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Conference on optical microlithography XXV
Conference on optical microlithography XXV
召开年:
2012
召开地:
San Jose, CA(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
CDU prediction based on in-situ image measurements
机译:
基于原位图像测量的CDU预测
作者:
A. Bourov
;
J. R. Cheng
;
L. Duan
;
J. Yang
;
J. Min
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
2.
Advanced light source technologies that enable high-volume manufacturing of DUV lithography extensions
机译:
先进的光源技术可实现DUV光刻扩展的批量生产
作者:
Theodore Cacouris
;
Rajasekhar Rao
;
Rostislav Rokitski
;
Rui Jiang
;
John Melchior
;
Bernd Burfeindt
;
Kevin OBrien
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
3.
Enhancing lithography process control through advanced, on-boardbeam parameter metrology for wafer level monitoring oflight source parameters
机译:
通过先进的机载增强光刻工艺控制晶圆参数监测的光束参数计量光源参数
作者:
Jinphil Choi
;
Youngseog Kang
;
Chanhoon Park
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
4.
Computing exact Fourier series coefficients of IC rectilinear polygons from low-resolution fast Fourier coefficients
机译:
从低分辨率快速傅立叶系数计算IC直线多边形的精确傅立叶级数系数
作者:
Robin Scheibler
;
Paul Hurley
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
5.
Building 3D aerial image in photoresist with reconstructed mask image acquired with optical microscope
机译:
利用光学显微镜获取的掩模图像重建光刻胶中的3D航拍图像
作者:
C. S. Chou
;
Y. P. Tang
;
F. S. Chu
;
W. C. Huang
;
R. G. Liu
;
T. S. Gau
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
6.
The near field characteristics of the focused fieldembedded in the super-RENS layer applied tolithography
机译:
聚焦场的近场特性嵌入到超级RENS层中光刻技术
作者:
A. C. Assafrao
;
S. F. Pereira
;
H. P. Urbach
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
7.
Impact of non-uniform polarized illumination on hyper-NAlithography
机译:
非均匀偏振照明对超NA的影响光刻技术
作者:
Xuejia Guo
;
Yanqiu Li
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
8.
High hydrophobic topcoat approach for high volume production andyield enhancement of immersion lithography
机译:
高疏水性面漆方法可实现大批量生产和浸没式光刻的良率提高
作者:
Natsuko Sagawa
;
Katsushi Nakano
;
Yuuki Ishii
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
9.
A computation of partially coherent imaging illuminated by apolarized source via the stack pupil shift matrix approach
机译:
由a照射的部分相干成像的计算。通过堆叠光瞳位移矩阵方法的偏振光源
作者:
Yu Chen
;
Yong Liu
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
10.
In-situ measurement of lens aberrations in lithographic tools usingCTC-based quadratic aberration model
机译:
使用光刻技术在光刻工具中原位测量透镜像差基于CTC的二次像差模型
作者:
Xiaofei Wu
;
Shiyuan Liu
;
Shuang Xu
;
Xinjiang Zhou
;
Wei Liu
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
11.
Reconstruction of dynamical perturbations in optical systemsby opto-mechanical simulation methods
机译:
重建光学系统中的动态扰动通过光机械仿真方法
作者:
H. Gilbergs
;
N. Wengert
;
K. Frenner
;
P. Eberhard
;
W. Osten
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
12.
Symmetric polarization aberration compensation method based on scalar aberration control for lithographic projection lens
机译:
基于标量像差控制的光刻投影镜头对称偏振像差补偿方法
作者:
Yuanying Tu
;
Xiangzhao Wang
;
Sikun Li
;
Lifeng Duan
;
Peng Bu
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
13.
Modelling of side-wall angle for optical proximity correction for self-aligned double patterning
机译:
自对准双图案光学接近校正的侧壁角度建模
作者:
Sylvain Moulis
;
Vincent Farys
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
14.
New methodology to predict pattern collapse for 14nm and beyond
机译:
预测14nm及以上图形崩溃的新方法
作者:
Aasutosh Dave
;
John Sturtevant
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
15.
