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Conference on photomask technology
Conference on photomask technology
召开年:
2009
召开地:
Monterey, CA(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
MAPPER: HIGH THROUGHPUT MASKLESS LITHOGRAPHY
机译:
MAPPER:高通透的无光刻术
作者:
V. Kuiper
;
B.J. Kampherbeek
;
M.J. Wieland
;
G. de Boer
;
G.F. ten Berge
;
J. Boers
;
R. Jager
;
T. van de Peut
;
J.J.M. Peijster
;
E. Slot S.W.H.K. Steenbrink
;
T.F. Teepen
;
A.H.V. van Veen
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
maskless lithography;
MAPPER;
exposure results;
2.
Model-Based Assist Features
机译:
基于模型的辅助功能
作者:
Bayram Yenikaya
;
Oleg Alexandrov
;
Yongjun Kwon
;
Anwei Liu
;
Ali Mokhberi
;
Apo Sezginer
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
model-based;
SRAF;
sub-resolution;
assist-features;
RET;
OPC;
3.
Actinic EUVL mask blank inspection capability with time delay integration mode
机译:
具有延时集成模式的光化EUVL掩模空白检测功能
作者:
Takeshi Yamane
;
Toshihiko Tanaka
;
Tsuneo Terasawa
;
Osamu Suga
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
EUVL mask;
actinic inspection;
phase defect;
detection probability;
false defect;
4.
Expanding The Lithography Process Window (PW) With CDC Technology
机译:
利用CDC技术扩展光刻工艺窗口(PW)
作者:
Sz-Huei Wang
;
Yu-Wan Chen
;
Chung Ming Kuo
;
Erez Graitzer
;
Guy Ben-Zvi
;
Avi Cohen
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
CDC;
process window;
CDU;
DOF;
exposure latitude;
lithography;
5.
Exposure Results with Four Column Cells In Multi Column EB Exposure System
机译:
多列EB曝光系统中四列像元的曝光结果
作者:
Akio Yamada
;
Hiroshi Yasuda
;
Masaki Yamabe
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
electron beam;
exposure system;
multi column;
character projection technology;
stitching errors;
6.
Critical Dimension Uniformity using Reticle Inspection Tool
机译:
使用标线检查工具的关键尺寸均匀性
作者:
Mark Wylie
;
Trent Hutchinson
;
Gang Pan
;
Thomas Vavul
;
John Miller
;
Aditya Dayal
;
Carl Hess
;
Mike Green
;
Shad Hedges
;
Dan Chalom
;
Maciej Rudzinski
;
Craig Wood
;
Jeff McMurran
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
7.
Challenging defect repair techniques for maximizing mask repair yield
机译:
具有挑战性的缺陷修复技术,可最大程度地提高掩模修复的良率
作者:
Anthony Garetto
;
Jens Oster
;
Markus Waiblinger
;
Klaus Edinger
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
MeRiT? MG 45;
AIMS? 45-193i;
mask repair;
defect repair;
electron beam repair;
repair yield;
8.
SMO Photomask Inspection in the Lithographic Plane
机译:
平版印刷机中的SMO光掩模检查
作者:
Emily Gallagher
;
Karen Badger
;
Yutaka Kodera
;
Jaione Tirapu Azpiroz
;
Ioana Graur
;
Scott D. Halle
;
Kafai Lai
;
Gregory R. McIntyre
;
Mark J. Wihl
;
Shaoyun Chen
;
Ge Cong
;
Bo Mu
;
Zhian Guo
;
Aditya Dayal
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
8 source mask optimization(SMO);
aerial plane inspection (API);
lithography simulation;
9.
Aerial Image Based Die-to-Model Inspections of Advanced Technology Masks
机译:
基于航空影像的先进技术口模的模检
作者:
Jun Kim
;
Wei-Guo Lei
;
Joan McCall
;
Suheil Zaatri
;
Michael Perm
;
Rajesh Nagpal
;
Lev Faivishevsky
;
Michael Ben-Yishai
;
Udy Danino
;
Aviram Tarn
;
Oded Dassa
;
Vivek Balasubramanian
;
Tejas H Shah
;
Mark Wagner
;
Shmoolik Mangan
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
mask inspection;
modeling;
optical modeling;
aerial imaging;
10.
