namba
;
Phillip Charlton
;
Richard R. Freeman
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Finishing;
EUV Photomask;
Precessed Bonnet Polishing;
Corrective Polishing;
Full Factorial;
Ultra- Precision;
Edge Polishing;
Quality Area;
82.
Novel fracturing algorithm to reduce shot count for curvy shape
机译:
新颖的压裂算法可减少弯曲形状的弹丸数量
作者:
Takuya Tao
;
Nobuyasu Takahashi
;
Masakazu Hamaji
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2013年
关键词:
Fracture;
ILT;
Inverse Lithography;
VSB;
shot count;
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