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Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII
Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII
召开年:
2013
召开地:
San Jose, CA(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
Productivity improvement through automated operation of reticle defect inspection tools in a wafer fab environment
机译:
通过在晶圆厂环境中自动操作标线缺陷检查工具来提高生产率
作者:
Christian Holfeld
;
Heiko Wagner
;
Anna Tchikoulaeva
;
Steffen Loebeth
;
Stephan Melzig
;
Yulin Zhang
;
Shinichi Tanabe
;
Takenori Katoh
;
Koichi Moriizumi
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
factory automation;
productivity;
throughput;
defect inspection;
reticle;
photomask;
wafer fab;
2.
Phase extraction from random phase-shifted shadow moire fringe patterns using stereovision technique
机译:
使用立体视觉技术从随机相移的阴影波纹条纹图案中提取相位
作者:
Feifei Gu
;
Hubing Du
;
Hong Zhao
;
Bing Li
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
iterative algorithm;
shadow moire;
phase;
phase-shifting;
stereovision;
3.
Fast phase shifting shadow moire by utilizing multiple light sources
机译:
利用多个光源快速移相阴影波纹
作者:
Hubing Du
;
Hong Zhao
;
Bing Li
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
topography;
shadow moire;
phase demodulation;
phase-shifting;
4.
Robustness analysis of non-linear phase retrieval from single intensity measurement
机译:
单强度测量非线性相位检索的鲁棒性分析
作者:
A. Polo
;
S.F. Pereira
;
H. P. Urbach
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Adaptive Optics;
Wavefront Sensing;
Phase Retrieval;
Sensitivity Analysis;
5.
Towards Development of a Sidewall Roughness Standard
机译:
致力于制定侧壁粗糙度标准
作者:
Aaron Cordes
;
Ben Bunday
;
Sean Hand
;
Jason Osborne
;
Hugh Porter
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Sidewall Roughness;
CD-AFM;
TEM;
Tomography;
3D Metrology;
Fin-FET;
6.
Stress Inspection for Overlay Characterization
机译:
应力检查以进行重叠表征
作者:
David M. Owen
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Stress;
overlay;
interferometry;
7.
Improvement of focus accuracy on processed wafer
机译:
提高加工晶片上的聚焦精度
作者:
Satomi Higashibata
;
obuhiro Komine
;
Kazuya Fukuhara
;
Takashi Koike
;
Yoshimitsu Kato
;
Kohji Hashimoto
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
processed wafer;
auto focus sensor;
SEM-PSG;
feedback correction;
8.
Sub-40nm High-Volume Manufacturing Overlay Uncorrectable Error Evaluation
机译:
40nm以下的批量生产覆盖不可校正的误差评估
作者:
Pary Baluswamy
;
Ranjan Khurana
;
Bryan Orf
;
Wolfgang Keller
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Overlay;
Sampling;
Residuals;
Higher Order Corrections;
9.
DCM: device correlated metrology for overlay measurements
机译:
DCM:用于覆盖测量的设备相关计量
作者:
Charlie Chen
;
George K. C. Huang
;
Yuan Chi Pai
;
Jimmy C. H. Wu
;
Yu Wei Cheng
;
Simon C. C. Hsu
;
Chun Chi Yu
;
Nuriel Amir
;
Dongsub Choi
;
Tal Itzkovich
;
Inna Tarshish-Shapir
;
David C. Tien
;
Eros Huang
;
Kelly T. L. Kuo
;
Takeshi Kato
;
Osamu Inoue
;
Hiroki Kawada
;
Yutaka Okagawa
;
Luis Huang
;
Matthew Hsu
;
Amei Su
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Overlay Metrology;
OVL;
Accuracy;
DCM;
Device Correlated Metrology;
AIMid;
AIM;
CD-SEM;
10.