A Cost of Ownership Model for Imprint Lithography Templates for HDD Applications
机译:
HDD应用程序压印光刻模板的拥有成本模型
作者:
Brian J. Grenon
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
nano-imprint;
template;
nano-imprint stamp;
cost of ownership;
pattern generation;
discrete track recording (DTR);
Bit Patterned Media (BPM);
high density disk (HDD);
11.
High MEEF Reticle Inspection Strategy
机译:
高MEEF标线检查策略
作者:
Anna Tchikoulaeva
;
Remo Kirsch
;
Stephanie Winkelmeier
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
reticle qualification;
wafer inspection;
programmed defects;
high MEEF;
printability;
12.
Inverse lithography (ILT) mask manufaeturability for full-chip Device
机译:
全芯片器件的反向光刻(ILT)掩模可制造性
作者:
Byung-Gook Kim
;
Sung Soo Suh
;
Sang Gyun Woo
;
HanKu Cho
;
Guangming Xiao
;
Dong Hwan Son
;
Dave Irby
;
David Kim
;
Ki-Ho Baik
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
inverse lithography technology (ILT);
Sub-resolution assist feature (SRAF);
resolution enhancement technology (RET);
lithography simulation;
13.
SRAF Enhancement using Inverse Lithography for 32 nm Hole Patterning and Beyond
机译:
使用反向光刻技术对SRAF进行32 nm孔构图及其他工艺的增强
作者:
V.Farys
;
F. Chaoui
;
J. Entradas
;
F. Robert
;
O. Toublan
;
Y. Trouiller
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
logic 32 nm;
model-based SRAF;
inverse lithography;
MRC;
14.
EUVL ML Mask Blank Fiducial Mark Application for ML Defect Mitigation
机译:
EUVL ML面膜空白基准标记缓解ML缺陷的应用
作者:
Pei-yang Yan
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
EUVL mask blanks;
EUVL multi-layers;
fiducial marks. ML defects;
defect mitigation;
15.
How much is enough? An analysis of CD measurement amount for mask characterization
机译:
多少钱够了?用于掩模表征的CD测量量分析
作者:
Albrecht Ullrich
;
Jan Richter
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
CD-measurement;
cycle time;
CD sampling;
CD-SEM;
16.
Experimental Test Results Of Pattern Placement Metrology On Photomasks With Laser Illumination Source Designed To Address Double Patterning Lithography Challenges
机译:
旨在解决双重图案化光刻挑战的激光照明源在光掩模上进行图案放置计量的实验测试结果
作者:
Klaus-Dieter Roeth
;
Frank Laske
;
Michael Heiden
;
Dieter Adam
;
Lidia Parisoli
;
Slawomir Czerkas
;
John Whittey
;
Karl-Heinrich Schmidt
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
registration metrology;
mask metrology;
double patterning lithography;
advanced reticles;
through-pellicle measurement;
in-die registration measurement;
LMS IPRO4;
17.
6-inch circle template fabrication for patterned media using a conventional resist and new chemically amplified resists
机译:
使用常规抗蚀剂和新型化学放大抗蚀剂制作6英寸圆形模板,用于图案化介质
作者:
Morihisa Hoga
;
Masaharu Fukuda
;
Tsuyosi Chiba
;
Mikio Ishikawa
;
Kimio Itoh
;
Masaaki Kurihara
;
Nobuhito Toyama
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
NIL;
patterned media;
master template;
chemically amplified resist;
18.
Using metrology capabilities of mask inspection equipment for optimizing total lithography performance
机译:
利用掩模检测设备的计量功能优化总光刻性能
作者:
Shuichi Tamamushi
;
Noriyuki Takamatsu
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
mask inspection;
CD uniformity;
image placement;
DPT;
19.
