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Photomask and next-generation lithography mask technology XX
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1.
Better numerical model for shape-dependent dose margin correction using Model-Based Mask Data Preparation
机译:
使用基于模型的遮罩数据准备,用于形状相关剂量裕度校正的更好的数值模型
作者:
Yasuki Kimura
;
Takao Kubota
;
Kenji Kouno
;
Kazuyuki Hagiwara
;
Shohei Matsushita
;
Daisuke Hara
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
model based;
mask making;
electron beam;
writer;
dose margin;
2.
A Study of phase defect measurement on EUV mask by multiple detectors CD-SEM
机译:
利用多探测器CD-SEM测量EUV掩模的相位缺陷的研究
作者:
Isao Yonekura
;
Hidemitsu Hakii
;
Shinya Morisaki
;
Tsutomu Murakawa
;
Soichi Shida
;
Masayuki Kuribara
;
Toshimichi Iwai
;
Jun Matsumoto
;
Takayuki Nakamura
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
phase defects;
EUV;
MVM-SEM;
3D measurement;
multilayer;
3.
Next Generation Electron Beam Lithography System 'F7000' for Wide Range Applications
机译:
适用于广泛应用的下一代电子束光刻系统'F7000'
作者:
Hirofumi Hayakawa
;
Masahiro Takizawa
;
Masaki Kurokawa
;
Akiyoshi Tsuda
;
Masami Takigawa
;
Shin-ichi Hamaguchi
;
Akio Yamada
;
Kiichi Sakamoto
;
Takayuki Nakamura
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
F7000;
character projection (CP);
e-beam lithography system;
adjusting pallet function;
4.
Defect Printability Studies at SEMATECH
机译:
SEMATECH的缺陷可印刷性研究
作者:
Il-Yong Jang
;
Ranganath Teki
;
Vibhu Jindal
;
Frank Goodwin
;
Masaki Satake
;
Ying Li
;
Danping Peng
;
Sungmin Huh
;
Seong-Sue Kim
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
EUV mask;
defect printability;
phase defect;
printability simulation;
multilayer growth model;
5.
EUV Reticle Inspection with a 193nm Reticle Inspector
机译:
使用193nm标线检查器进行EUV标线检查
作者:
William Broadbent
;
Gregg Inderhees
;
Tetsuya Yamamoto
;
Isaac Lee
;
Phillip Lim
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
EUV;
mask inspection;
die-to-database;
die-to-die;
EUV blank;
6.
Projection Exposure Using a Projector with Highly Minute Liquid Crystal Display Panels
机译:
使用带有微型液晶显示面板的投影仪进行投影曝光
作者:
Soichiro Koyama
;
Kenji Saito
;
Toshiyuki Horiuchi
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
projection exposure;
projector;
liquid crystal display;
7.
A very fast and accurate rigorous EMF simulator for EUVL masks based on the pseudo-spectral time-domain method
机译:
基于伪谱时域方法的用于EUVL掩模的非常快速,准确的严格EMF仿真器
作者:
Michael Yeung
;
Eytan Barouch
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
EUVL mask;
buried defect;
lithography simulation;
PSTD;
FDTD;
RCWA;
8.
Investigation of Cleaning Process induced CD shift at EUV Mask
机译:
清洗过程中EUV掩模引起的CD移动的研究
作者:
Pavel Nesladek
;
Florian Schunke
;
Stefan Ruemmelin
;
Komelia Dittmar
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
EUV;
clean;
CD shift;
9.
Quality Enhancement of Parallel MDP Flows with Mask Suppliers
机译:
与掩模供应商并行MDP流程的质量提升
作者:
Erwin Deng
;
Rachel Lee
;
Chun Der Lee
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
Quality;
MDP;
Mask Data Preparation;
Supplier Management;
EDA;
Single-line;
Double-line;
10.
A Novel Algorithm for Notch Detection
机译:
缺口检测的新算法
作者:
C. Acosta
;
D. Salazar
;
D. Morales
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
Notch;
DFM;
Algorithm;
MRCC;
CATS;
11.
EUV scanner throughput considerations for the higher mask magnification
机译:
EUV扫描仪的通量考虑因素,用于更高的掩模放大
作者:
Kiwamu Takehisa
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
EUV;
mask;
magnification;
scanner;
throughput;
8X;
6X;
12.