In-die Overlay Metrology by using CD-SEM
机译:
使用CD-SEM进行模内覆盖计量
作者:
Osamu Inoue
;
Takeshi Kato
;
Yutaka Okagawa
;
Hiroki Kawada
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
overlay;
CD-SEM;
in-die;
TIS;
WIS;
dedicated target;
high-order correction;
11.
Metrology Solutions for High Performance Germanium Multi-Gate Field-Effect Transistors Using Optical Scatterometry
机译:
使用光散射法的高性能锗多栅极场效应晶体管的计量解决方案
作者:
Hock-Chun Chin
;
Moh-Lung Ling
;
Bin Liu
;
Xingui Zhang
;
Jie Li
;
Yongdong Liu
;
Jiangtao Hu
;
Yee-Chia Yeo
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Scatterometry;
Germanium;
FinFET;
optical critical dimension;
OCD;
ellipsometry;
12.
Characterization of a 'First Measurement Effect' in CD-SEM measurement
机译:
CD-SEM测量中“首次测量效果”的表征
作者:
Boxiu Cai
;
Yi-Shih Lin
;
Qiang Wu
;
Yi Huang
;
Siyuan Yang
;
Wen-Hui Li
;
Michael Hao
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
First Measurement Effect;
FME;
CD-SEM;
charging;
proximity;
shadowing;
13.
Design-based metrology for development and manufacturing applications
机译:
开发和制造应用的基于设计的计量
作者:
Peter Brooker
;
Michael Lee
;
Ezequiel Vidal Russel
;
Shimon Levi
;
Sylvain Berthiaume
;
William A. Stanton
;
Travis Brist
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
OPC;
design based metrology;
Proteus;
MetroKit;
TPG;
SEMRC;
SEMDE;
OPCCheck MAX;
14.
An Investigation of High-Order Process Correction Models and Techniques to Improve Overlay Control by Using Multiple-Pass Cascading Analysis at an Advanced Technology Node
机译:
在高级技术节点上使用多次遍历级联分析来改善覆盖控制的高阶过程校正模型和技术的研究
作者:
Md Zakir Ullah
;
Mohamed Fazly Mohamed Jazim
;
Stephen Tran
;
Andy Qiu
;
Dawn Goh
;
Jesline Ang
;
Desmond Goh
;
Tien David
;
Kevin Huang
;
Dongsub Choi
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Overlay;
High Order;
Correlation;
Cascading Analysis;
15.
Use of TSOM for sub-11 nm node pattern defect detection and HAR features
机译:
使用TSOM进行11 nm以下节点图案缺陷检测和HAR功能
作者:
Abraham Arceo
;
Benjamin Bunday
;
Ravikiran Attota
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
TSOM;
Through-focus scanning optical microscopy;
defect inspection;
metrology;
high aspect ratio;
HAR;
16.
High accuracy CD matching monitor for CD-SEM beyond 20nm process
机译:
超过20nm工艺的CD-SEM高精度CD匹配监视器
作者:
K. Ueda
;
T. Mizuno
;
K.Setoguchi
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
CD-SEM;
Metrology;
Matching;
Long Term;
Random measurement;
CD Uniformity;
Stability;
Monitor;
17.
Advanced gate CDU control in sub-28nm node using poly slot process by scatterometry metrology
机译:
采用散射测量技术的多槽工艺在低于28nm的节点中进行高级栅极CDU控制
作者:
Wei-Jhe Tzai
;
Howard Chen
;
Jun-Jin Lin
;
Yu-Hao Huang
;
Chun-Chi Yu
;
Ching-Hung Bert Lin
;
Sungchul Yoo
;
Chien-Jen Eros Huang
;
Lanny Mihardja
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Scatterometry;
CDU (Critical Dimension Uniformity);
2-D SCD (Two Dimension Scatterometry-based Critical Dimension);
3-D SCD (Three Dimension Scatterometry-based Critical Dimension);
18.