A 193 nm Optical CD metrology tool for the 32 nm node
机译:
用于32 nm节点的193 nm Optical CD计量工具
作者:
Z. Li
;
F. Pilarski
;
D. Bergmann
;
B. Bodermann
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
CD metrology;
line width;
optical microscopy;
DUV 193 nm;
DUV microscope;
32 nm node;
45 nm node;
20.
Printability verification function of Mask Inspection System
机译:
面膜检查系统的适印性验证功能
作者:
Hideo Tsuchiya
;
Masaki Yamabe
;
Masakazu Tokita
;
Kenichi Takahara
;
Kinya Usuda
;
Fumio Ozaki
;
Nobutaka Kikuiri
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
mask inspection system;
printability;
lithography;
aerial image;
resist image;
simulation;
pseudo defects;
npi-6000;
21.
Mask Performance Improvement with Mapping
机译:
通过映射提高蒙版性能
作者:
Clemens Utzny
;
Eric Cotte
;
Timo Wandel
;
Jan Hendrik Peters
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
critical dimensions;
placement;
registration;
mapping;
correction;
photomask;
22.
Duplicated Quartz Template for 2.5 inch Discrete Track Media
机译:
2.5英寸离散磁道介质的重复石英模板
作者:
Noriko Yamashita
;
Tadashi Oomatsu
;
Satoshi Wakamatsu
;
Katsuhiro Nishimaki
;
Toshihiro Usa
;
Kazuyuki Usuki
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
discrete track media;
nano imprint lithography;
quartz template;
23.
Correlation of Overlay Performance and Reticle Substrate Non-flatness Effects in EUV Lithography
机译:
EUV光刻中覆膜性能和光罩基材非平坦性影响的相关性
作者:
Sudhar Raghunathan
;
Adam Munder
;
John Hartley
;
Jaewoong Sohn
;
Kevin Orvek
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
EUVL;
overlay;
reticle;
non-flatness;
image placement error;
24.
Measurement Sampling Frequency Impact on Determining Magnitude of Pattern Placement Errors on Photomasks
机译:
测量采样频率对确定光掩模上图案放置误差的幅度的影响
作者:
J. Whittey
;
F. Laske
;
K.-D. Roeth
;
J. McCormack
;
D. Adam
;
J. Bender
;
C. N. Berglund
;
M. Takac
;
Seurien Chou
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
mask metrology;
registration;
sampling;
overlay;
yield;
25.
Photomask metrology using a 193 nm scatterfield microscope
机译:
使用193 nm散射场显微镜进行光掩模计量
作者:
R. Quintanilha
;
B. M. Barnes
;
Y. Sohn
;
L. P. Howard
;
R. M. Silver
;
J. E. Potzick
;
M. T. Stocker
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
photomask metrology;
isolated line metrology;
193 nm wavelength;
scatterfield microscopy;
26.
A new x-ray metrology for profiling nanostructures of patterned media
机译:
一种用于分析图案化介质纳米结构的新型X射线计量学
作者:
Kazuhiko Omote
;
Yoshiyasu Ito
;
Yuko Okazaki
;
Yuichi Kokaku
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
patterned media;
discrete track;
line width;
track height;
x-ray diffraction;
27.
Defect Printability Analysis by Lithographic Simulation from High Resolution Mask Images
机译:
通过光刻模拟从高分辨率掩模图像进行缺陷可印刷性分析
作者:
George Chen
;
James N. Wiley
;
Jen-Shiang Wang
;
Rafael C. Howell
;
Shufeng Bai
;
Yi-Fan Chen
;
Frank Chen
;
Yu Cao
;
Tadahiro Takigawa
;
Yasuko Saito
;
Terunobu Kurosawa
;
Hideo Tsuchiya
;
Kinya Usuda
;
Masakazu Tokita
;
Fumio Ozaki
;
Nobutaka Kikuiri
;
Yoshitake Tsuji
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
mask;
reticle;
high resolution;
inspection;
deconvolution;
193nm;
litho simulation;
wafer printability;
LMC;
AIMS?;
28.