Comparison Techniques for VSB Fractured vs. Unfractured Data
机译:
VSB破裂与未破裂数据的比较技术
作者:
D. Salazar
;
J. Valadez
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
VSB;
CATS;
MRCC;
Compare;
13.
Advancements in Automatic Marking with Range Pattern Matching
机译:
范围模式匹配自动标记的进展
作者:
D. Salazar
;
J. Valadez
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
Marking;
MRCC;
RPM;
CATS;
Jobdeck;
14.
Extending DUV mask inspection tool for inspecting 2xnm HP and beyond
机译:
扩展了DUV掩模检查工具,可检查2xnm及以上的HP
作者:
Jihoon Na
;
Sang Hoon Han
;
Gisung Yoon
;
Dong Hoon Chung
;
Byung-Gook Kim
;
Chanuk Jeon
;
Dana Bernstein
;
Lior Shoval
;
Ido Dolev
;
Ofer Shopen
;
Ju Sang Lee
;
Chung ki Lyu
;
Seung Ryong Bae
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
EUVL;
Reticle;
Photo Mask;
Inspection;
Illumination;
15.
Mask Degradation Monitoring With Aerial Mask Inspector
机译:
航空口罩检查仪监控口罩降解
作者:
Wen-Jui Tseng
;
Yung-Ying Fu
;
Shih-Ping Lu
;
Ming-Sian Jiang
;
Jeffrey Lin
;
Clare Wu
;
Sivan Lifschitz
;
Aviram Tarn
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
mask inspection;
mask degradation;
haze;
early haze detection;
aerial;
reticle inspection;
16.
Using a Mask Rule Checker as an Electrical Rule Checker
机译:
使用掩码规则检查器作为电气规则检查器
作者:
Philippe Morey-Chaisemartin
;
Eric Beisser
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
17.
Evaluation of non-actinic EUV mask inspection and defect printability on multiple EUV mask absorbers
机译:
评估多种非EUV掩模吸收剂的非光化EUV掩模检查和可印刷性
作者:
Karen Badger
;
Emily Gallagher
;
Kazunori Seki
;
Gregory McIntyre
;
Toshio Konishi
;
Yutaka Kodera
;
Vincent Redding
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
EUVL;
absorber stacks;
mask inspection;
non-actinic;
wafer-printable defects;
18.
Modeling of Resist Surface Charging Effect on EBM-8000 and its Comparison with EBM-6000
机译:
EBM-8000的抗表面充电效应建模及其与EBM-6000的比较
作者:
Noriaki Nakayamada
;
Takashi Kamikubo
;
Hirohito Anze
;
Munehiro Ogasawara
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
electron beam mask writer;
image placement accuracy;
resist surface charging effect;
19.
Development of the CLIOS G821 System for Inspection of LSPM for high definition FPDs
机译:
开发用于高清FPD的LSPM检查的CLIOS G821系统
作者:
Makoto Takano
;
Mitsuru Hamakawa
;
Masahiro Toriguchi
;
Shinya Kuroda
;
Atsushi Tajima
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
LSPM;
Mask inspection;
Ultra HD;
4K2K;
8K4K;
Tablet;
Smartphone;
OLED;
IGZO;
Display;
20.
A method of utilizing AIMS™ to quantify substrate / attenuator over- etch or under-etch during mask repair
机译:
一种在掩模修复过程中利用AIMS™量化基板/衰减器过度蚀刻或蚀刻不足的方法
作者:
Vahagn Sargsyan
;
Kevin Olson
;
Doug Uzzel
;
Jon Morgan
;
Mark Ma
;
Gilles Tabbone
;
Anthony Garetto
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
MeRiT~®;
AIMS™;
mask repair;
defect repair;
electron beam repair;
repair yield;
21.
Verification: an enabler for Model Based Data Preparation
机译:
验证:基于模型的数据准备的推动者
作者:
Patrick Schiavone
;
Alexandra Chagoya
;
Luc Martin
;
Vincent Annezo
;
Alexis Blanchemain
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
electron beam lithography;
mask data preparation;
Model Based Verification;
MRC;
proximity correction;
22.
A study of applications scribe frame data verifications using design rule check
机译:
应用设计规则检查对框架数据进行验证的研究
作者:
Shoko Saito
;
Masaru Miyazaki
;
Mitsuo Sakurai
;
Takahisa Itoh
;
Kazumasa Doi
;
Noriko Sakurai
;
Tomoyuki Okada
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
scribe frame;
pattern matching;
DRC;
23.