Measurement configuration optimization for grating reconstruction by Mueller matrix polarimetry
机译:
穆勒矩阵偏振法用于光栅重建的测量配置优化
作者:
Xiuguo Chen
;
Shiyuan Liu
;
Chuanwei Zhang
;
Hao Jiang
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
measurement configuration;
grating reconstruction;
Mueller matrix polarimetry;
inverse problem;
19.
In-field in-design metrology target integration for advanced CD and overlay process control via DoseMapper High Order Overlay correction for 28nm and beyond logic node
机译:
通过DoseMapper进行高级CD和覆盖过程控制的现场设计中计量目标集成,以及针对28nm及更高逻辑节点的高阶覆盖校正
作者:
J. Ducote
;
F. Bernard-Granger
;
B. Le-Gratiet
;
R. Bouyssou
;
R. Bianchini
;
J.C. Marin
;
M.P.Baron
;
F. Gardet
;
T. Devoivre
;
E. Batail
;
C. Pouly
;
D. Gueze
;
L. Thevenon
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
In-design metrology;
DRC targets integration;
intrafield metrology;
mask metrology;
DoseMapper;
high order overlay correction;
lithography;
DFM;
20.
Buckling characterization of gate all around silicon nanowires
机译:
硅纳米线周围栅极的屈曲特性
作者:
Shimon Levi
;
Ishai Schwarzband
;
Yakov Weinberg
;
Roger Cornell
;
Ofer Adan
;
Guy M. Cohen
;
Cheng Cen
;
Lynne Gignac
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
21.
Roughness of EUV resists exposed to EUV, ArF and KrF radiation as evaluated using three tools: spectroscopic ellipsometry, AFM and SEM
机译:
使用以下三种工具评估的EUV抗蚀剂在EUV,ArF和KrF辐射下的粗糙度:分光镜椭圆偏光法,AFM和SEM
作者:
Byong Chon Park
;
Yong Jai Cho
;
Insung Kim
;
Jeongho Yeo
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
surface roughness (SR);
line edge roughenss (LER);
extreme ultraviolet (EUV) resist;
spectroscopic ellipsometry (SE);
AFM;
SEM;
photon shot noise;
22.
Evaluation of methods for noise-free measurement of LER/LWR using synthesized CD-SEM images
机译:
使用合成的CD-SEM图像评估LER / LWR的无噪声测量方法
作者:
Vassilios Constantoudis
;
Erwine Pargon
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Line Edge Roughness (LER);
Line Width Roughness (LWR);
metrology;
noise;
scanning electron microscopy (SEM);
synthesized images;
correlation length;
fractal dimension;
23.
Diffraction Based Overlay and Image Based Overlay on production flow for advanced technology node
机译:
先进技术节点在生产流程上的基于衍射的叠加和基于图像的叠加
作者:
Yoann Blancquaert
;
Christophe Dezauzier
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Overlay metrology;
diffraction based overlay;
image based overlay;
production flow;
C028 node;
14FDSOI;
24.
Quantitative CD-SEM Resist Shrinkage Study and Its Application for Accurate CD-SEM Tools' Matching
机译:
CD-SEM定量抗收缩研究及其在CD-SEM工具精确匹配中的应用
作者:
Wen Hui Li
;
Yi Shih Lin
;
Siyuan Frank Yang
;
Bo Xiu Cai
;
Yi Huang
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
CDSEM;
Matching;
photo resist wafer;
first shrinkage;
second shrinkage;
frame of e-beam;
true difference excluding shrinkage;
non-repeatable measure;
25.
Characterizing edge profiles of photomask structures with complementary information from SEM and AFM
机译:
利用SEM和AFM的补充信息表征光掩模结构的边缘轮廓
作者:
Wolfgang Haess1er-Grohne
;
Dorothee Hueser
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
critical dimension metrology;
electron microscopy;
atomic force microscopy;
inverse problem;
edge detection;
photolithographic masks;
complementary information;
simulating dynamic AFM;
26.
