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International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario
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1.
CHEMICAL ASPECTS OF SPIN-SPRAY DEPOSITION OF NiZn-FERRITES
机译:
镍锌铁素体旋转喷雾沉积的化学方面
作者:
Steven H. Lawrence
;
Peter Lubitz
;
Brian Rappoli
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
2.
CORROSION OF POROUS TITANIUM SURGICAL IMPLANTS
机译:
多孔钛外科植入物的腐蚀
作者:
S.K.M. Chooi
;
D.J. Blackwood
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
3.
CO-MODIFIED Ni OXIDE THIN FILMS THERMALLY GROWN ON Ni: ELECTROCATALYTIC PROPERTIES
机译:
共修饰氧化镍薄膜在镍上热生长的性质:电化学性能
作者:
Ana C. Tavares
;
Sergio Trasatti
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
4.
EVALUATION OF CORROSION RESISTANCE BEHAVIOR OF DIFFERENT SEALING AGENTS ON ANODISED ALUMINIUM ALLOYS BY ELECTROCHEMICAL IMPEDANCE SPECTROSCOPY
机译:
电化学阻抗谱法评价阳极氧化铝上不同密封剂的耐蚀性能
作者:
D. Kanagaraj
;
S. Mohan
;
N. G. Renganathan
;
V. Raj
;
M. Kamal Kumar
;
S. Venkatakrishna Iyer
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
5.
ELECTROCHEMICALLY-GROWN OXIDES ON U-Nb ALLOYS
机译:
U-Nb合金上的电化学氧化物
作者:
J.A. Lillard
;
D.N. Kelly
;
M.T. Paffett
;
R.J. Hanrahan
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
6.
ELECTROLUMINESCENCE OF ALUMINIUM DURING ELECTROCHEMICAL SURFACE PROCESSING
机译:
电化学表面处理过程中铝的电发光
作者:
L.C. Marsland
;
G.T. Burstein
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
7.
ELECTROCHEMICAL PROPERTIES OF Fe_2O_3-Cr_2O_3-MoO_2 ARTIFICIAL PASSIVATION FILMS IN HC1 SOLUTIONS
机译:
HC1溶液中Fe_2O_3-Cr_2O_3-MoO_2人工钝化膜的电化学性质
作者:
K. Sugimoto
;
M. Son
;
N. Akao
;
N. Hara
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
8.
ELECTRODEPOSITED OXIDE FILMS ON FIBROUS CARBON SUBSTRATES
机译:
纤维状碳基材上的电沉积氧化膜
作者:
I. Zhitomirsky
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
9.
IN SITU XANES STUDY ON THE ACTIVE AND TRANSPASSIVE DISSOLUTION OF NI AND NI-CR ALLOYS IN 0.1 M H_2SO_4
机译:
Ni和NI-CR合金在0.1 M H_2SO_4中的主动和穿越溶解原位研究
作者:
Lucy J. Oblonsky
;
Mary P. Ryan
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
10.
NEW RATE LAWS FOR THE ANODIC GROWTH OF PASSIVE FILMS
机译:
阳极膜阳极氧化的新速率定律
作者:
Digby D. Macdonald
;
Mohammed Al Rafaie
;
George R Engelhardt
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
11.
MONITORING THE EARLY STAGES OF CORROSION ON CARBON STEEL SURFACES IN SODIUM NITRITE SOLUTIONS
机译:
监测亚硝酸钠溶液中碳钢表面腐蚀的早期阶段
作者:
Scott C. Paulson
;
Peyman Khalafpour
;
David Cramb
;
Viola Birss
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
12.
MICROELECTRODES FOR STUDIES OF PASSIVE METAL SURFACES
机译:
研究无源金属表面的微电极
作者:
H. Boehni
;
St. Matsch
;
J.O. Park
;
T. Suter
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
13.
NONLINEAR DIELECTRIC PROPERTIES OF ANODIC ALUMINA FILMS
机译:
阳极氧化铝膜的非线性介电性能
作者:
R. S. Alwitt
;
T. Hasebe
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
14.
OXIDATION OF InP AND RELATED MATERIALS
机译:
InP及相关材料的氧化
作者:
R.J. Hussey
;
G.I. Sproule
;
J.P. McCaffrey
;
R. Driad
;
P.J. Poole
;
D. Landheer
;
M.J. Graham
;
A.J. SpringThorpe
;
A. Pakes
;
F. Echeverria
;
P. Skeldon
;
G.E. Thompson
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
15.