E-beam resist outgassing for study of correlation between resist sensitivity and e-beam optic contamination
机译:
电子束抗蚀剂除气,用于研究抗蚀剂灵敏度与电子束光学污染之间的相关性
作者:
Sung-Il Lee
;
Yun Song Jeong
;
Cheol Hong Park
;
Hee Bom Kim
;
Inkyun Shin
;
Chan-Uk Jeon
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
photomask;
e-beam resists;
outgassing;
contamination;
24.
Using pattern shift to avoid blank defects during EUVL mask fabrication
机译:
在EUVL掩模制造过程中使用图案转移来避免空白缺陷
作者:
Yoshiyuki Negishi
;
Yuki Fujita
;
Kazunori Seki
;
Toshio Konishi
;
Jed Rankin
;
Steven Nash
;
Emily Gallagher
;
Alfred Wagner
;
Peter Thwaite
;
Ahmad Elayat
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
25.
Pattern Inspection performance of Novel Projection Electron Microscopy (PEM) on EUV masks
机译:
新型投影电子显微镜(PEM)在EUV掩模上的图案检查性能
作者:
Ryoichi Hirano
;
Susumu Iida
;
Tsuyoshi Amano
;
Tsuneo Terasawa
;
Hidehiro Watanabe
;
Masahiro hatakeyama
;
Takeshi Murakami
;
Kenji Terao
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
Mask;
Defects;
Inspection;
Lithography;
EUVL;
EUV;
Electron;
projection;
26.
High Resolution Technology for FPD Lithography Tools
机译:
FPD光刻工具的高分辨率技术
作者:
Nobuhiko Yabu
;
Yoshiyuki Nagai
;
Satoshi Tomura
;
Tomohiro Yoshikawa
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
Exposure Tool;
RET;
Off-Axis illumination;
Attenuated Phase Shift Mask;
27.
Effect of Cleaning Chemistry on MegaSonic Damage
机译:
清洗化学对MegaSonic损伤的影响
作者:
Sherjang Singh
;
Uwe Dietze
;
Peter Dress
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
Mask Cleaning;
MegaSonic;
Pattern Damage;
Cavitation;
Sub resolution assist features;
SRAF;
pitting;
28.
Megasonic Cleaning: Effect of dissolved gas properties on cleaning
机译:
Megasonic清洁:溶解气体特性对清洁的影响
作者:
Hrishi Shende
;
Sherjang Singh
;
James Baugh
;
Uwe Dietze
;
Peter Dress
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
Mask Cleaning;
Megasonic;
Argon;
Pattern Damage;
Cavitation;
Sub resolution assist features;
SRAF;
29.
Physical Force Optimization for Advanced Photomask Cleaning
机译:
优化物理力以进行高级光掩模清洗
作者:
C.W. Shen
;
K.W. Lin
;
C.L. Lu
;
Luke Hsu
;
Angus Chin
;
Anthony Yen
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
photomask cleaning;
binary spray;
MegaSonic;
physical force;
pattern damage;
30.
In Collaboration with Mask Suppliers for Change Management Enhancement
机译:
与面具供应商合作,以增强变更管理
作者:
Erwin Deng
;
Chun Der Lee
;
Rachel Lee
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
Quality;
MDP;
Mask Data Preparation;
Supplier Management;
Change Management;
31.
Exploring Probability of Shallow ML Defect Impact to Defect Assurance
机译:
探索浅层ML缺陷影响缺陷保证的可能性
作者:
Kazuaki Matsui
;
Noriaki Takagi
;
Satoshi Takahashi
;
Yutaka Kodera
;
Yo Sakata
;
Shinji Akima
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
EUV mask;
EUV blank;
Multi layer;
Multi layer defect;
Phase defect;
Bump;
Pit;
Inspection. Printability;
32.
Challenge for under 40nm size pattern making for EUV mask
机译:
EUV掩模的40纳米以下图案制作面临的挑战
作者:
Tsukasa Abe
;
Yuichi Inazuki
;
Yukie Kobayashi
;
Yasutaka Morikawa
;
Hiroshi Mohri
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
EUV lithography;
EUV mask;
Programmed phase defect mask;
33.