Post Exposure Bake Tuning for 32nm Photomasks
机译:
曝光后烘烤调整,用于32nm光掩模
作者:
A. E. Zweber
;
T. Komizo
;
J. Levin
;
J. Whang
;
S. Nemoto
;
S. Kondo
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
post exposure bake;
e-beam;
resist;
photomask;
CDU;
LER;
29.
Simulation Based Mask Defect Repair Verification and Disposition
机译:
基于仿真的面罩缺陷修复验证和处理
作者:
Eric Guo
;
Shirley Zhao
;
Skin Zhang
;
Sandy Qian
;
Guojie Cheng
;
Abhishek Vikram
;
Li Ling
;
Ye Chen
;
Chingyun Hsiang
;
Gary Zhang
;
Bo Su
会议名称:
《》
|
2009年
关键词:
mask defects;
SEM image;
simulation;
defect repair;
verification;
disposition;
30.
Reduction of Local CD-Linewidth Variations in Resist Develop through Acoustic Streaming
机译:
通过声流减少本地CD线宽变化的抵抗发展
作者:
Gaston Lee
;
Peter Dress
;
Ssuwei Chen
;
Uwe Dietze
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
ASonic~? nozzle;
A~+nozzle;
photomask;
resist development;
CD-uniformity;
photo resist;
p-CAR;
n-CAR;
31.
Electron Beam Mask Writer EBM-7000 for Hp 32nm Generation
机译:
用于Hp 32nm生成的电子束掩模写入器EBM-7000
作者:
Takashi Kamikubo
;
Kenji Ohtoshi
;
Noriaki Nakayamada
;
Rieko Nishimura
;
Hitoshi Sunaoshi
;
Kiminobu Akeno
;
Soichiro Mitsui
;
Yuichi Tachikawa
;
Hideo Inoue
;
Susumu Oogi
;
Hitoshi Higurashi
;
Akinori Mine
;
Takiji Ishimura
;
Seiichi Tsuchiya
;
Yoshitada Gomi
;
Hideki Matsui
;
Shuichi Tamamushi
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
electron beam mask writer;
resolution;
beam blur;
data volume;
shot count;
local CD uniformity;
image placement;
overlay;
32.
Mask Pattern Recovery by Level Set Method based Inverse Inspection Technology (IIT) and its Application on Defect Auto Disposition
机译:
基于水平集方法的逆向检查技术(IIT)的掩模图案恢复及其在缺陷自动处理中的应用
作者:
Jin-Hyung Park
;
Paul.D.H Chung
;
Chan-Uk Jeon
;
Han Ku Cho
;
Banwol-Dong
;
Hwaseong-City
;
Gyeonggi-Do Korea
;
Linyong Pang
;
Danping Peng
;
Vikram Tolani
;
Tom Cecil
;
David Kim
;
KiHo Baik
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
mask inspection;
mask pattern reconstruction;
mask pattern recovery;
mask pattern inversion;
inverse lithography technology (ILT);
mask defect disposition;
aerial image;
33.
High-Resolution E-Beam Repair for Nanoimprint Templates
机译:
纳米压印模板的高分辨率电子束修复
作者:
Marcus Pritschow
;
Harald Dobberstein
;
Klaus Edinger
;
Mathias Irmscher
;
Douglas J. Resnick
;
Kosta Selinidis
;
Ecron Thompson
;
Markus Waiblinger
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
nanoimprint lithography;
template;
repair;
34.
Source-Mask co-Optimization (SMO) using Level Set Methods
机译:
使用级别集方法的源掩码协同优化(SMO)
作者:
Vikram Tolani
;
Peter Hu
;
Danping Peng
;
Tom Cecil
;
Robert Sinn
;
Linyong (Leo) Pang
;
Bob Gleason
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
inverse lithography technology (ILT);
RET;
source mask optimization (SMO);
32nm below;
low-kl;
depth of focus;
DOF;
mask error enhancement factor;
MEEF;
35.