OXIDE NETWORKS AND THE PASSIVITY OF BINARY ALLOYS
机译:
氧化物网络与二元合金的钝化
作者:
E. McCafferty
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
16.
OXIDE FILMS AND CORROSION BEHAVIOR OF THE CHROMIZED 316 STAINLESS STEEL IN SUPERCRITICAL WATER
机译:
316不锈钢在超临界水中的氧化物膜和腐蚀行为。
作者:
H. Kim
;
J. Yoon
;
Y. Kurata
;
N. Sanada
;
B. D. Mitton
;
R. M. Latanision
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
17.
Preparation of Rare-Earth Metal Oxide Films through Electrochemical Reaction
机译:
电化学反应制备稀土金属氧化物薄膜
作者:
Masanobu Izaki
;
Masami Ishikawa
;
Mitsuteru Inoue
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
18.
PASSIVE FILM GROWTH MODELS STUDIED WITH THE EQCM ON PVD DEPOSITED CHROMIUM
机译:
在PVD沉积铬上用EQCM研究的被动膜生长模型
作者:
C-O. A. Olsson
;
D. Hamm
;
D. Landolt
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
19.
PARALINEAR OXIDATION OF SiC AND Si_3N_4 IN COMBUSTION ENVIRONMENTS
机译:
燃烧环境中SiC和Si_3N_4的超线性氧化
作者:
Elizabeth J. Opila
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
20.
THE ROLE OF OXIDE FILMS IN THE REDUCTION OF N - NITROSODIMETHYLAMINE WITH REFERENCE TO THE IRON GROUNDWATER REMEDIATION TECHNOLOGY
机译:
氧化铁膜在铁地下水修复技术中还原N-亚硝二甲基亚胺中的作用。
作者:
M.S. Odziemkowski
;
L. Gui
;
R.W. Gillham
;
D.E. Irish
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
21.
THE USE OF PHOSPHORIC ACID IMMERSION TO ENHANCE THE SUSCEPTIBILITY OF ALUMINUM TO ANODIC PITTING CORROSION
机译:
使用磷酸浸泡来提高铝对阳极氧化坑腐蚀的敏感性
作者:
H. Wu
;
K. R. Hebert
;
T. Gessmann
;
K. G. Lynn
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
22.
CHLORIDE UPTAKE BY THE OXIDE FILMS ON SINGLE CRYSTAL AND POLYCRYSTALLINE ALUMINUM AS DETERMINED USING X-RAY ABSORPTON NEAR EDGE STRUCTURE
机译:
X射线吸收近边缘结构测定单晶和多晶铝上氧化物膜上的氯化物吸收量
作者:
Steven Y. Yu
;
Paul M. Natishan
;
William E. OGrady
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
23.
ELECTRONIC DEFECTS AND INTERFACE POTENTIALS FOR Al OXIDE FILMS ON Al AND THEIR RELATIONSHIP TO ELECTROCHEMICAL PROPERTIES
机译:
Al上氧化铝薄膜的电子缺陷和界面势及其与电化学性能的关系
作者:
J. P. Sullivan
;
R. G. Dunn
;
J. C. Harbour
;
F. D. Wall
;
N. Missert
;
R. G. Buchheit
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
24.
ELECTROPHORETIC AND ELECTROLYTIC DEPOSITION OF OXIDE FILMS
机译:
氧化物膜的电沉积和电解沉积
作者:
I. Zhitomirsky
;
A. Petric
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
25.
ELECTROLYTIC DEPOSITION OF OXIDE FILMS VIA PEROXOPRECURSORS
机译:
通过过氧化物传感器电解沉积氧化物膜
作者:
I. Zhitomirsky
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
26.
Electrochemical and Topographical Characterization of Optically Smooth Zn Films Prepared by Physical Vapor Deposition
机译:
物理气相沉积制备的光学光滑锌膜的电化学和形貌表征
作者:
Yu Luo
;
Nelson Yee
;
Qingfang Shi
;
Baoxin Zhang
;
Yibo Mo
;
Gary S. Chottiner
;
Daniel A. Scherson
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
27.
ELECTROCHEMICAL MICROSCOPIES FOR STUDYING PASSIVE FILMS
机译:
用于研究无源薄膜的电化学显微镜
作者:
David E Williams
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
28.
EXPERIMENTAL ANALYSIS OF POTENTIAL AND CURRENT FLUCTUATIONS OBTAINED FROM ACTIVE AND PASSIVE AISI 304 ELECTRODES
机译:
从有源和无源AISI 304电极获得的电位和电流波动的实验分析
作者:
J. Lowe
;
D. Freitas
;
J.A. Ponciano
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
29.