Three-dimensional polarization aberration in hyper-numericalaperture lithography optics
机译:
超数值的三维偏振像差孔径光刻光学
作者:
Jingmin Wang
;
Yanqiu Li
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
16.
A hybrid model/pattern based OPC approach for improvedconsistency and TAT
机译:
基于混合模型/模式的OPC方法以进行改进一致性和TAT
作者:
Tamer Desouky
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
17.
Influence of SRAF size on main feature CD variation on advanced node
机译:
SRAF大小对高级节点主要特征CD变化的影响
作者:
Wei Cyuan Lo
;
Yi Chou Chen
;
Yung Feng Cheng
;
Ming Jui Chen
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
18.
Lithography target optimization with source-mask optimization
机译:
使用源掩模优化的光刻目标优化
作者:
Yunfei Deng
;
Jongwook Kye
;
Harry J. Levinson
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
19.
Weighting evaluation for improving OPC model quality by usingadvanced SEM-contours from wafer and mask
机译:
加权评估以通过使用来提高OPC模型质量晶圆和掩模的高级SEM轮廓
作者:
Daisuke Fuchimoto
;
Daisuke Hibino
;
Hiroyuki Shindo
;
Yutaka Hojyo
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
20.
Full-chip correction of implant layer accounting for underlying topography
机译:
考虑到底层形貌的植入层全芯片校正
作者:
Minchul Oh
;
Hyungjoo Youn
;
Noyoung Chung
;
Jaeyeol Maeng
;
Sukjoo Lee
;
Jahum Ku
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
21.
Field performance availability improvements in lithography lightsources using the iGLX Gas Management System
机译:
光刻灯的现场性能可用性改进使用iGLX气体管理系统的气源
作者:
Kevin OBrien
;
Daniel J. Riggs
;
Joshua Thornes
;
Nora Han
;
Amit Chakravorty
;
Paul Belitz
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
22.
The overlay performance optimization based onoverlay manager system
机译:
基于的叠加性能优化覆盖管理器系统
作者:
G. Sun
;
J. Zhu
;
S. X. Li
;
F. L. Mao
;
L. F. Duan
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
23.
Consideration for application of NTD from OPC and simulation perspective
机译:
从OPC和仿真角度考虑NTD应用的思考
作者:
Mihye Kim
;
James Moon
;
Byoung-sub Nam
;
Se-young Oh
;
Hyun-jo Yang
;
Donggyu Yim
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
24.
Lithographic tool dynamic coordinate calibration for CDU improvement
机译:
光刻工具动态坐标校准,可改善CDU
作者:
Zhiyong Yang
;
Fanglin Mao
;
Anatoly Bourov
;
Jianrui Cheng
;
Le He
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
25.
RET and DFM techniques for sub 30nm
机译:
低于30nm的RET和DFM技术
作者:
E. Yesilada
;
C. Gardin
;
J. N. Pena
;
A. Villaret
;
V. Farys
;
C. Beylier
;
F. Robert
;
F. Bernard Granger
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
26.
Studies of the source and mask optimization for 20nm node in theactive layer
机译:
半导体中20nm节点的源和掩模优化研究。活动层
作者:
Chih-I Wei
;
Ruei-Hung Hsu
;
Yung-Feng Cheng
;
Ming-Jui Chen
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
27.
Edge placement error reduction and ringing effect suppression using model based targeting techniques
机译:
使用基于模型的定位技术减少边缘放置错误并抑制振铃效果
作者:
Chris Cork
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
28.
Improved flexibility with grayscale fabrication of calcium fluoride homogenizers
机译:
通过灰度制造氟化钙均化器提高了灵活性
作者:
Jeremiah Brown
;
Lamarr Simmons
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
29.
Complementary polarity exposures for cost-effective line-cutting inmultiple patterning lithography
机译:
互补极性曝光,可实现划算的线切割多图案光刻
作者:
Frederick T. Chen
;
Wei-Su Chen
;
Ming-Jinn Tsai
;
Tzu-Kun Ku
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
30.
Wafer CD variation for random units of track and polarization
机译:
晶圆CD变化,用于轨迹和极化的随机单位
作者:
Guoxiang Ning
;
Frank Richter
;
Karin Kurth
;
Stephanie Maelzer
;
Michael Hsieh
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
31.