Thin absorber EUVL mask with light-shield border for full-field scanner : Flatness and image placement change through mask process
机译:
薄吸收器EUVL掩模,带遮光边界,用于全场扫描仪:掩模过程会改变平坦度和图像放置
作者:
Takashi Kamo
;
Yuusuke Tanaka
;
Toshihiko Tanaka
;
Osamu Suga
;
Tsukasa Abe
;
Tadahiko Takikawa
;
Hiroshi Mohri
;
Tsutomu Shoki
;
Youichi Usui
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
EUV lithography;
mask;
absorber;
multilayer;
flatness;
image placement;
light-shield;
36.
Inspection of 32nm imprinted patterns with an advanced e-beam inspection system
机译:
使用先进的电子束检查系统检查32nm压印图案
作者:
Hong Xiao
;
Long (Eric) Ma
;
Fei Wang
;
Yan Zhao
;
Jack Jau
;
Kosta Selinidis
;
Ecron Thompson
;
S.V. Sreenivasan
;
Douglas J. Resnick
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
NIL;
J-FIL;
EBI;
program defects;
repeating defects;
32nm;
37.
Comparison of Lithographic Performance between MoSi Binary mask and MoSi Attenuated PSM
机译:
MoSi二元掩模和MoSi衰减PSM的光刻性能比较
作者:
Mitsuharu Yamana
;
Matthew Lamantia
;
Vicky Philipsen
;
Shingo Wada
;
Tatsuya Nagatomo
;
Yoji Tonooka
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
MoSi binary mask;
OMOG;
6 attenuated PSM;
20 attenuated PSM;
double patterning;
38.
PMJ Panel Discussion Overview: Mask Manufacturing with Massive or Multi-parallel Method
机译:
PMJ小组讨论概述:采用大规模或多平行方法进行掩模制造
作者:
Minoru Sugawara
;
Kokoro Kato
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
lithography;
parallel;
massive;
computation;
cost;
mask;
reticle;
writer;
inspection;
data;
EUV;
39.
Model - Based Assist Feature Placement for 32nm and 22nm Technology Nodes Using Inverse Mask Technology
机译:
使用逆掩模技术的基于模型的32nm和22nm技术节点辅助特征放置
作者:
Amyn Poonawala
;
Benjamin Painter
;
Chip Kerchner
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
40.
New Tools to Enable Photomask Repair to the 32 nm Node
机译:
启用对32 nm节点进行光掩模修复的新工具
作者:
Tod Robinson
;
Roy White
;
Ron Bozak
;
Ken Roessler
;
Bernie Arruza
;
Dennis Hogle
;
Mike Archuletta
;
David Lee
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
photomask;
repair;
AFM;
nanometer;
3D shape reconstruction;
32 nm node;
nanomachining;
EUV;
41.
Behavior of the Molybdenum Silicide Thin Film by 193 nm Exposure
机译:
193 nm暴露的硅化钼薄膜的行为
作者:
Sin-Ju Yang
;
Han-Sun Cha
;
Jin-ho Ahn
;
Kee-Soo Nam
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
MoSi;
thin film;
irradiation;
oxygen;
transmittance;
42.
Enhanced Laser-Writing Techniques for Bimetallic Grayscale Photomasks
机译:
用于双金属灰度光掩模的增强型激光写入技术
作者:
James M. Dykes
;
Glenn H. Chapman
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
grayscale photomask;
direct-write;
laser oxidation;
mask-writing;
thin film;
optical density;
bimetallic;
real-time measurement;
thermal resist;
closed-loop;
beam-shaping;
43.