Three-dimensional profile extraction from CD-SEM image and top/bottom CD measurement by line-edge roughness analysis
机译:
通过线边缘粗糙度分析从CD-SEM图像中提取三维轮廓并测量顶部/底部CD
作者:
Atsuko Yamaguchi
;
Takeyoshi Ohashi
;
Takahiro Kawasaki
;
Osamu Inoue
;
Hiroki Kawada
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
3D measurements;
critical-dimension scanning electron microscope;
line-edge roughness;
reference metrology;
27.
The challenges encountered in the integration of an early test wafer surface scanning inspection system into a 450mm manufacturing line
机译:
将早期测试晶圆表面扫描检测系统集成到450mm生产线中遇到的挑战
作者:
Jeffrey Lee
;
Steve McGarvey
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
28.
CD optimization methodology for extending optical lithography
机译:
扩展光学光刻的CD优化方法
作者:
C. Wong
;
G. Seevaratnam
;
T. Wiltshire
;
N. Felix
;
T. Brunner
;
P. Rawat
;
M. Escalante
;
W. Kim
;
E. Rottenkolber
;
A. Elmalk
;
V. Wang
;
C. Leewis
;
P. Hinnen
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
critical dimension;
dose;
focus;
imaging;
process control;
29.
TSV reveal height and dimension metrology by the TSOM method
机译:
TSV通过TSOM方法显示高度和尺寸度量
作者:
Victor Vartanian
;
Ravikiran Attota
;
Haesung Park
;
George Orji
;
Richard A. Allen
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
TSOM;
Through-focus scanning optical microscopy;
metrology;
TSV;
through silicon via;
3D interconnect critical dimension;
optical microscopy;
30.
Study of Overlay in EUV/ArF Mix and Match Lithography
机译:
EUV / ArF混合匹配光刻中的叠加层研究
作者:
Chin-Chou Kevin Huang
;
Lin Chua
;
KyungBae Hwang
;
Antonio Mani
;
Gino Marcuccilli
;
Bill Pierson
;
Ramkumar Karur-Shanmugam
;
John C. Robinson
;
Dongsub Choi
;
Michael Ferber
;
Klaus-Dieter Roeth
;
ByoungHoon Lee
;
Inhwan Lee
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Pattern placement errors;
high-order overlay errors;
EUV;
mix and match;
lithography;
31.
Systematic Errors in the Measurement of Power Spectral Density
机译:
功率谱密度测量中的系统误差
作者:
Chris A. Mack
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
power spectral density;
PSD;
discrete PSD;
aliasing;
spectral leakage;
line-edge roughness;
linewidth roughness;
LER;
LWR;
32.
Gaps Analysis for CD Metrology Beyond the 22 nm Node
机译:
超过22 nm节点的CD计量学的间隙分析
作者:
Benjamin Bunday
;
Thomas A. Germer
;
Victor Vartanian
;
Aaron Cordes
;
Aron Cepler
;
Charles Settens
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Critical dimension;
gaps analysis;
metrology;
OCD;
CD-SEM;
CD;
CD-SAXS;
scatterometry;
FinFET;
HAR;
33.
Introduction of a High Throughput SPM for Defect Inspection and Process Control
机译:
引入用于缺陷检查和过程控制的高吞吐量SPM
作者:
H. Sadeghian
;
N.B. Koster
;
T.C. van den Dool
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Defects inspection;
Process control;
High throughput scanning probe microscopy;
Atomic force microscopy;
Metrology;
450 mm wafer;
34.
Sensitivity improvement by a hybrid scatterometer
机译:
混合散射仪提高灵敏度
作者:
Hailiang Lu
;
Fan Wang
;
Lifeng Duan
;
Yonghui Chen
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
hybrid scatterometer;
angle-resolved spectrum;
chromatic spectrum;
sensitivity improvement;
35.