Can fast rule-based assist feature generation in random-logic contact layout provide sufficient process window?
机译:
随机逻辑联系人布局中基于规则的快速辅助功能生成能否提供足够的处理窗口?
作者:
Ahmed Omran
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
32.
Defects reduction at BEOL interconnect within 300mm manufacturingenvironment
机译:
在300mm制造范围内减少BEOL互连的缺陷环境
作者:
Chien-Hsien S. Lee
;
Yayi Wei
;
Mark Kelling
;
ShaoBeng Law
;
Morris Mobley
;
K. C. Chai
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
33.
Source mask optimization methodology (SMO) and application to real full chip optical proximity correction
机译:
源掩模优化方法(SMO)及其在实际全芯片光学邻近校正中的应用
作者:
DongQing Zhang
;
GekSoon Chua
;
YeeMei Foong
;
Yi Zou
;
Jessy Schramm
;
T. Yun
;
Carl Babcock
;
Byoung IL Choi
;
Stefan Roling
;
Alessandra Navarra
;
Tanja Fischer
;
Andre Leschok
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
34.
Integration of pattern matching into verification flows
机译:
将模式匹配集成到验证流程中
作者:
Tamer Desouky
;
Omnia Saeed
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
35.
Immersion and dry ArF scanners enabling 22nm HP production and beyond
机译:
浸入式和干式ArF扫描仪可实现22nm HP及更高的生产量
作者:
Yusaku Uehara
;
Jun Ishikawa
;
Hirotaka Kohno
;
Eiichiro Tanaka
;
Masanori Ohba
;
Yuichi Shibazaki
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
36.
OPC model prediction capability improvements by accounting formask 3D-EMF effects
机译:
通过考虑以下因素改进OPC模型的预测能力遮罩3D-EMF效果
作者:
Jacky Cheng
;
Jessy Schramm
;
Dong Qing Zhang
;
Yee Mei Foong
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
37.
Advanced mask aligner lithography (AMALITH)
机译:
先进的掩模对准仪光刻(AMALITH)
作者:
Reinhard Voelkel
;
Uwe Vogler
;
Arianna Bramati
;
Tina Weichelt
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
38.
ZERODUR: bending strength datafor tensile stress loaded support structures
机译:
ZERODUR:弯曲强度数据用于承受拉应力的支撑结构
作者:
Tanja Bizjak
;
Peter Hartmann
;
Thomas Westerhoff
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
39.
Technological merits, process complexity, and cost analysis of self-aligned multiple patterning
机译:
自对准多重图案的技术优点,工艺复杂性和成本分析
作者:
Yijian Chen
;
Qi Cheng
;
Weiling Kang
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
40.
Predictable turn-around time for post tape-out flow
机译:
可预测的周转时间,用于后期磁带输出
作者:
Toshikazu Endo
;
Minyoung Park
;
Pradiptya Ghosh
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
41.
Driving imaging and overlay performance to the limits with advanced lithography optimization
机译:
通过先进的光刻优化将成像和覆盖性能提升到极限
作者:
Jan Mulkens
;
Jo Finders
;
Hans van der Laan
;
Paul Hinnen
;
Michael Kubis
;
Marcel Beems
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
42.
Source optimization incorporating margin image average withconjugate gradient method
机译:
源优化结合了边缘图像平均值与共轭梯度法
作者:
Jue-Chin Yu
;
Peichen Yu
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
43.
Robust resolution enhancement optimization methods to process variations based on vector imaging model
机译:
基于矢量成像模型的鲁棒分辨率增强优化方法来处理变化
作者:
Xu Ma
;
Yanqiu Li
;
Xuejia Guo
;
Lisong Dong
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
44.
Gradient-based resolution enhancement optimization methods based on vector imaging model
机译:
基于矢量图像模型的基于梯度的分辨率增强优化方法
作者:
Xu Ma
;
Yanqiu Li
;
Lisong Dong
会议名称:
《Conference on optical microlithography XXV》
|
2012年
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