Development of Optical System on Novel Projection Electron Microscopy (PEM) for EUV Masks and its Basic Performance Evaluation
机译:
用于EUV掩模的新型投影电子显微镜(PEM)光学系统的开发及其基本性能评估
作者:
Masahiro Hatakeyama
;
Takeshi Murakami
;
Kenji Terao
;
Kenji Watanabe
;
Yoshihiko Naito
;
Tsuyoshi Amano
;
Ryoichi Hirano
;
Susumu Iida
;
Tsuneo Terasawa
;
Hidehiro Watanabe
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
EUV mask;
EB inspection;
projection electron microscopy;
pattern defect;
34.
Layout finishing of a 28nm, 3 billions transistors, multi-core processor
机译:
28纳米,30亿个晶体管,多核处理器的布局完成
作者:
Philippe Morey-Chaisemartin
;
Eric Beisser
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
35.
Phase Imaging of EUV Masks using a Lensless EUV Microscope
机译:
使用无透镜EUV显微镜对EUV掩模进行相位成像
作者:
Tetsuo Harada
;
Masato Nakasuji
;
Yutaka Nagata
;
Takeo Watanabe
;
Hiroo Kinoshita
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
Extreme ultraviolet lithography;
EUV mask;
coherent EUV scatterometry microscope;
coherent diffraction imaging;
lensless microscope;
phase imaging;
36.
Photomask Quality Evaluation using Lithography Simulation and Multi Detector MVM-SEM
机译:
使用光刻模拟和多探测器MVM-SEM评估光掩模质量
作者:
Keisuke Ito
;
Tsutomu Murakawa
;
Naoki Fukuda
;
Soichi Shida
;
Toshimichi Iwai
;
Jun Matsumoto
;
Takayuki Nakamura
;
Shohei Matsushita
;
Kazuyuki Hagiwara
;
Daisuke Hara
会议名称:
《》
|
2013年
关键词:
Photomask;
MVM-SEM;
Contour data;
lithography simulation;
MEEF;
3D;
Mask Defect and Repair;
37.
Progressive defects caused by crosstalk between mask fabrication processes
机译:
掩模制造工艺之间的串扰导致的渐进缺陷
作者:
Jongkeun Oh
;
Junyeol Choi
;
Jaehyuck Choi
;
Han-shin Lee
;
Hyungho Koh
;
Byunggook Kim
;
Chanuk Jeon
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
Progressive defect;
crosstalk between mask fabrication processes;
etch residue;
cleaning chemicals;
moisture;
defect mitigation;
38.
In-situ Repair Qualification by Applying Computational Metrology and Inspection (CMI) Technologies
机译:
应用计算计量和检验(CMI)技术进行原位维修资格
作者:
C.Y. Chen
;
Ivan Wei
;
Laurent Tuo
;
C. S. Yoo
;
Dongxue Chen
;
Danping Peng
;
Masaki Satake
;
Bo Su
;
Linyong Pang
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
Computational inspection and metrology;
mask repair;
AIMS;
SMO;
mask review;
39.
Fuzzy Pattern Matching Techniques for Photomask Layout Data
机译:
光掩模版图数据的模糊模式匹配技术
作者:
Kokoro Kato
;
Yoshiyuki Taniguchi
;
Kuninori Nishizawa
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
40.
Circle Pattern Detector VSB Shot Count Estimator
机译:
圆形图案检测器和VSB射击计数估算器
作者:
Sebastian Munoz
;
Raghava Kondepudy
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
|
2013年
关键词:
VSB;
TAT;
Circular Pattern;
Shot Estimation;
41.
Improvement of a DUV mask inspection tool to hand over the baton for next-generation tool smoothly
机译:
改进了DUV面罩检查工具,可顺利将接力棒移交给下一代工具
作者:
Hideaki Hashimoto
;
Nobutaka Kikuiri
;
Eiji Matsumoto
;
Hideo Tsuchiya
;
Riki Ogawa
;
Ikunao Isomura
;
Manabu Isobe
;
Kenichi Takahara
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
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2013年
关键词:
Mask;
Defects;
Inspection;
Pattern inspection;
CD error;
CDMap;
42.
The Capability of High Magnification Review Function for EUV Actinic Blank Inspection Tool
机译:
EUV光化空白检查工具的高放大倍率检查功能
作者:
Hiroki Miyai
;
Tomohiro Suzuki
;
Kiwamu Takehisa
;
Haruhiko Kusunose
;
Takeshi Yamane
;
Tsuneo Terasawa
;
Hidehiro Watanabe
;
Ichiro Mori
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XX》
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2013年
关键词:
Actinic Blank Inspection;
High magnification review;
EUVL masks;
ML defects;
ML defect mitigation;
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