Performance-Based Metrology of Critical Device Performance Parameters for In-line Non-Contact High-density Intra-die Monitor/Control on a 32nm SOI Advanced Logic Product Platform
机译:
基于性能的关键器件性能参数的度量衡,用于32nm SOI先进逻辑产品平台上的在线非接触式高密度芯片内监视/控制
作者:
Mario M. Pelella
;
Anda C. Mocuta
;
Birk Lee
;
Noah Zamdmer
;
Dustin K. Slisher
;
Xiaojun Yu
;
James S. Vickers
;
Yota Tsuruta
;
Subramanian S. Iyer
;
Nader Pakdaman
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Semiconductor;
IC;
process;
variability;
device performance;
metrology;
test;
36.
Fundamentals of overlay measurement and inspection using Scanning electron-microscope
机译:
使用扫描电子显微镜进行叠加测量和检查的基础知识
作者:
T. Kato
;
Y. Okagawa
;
O. Inoue
;
K. Arai
;
S. Yamaguchi
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
semiconductor;
overlay;
SEM;
uncertainty;
secondary electron;
back scattered electron;
electron yield;
37.
Application of DBM tool for detection of EUV mask defect
机译:
DBM工具在EUV掩模缺陷检测中的应用
作者:
Gyun Yoo
;
Jungchan Kim
;
Chanha Park
;
Taehyeong Lee
;
Sunkeun Ji
;
Hyunjo Yang
;
Donggyu Yim
;
Byeongjun Park
;
Kotaro Maruyama
;
Masahiro Yamamoto
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
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2013年
关键词:
EUV lithography;
EUV mask;
Mask defect inspection;
Design based metrology;
CD uniformity;
38.
High-speed atomic force microscopy for patterned defect review
机译:
高速原子力显微镜检查图案缺陷
作者:
Jason Osborne
;
Shuiqing Hu
;
Haiming Wang
;
Yan Hu
;
Jian Shi
;
Sean Hand
;
Chanmin Su
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
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2013年
关键词:
Defect review;
atomic force microscopy;
high resolution;
patterned defect;
high speed;
surface defect;
PeakForce;
high aspect ratio;
39.
Multi Layer Overlay Measurement Recent Developments
机译:
多层覆盖测量的最新发展
作者:
Nuriel Amir
;
Nimrod Shuall
;
Inna Tarshish-Shapir
;
Philippe Leray
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
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2013年
关键词:
Overlay Metrology;
OVL;
AIMid;
AIM;
IMEC;
40.
Hybrid Approach to Optical CD Metrology of Directed Self-Assembly Lithography
机译:
定向自组装光刻的光学CD计量学混合方法
作者:
Stephane Godny
;
Masafumi Asano
;
Akiko Kawamoto
;
Koichi Wakamoto
;
Kazuto Matsuki
;
Cornel Bozdog
;
Matthew Sendelbach
;
Igor Turovets
;
Ronen Urenski
;
Renan Milo
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
DSA;
OCD;
holistic metrology;
hybrid metrology;
scatterometry;
CD-SEM;
41.
Lithography Focus/Exposure Control and Corrections to Improve CDU
机译:
光刻聚焦/曝光控制和改进CDU的校正
作者:
Young Ki Kim
;
Mark Yelverton
;
Joungchel Lee
;
Jerry Cheng
;
Hong Wei
;
Jeong Soo Kim
;
Karsten Gutjahr
;
Jie Gao
;
Ram Karur-Shanmugam
;
Pedro Herrera
;
Kevin Huang
;
Roie Volkovich
;
Bill Pierson
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
CD metrology;
focus/exposure modeling;
exposure control;
CDU;
42.
Scatterometry Accuracy Improvement using 3D Shapes
机译:
使用3D形状提高散射测量精度
作者:
Shahin Zangooie
;
Satyanarayana Myneni
;
Peter Wilkens
;
Nicholas J. Keller
;
Thankasala P. Sarathy
;
Milad Tabet
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Scatterometry;
Critical Dimension;
3D;
Metrology;
Air Bearing Surface;
Hard Disk Drive;
Complex Structures;
43.