Study of Program Defects of 22nm Nano Imprint Template with an Advanced e-beam Inspection System
机译:
先进的电子束检测系统研究22nm纳米压印模板的程序缺陷
作者:
Takaaki Hiraka
;
Jun Mizuochi
;
Yuko Nakanishi
;
Satoshi Yusa
;
Shiho Sasaki
;
Masaaki Kurihara
;
Nobuhito Toyama
;
Yasutaka Morikawa
;
Hiroshi Mohri
;
Naoya Hayashi
;
Hong Xiao
;
Chiyan Kuan
;
Fei Wang
;
Long (Eric) Ma
;
Yan Zhao
;
Jack Jau
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
NIL;
template;
defect inspection;
EBI;
44.
Sub-Resolution Assist Features Placement Using Cost-Function-Reduction Method
机译:
使用成本函数缩减法的次分辨率辅助特征放置
作者:
Jinyu Zhang
;
Wei Xiong
;
Yan Wang
;
Zhiping Yu
;
Min-Chun Tsai
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
SRAF;
CFRM;
global minimum;
ILT;
45.
Development of multiple pass exposure in electron beam direct write lithography for sub-32nm nodes
机译:
低于32nm节点的电子束直接写入光刻中的多次通过曝光的发展
作者:
L. Martin
;
S. Manakli
;
B. Icard
;
J. Pradelles
;
R. Orobtchouk
;
A. Poncet
;
L. Pain
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
electron beam lithography;
process improvement;
resolution;
EBPC;
energy latitude;
46.
Charged Particle Multi-Beam Lithography Evaluations for sub-16nm hp Mask Node Fabrication and Wafer Direct Write
机译:
16纳米以下hp掩模节点制造和晶圆直接写入的带电粒子多束光刻评估
作者:
Elmar Platzgummer
;
Christof Klein
;
Peter Joechl
;
Hans Loeschner
;
Martin Witt
;
Wolfgang Pilz
;
Joerg Butschke
;
Michael Jurisch
;
Florian Letzkus
;
Holger Sailer
;
Mathias Irmscher
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
mask and template writing;
multi-beam lithography and nanopatterning;
electron and ion projection optics;
47.
SEM CD metrology on nanoimprint template: An analytical SEM approach
机译:
纳米压印模板上的SEM CD计量:一种分析SEM方法
作者:
Justin J. Hwu
;
Sergey Babin
;
Lorena Page
;
Alex Danilevsky
;
Andy Self
;
Kazuhiro Ueda
;
Shunzuke Koshihara
;
Koichi Wago
;
Kim Lee
;
David Kuo
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
SEM metrology;
SEM algorithm;
beam spot size;
monte carlo simulation;
48.
Mask Industry Assessment: 2009
机译:
口罩行业评估:2009年
作者:
Greg Hughes
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
mask industry;
photomask;
industry;
mask yield;
photomask yield;
mask quality;
photomask quality;
49.
In-die Metrology on Photomasks for low ki Lithography
机译:
低k光刻光刻胶的制片计量
作者:
Dirk Beyer
;
Ute Buttgereit
;
Thomas Scheruebl
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
关键词:
metrology;
in-die;
registration measurement;
phase metrology;
CD metrology;
aerial imaging;
50.
Results of an international photomask linewidth comparison of NIST and PTB
机译:
NIST和PTB的国际光掩模线宽比较结果
作者:
B. Bodermann
;
D. Bergmann
;
E. Buhr
;
W. Hasser-Grohne
;
H. Bosse
;
J. Potzick
;
R. Dixson
;
R. Quintanilha
;
M. Stocker
;
A. Vladar
;
N. G. Orji
会议名称:
《Conference on photomask technology》
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2009年
关键词:
linewidth;
CD metrology;
uncertainty components;
nano1;
international comparison;
MRA;
photomask;
51.
Advances in CO2 Cryogenic Aerosol Technology For Photomask Post AFM Repair
机译:
AFM修复后光掩模用CO2低温气雾剂技术的发展
作者:
Charles Bowers
;
Ivin Varghese
;
Mehdi Balooch
;
Jaime Rodriguez
会议名称:
《Conference on photomask technology》
|
2009年
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