EXPLORATION OF ELECTROCHEMICAL PROCESSES AT CORROSION PRECURSOR SITES BY FUNCTIONAL NSOM IMAGING
机译:
功能性NSOM成像在腐蚀前兆场所的电化学工艺研究。
作者:
M. Buechler
;
J. Kerimo
;
F. Guillaume
;
W. H. Smyrl
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
30.
FABRICATION OF HIGHLY ORDERED NANOHOLE ARRAY ARCHITECTURE IN ANODIC POROUS ALUMINA
机译:
多孔阳极氧化铝中高级纳米多孔阵列的制备
作者:
Hideki Masuda
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
31.
KINETICS OF OXIDE FILM PASSIVATION IN ALUMINUM ETCH TUNNELS
机译:
铝蚀刻隧道中氧化膜钝化的动力学
作者:
Nishant Sinha
;
Kurt R. Hebert
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
32.
HYDROGEN DESORPTION MECHANISMS IN METASTABLE BETA TI-3AL-8V-6CR-4MO-4ZR
机译:
亚稳态BE-3 TI-8AL-8V-6CR-4MO-4ZR中的氢脱附机理
作者:
Michelle Gaudett Koul
;
John R.Scully
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
33.
HIGHLY ORDERED ALUMINA FILMS: PORE GROWTH AND APPLICATIONS
机译:
高度订购的铝膜:毛孔增长及其应用
作者:
R.B. Wehrspohn
;
A.P. Li
;
K. Nielsch
;
F. Mueller
;
W. Erfurth
;
U. Goesele
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
34.
IN SITU XANES INVESTIGATIONS OF Fe_2O_3/Cr_2O_3 ARTIFICIAL PASSIVE FILMS
机译:
Fe_2O_3 / Cr_2O_3人工无源薄膜的原位研究
作者:
P.Schmuki
;
S. Virtanen
;
H.S. Isaacs
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
35.
INVESTIGATIONS OF THE OXIDE FILM ON ALUMINUM IN NaCl SOLUTIONS
机译:
在NaCl溶液中铝上氧化物膜的研究
作者:
A. Kolics
;
P
;
Waszczuk
;
P. Baradlai
;
L. Gancs
;
Z. Nemeth
;
A. Wieckowski
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
36.
NON-EQUILIBRIUM POINT DEFECT MODEL FOR TIME-DEPENDENT PASSIVATION OF METAL SURFACES
机译:
时间依赖的金属表面钝化的非平衡点缺陷模型
作者:
Balaji Krishnamurthy
;
Ralph E. White
;
Harry J. Ploehn
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
37.
OXIDATION CHARACTERISTICS OF ALIPHATIC ACIDS USING DIFFERENTLY 'DOPED' TIN OXIDE ANODES
机译:
使用不同的“掺杂”氧化锡阳极对脂肪族酸的氧化特性
作者:
C. Bock
;
B. MacDougall
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
38.
THE TEMPERATURE EFFECT ON THE GROWTH OF THIN PALLADIUM OXIDE FILMS
机译:
温度对氧化钯薄膜生长的影响
作者:
L. H. DallAntonia
;
G. Tremiliosi-Filho
;
G. Jerkiewicz
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
|
2000年
39.
SCANNING ELECTROCHEMICAL MICROSCOPY OF DEFECTS IN THIN ALUMINUM OXIDE FILMS
机译:
薄氧化铝膜缺陷的扫描电镜观察
作者:
Irina Serebrennikova
;
Henry S. White
;
F. Doug Wall
;
Nancy Missert
;
John P. Sullivan
;
J. Charles Barbour
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
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2000年
40.
POSITRON ANNIHILATION SPECTROSCOPY STUDY OF INTERFACIAL DEFECTS FORMED BY DISSOLUTION OF ALUMINUM IN AQUEOUS SODIUM HYDROXIDE
机译:
铝在氢氧化钠水溶液中溶解形成的界面缺陷的正电子AN没谱研究
作者:
Kurt R. Hebert
;
Huiquan Wu
;
Thomas Gessmann
;
Kelvin Lynn
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
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2000年
41.
THE INFLUENCE OF RADIATION ON THE PASSIVITY OF TUNGSTEN
机译:
辐射对钨钝化的影响
作者:
R.S. Lillard
;
L.L. Daemen
会议名称:
《International Symposium on Oxide Films, May 15-18, 2000, Toronto, Ontario》
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2000年
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