Computational Defect Review for Actinic Mask Inspections
机译:
光面罩检查的计算缺陷审查
作者:
Paul Morgan
;
Daniel Rost
;
Daniel Price
;
Noel Corcoran
;
Masaki Satake
;
Peter Hu
;
Danping Peng
;
Dean Yonenaga
;
Vikram Tolani
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
44.
Application of optical CD metrology for alternative lithography
机译:
光学CD计量学在替代光刻中的应用
作者:
Masafumi Asano
;
Akiko Kawamoto
;
Kazuto Matsuki
;
Stephane Godny
;
Tingsheng Lin
;
Koichi Wakamoto
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
OCD;
DSA;
NIL;
RLT;
scatterometry;
45.
Characterization of Photochemical Filtration Membranes In Organic Solvents By Using Sub-10 nm Fluorescent Cd-based QDs
机译:
使用低于10 nm的基于Cd的荧光QD表征有机溶剂中的光化学过滤膜
作者:
Suwen Liu
;
Haizheng Zhang
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Photochemical filtration;
retention;
UPE membrane;
nanoparticles;
quantum dots (QDs);
fluorescence;
46.
Reduction of Image-Based ADI-to-AEI Overlay Inconsistency with Improved Algorithm
机译:
改进算法减少基于图像的ADI至AEI覆盖不一致
作者:
Yen-Liang Chen
;
Shu-Hong Lin
;
Kai-Hsiung Chen
;
Chih-Ming Ke
;
Tsai-Sheng Gau
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
overlay;
ADI-to-AEI;
inconsistency;
contrast index;
asymmetry index;
47.
Enhancing Metrology by Combining Spatial Variability and Global Inference
机译:
通过结合空间变异性和全局推断来增强计量
作者:
Costas J. Spanos
;
Jae Yeon Baek
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
|
2013年
关键词:
Virtual Metrology;
Advanced Process Control;
Semiconductor Manufacturing;
Bayesian Inference;
Semiconductor Metrology;
Critical Dimension;
Scatterometry;
48.
Inspection of high aspect ratio layers at sub 20nm node
机译:
在低于20nm的节点上检查高宽比层
作者:
Abhishek Vikram
;
Kuan Lin
;
Janay Camp
;
Sumanth Kini
;
Frank Jin
;
Vinod Venkatesan
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
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2013年
关键词:
HAR (High Aspect Ratio);
HiK;
Litho inspection (PDI/ ADI);
49.
3D AFM Method for Characterization of Resist Effect of Aerial Image Contrast on Side Wall Roughness
机译:
用于表征航空影像对比度对侧壁粗糙度的3D AFM方法
作者:
Yong-ha Lee
;
Sang-Joon Cho
;
Sang-il Park
;
R. Ayothi
;
Y. Hishiro
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
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2013年
关键词:
AFM;
critical dimension;
LER;
LWR;
SWR;
sidewall;
roughness;
Aerial Image Contrast;
50.
Edge determination methodology for cross-section STEM image of photoresist feature used for reference metrology
机译:
用于参考计量的光刻胶特征截面STEM图像的边缘确定方法
作者:
Kiyoshi Takamasu
;
Haruki Okitou
;
Satoru Takahashi
;
Mitsuru Konno
;
Osamu Inoue
;
Hiroki Kawada
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
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2013年
关键词:
Line width;
Line profile;
Photoresist;
Traceability;
Uncertainty;
STEM;
CD-SEM;
Reference metrology;
Line edge;
51.
Key points to measure accurately an ultra-low LER by using CD-SEM
机译:
使用CD-SEM准确测量超低LER的要点
作者:
Hiroki Kawada
;
Takahiro Kawasaki
;
Toru Ikegami
;
Norio Hasegawa
;
Kenichi Oyama
;
Hidetomi Yaegashi
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVII》
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2013年
关键词:
CD-SEM;
edge roughness;
EUV;
LER;
LWR;
conditions;
LER bias;
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