掌桥科研
一站式科研服务平台
科技查新
收录引用
专题文献检索
外文数据库(机构版)
更多产品
首页
成为会员
我要充值
退出
我的积分:
中文会员
开通
中文文献批量获取
外文会员
开通
外文文献批量获取
我的订单
会员中心
我的包量
我的余额
登录/注册
文献导航
中文期刊
>
中文会议
>
中文学位
>
中国专利
>
外文期刊
>
外文会议
>
外文学位
>
外国专利
>
外文OA文献
>
外文科技报告
>
中文图书
>
外文图书
>
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
美国国防部AD报告
美国能源部DE报告
美国航空航天局NASA报告
美国商务部PB报告
外军国防科技报告
美国国防部
美国参联会主席指示
美国海军
美国空军
美国陆军
美国海军陆战队
美国国防技术信息中心(DTIC)
美军标
美国航空航天局(NASA)
战略与国际研究中心
美国国土安全数字图书馆
美国科学研究出版社
兰德公司
美国政府问责局
香港科技大学图书馆
美国海军研究生院图书馆
OALIB数据库
在线学术档案数据库
数字空间系统
剑桥大学机构知识库
欧洲核子研究中心机构库
美国密西根大学论文库
美国政府出版局(GPO)
加利福尼亚大学数字图书馆
美国国家学术出版社
美国国防大学出版社
美国能源部文献库
美国国防高级研究计划局
美国陆军协会
美国陆军研究实验室
英国空军
美国国家科学基金会
美国战略与国际研究中心-导弹威胁网
美国科学与国际安全研究所
法国国际关系战略研究院
法国国际关系研究所
国际宇航联合会
美国防务日报
国会研究处
美国海运司令部
北约
盟军快速反应部队
北约浅水行动卓越中心
北约盟军地面部队司令部
北约通信信息局
北约稳定政策卓越中心
美国国会研究服务处
美国国防预算办公室
美国陆军技术手册
一般OA
科技期刊论文
科技会议论文
图书
科技报告
科技专著
标准
其它
美国卫生研究院文献
分子生物学
神经科学
药学
外科
临床神经病学
肿瘤学
细胞生物学
遗传学
公共卫生&环境&职业病
应用微生物学
全科医学
免疫学
动物学
精神病学
兽医学
心血管
放射&核医学&医学影像学
儿科
医学进展
微生物学
护理学
生物学
牙科&口腔外科
毒理学
生理学
医院管理
妇产科学
病理学
生化技术
胃肠&肝脏病学
运动科学
心理学
营养学
血液学
泌尿科学&肾病学
生物医学工程
感染病
生物物理学
矫形
外周血管病
药物化学
皮肤病学
康复学
眼科学
行为科学
呼吸学
进化生物学
老年医学
耳鼻喉科学
发育生物学
寄生虫学
病毒学
医学实验室检查技术
生殖生物学
风湿病学
麻醉学
危重病护理
生物材料
移植
医学情报
其他学科
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
主题
主题
题名
作者
关键词
摘要
高级搜索 >
外文期刊
外文会议
外文学位
外国专利
外文图书
外文OA文献
中文期刊
中文会议
中文学位
中国专利
中文图书
外文科技报告
清除
历史搜索
清空历史
首页
>
外文会议
>
Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III
Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III
召开年:
召开地:
出版时间:
-
会议文集:
-
会议论文
热门论文
全部论文
全选(
0
)
清除
导出
1.
Study of cathodoluminescence spectroscopy of aluminum nitride
机译:
氮化铝的阴极发光光谱研究
作者:
Fazla R. Hossain
;
Howard Univ.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
Xiao Tang
;
Howard Univ.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
Kobchat Wongchotigul
;
Howard Univ.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
Michael G. Spencer
;
Howard Univ.
;
Washington
;
DC
;
USA.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
2.
Morphology composition and properties of the amorphous hydrogenated carbon (C:H) films
机译:
无定形氢化碳(C:H)膜的形态组成和性能
作者:
Valerie A. Ligachov
;
Moscow Power Engineering Institute
;
Moscow
;
Russia
;
Anatolyi I. Popov
;
Moscow Power Engineering Institute
;
Moscow
;
Russia
;
Sergei N. Stuokach
;
Moscow Power Engineering Institute
;
Moscow
;
Russia.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
3.
Novel double-focus interferometer for scanning force microscope
机译:
用于扫描力显微镜的新型双焦点干涉仪
作者:
Yong-Mo Zhuo
;
Zhejiang Univ.
;
Hangzhou
;
China
;
Xu-Dong Mou
;
Zhejiang Univ.
;
Hangzhou
;
China
;
Yong-Ying Yang
;
Zhejiang Univ.
;
Hangzhou
;
China
;
Bin Cao
;
Zhejiang Univ.
;
Hangzhou
;
China.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
4.
Mode structure laser radiation influence on the periodical surface structures intracavity production
机译:
模结构激光辐射对周期性表面结构腔内产生的影响
作者:
Vasily V. Valyavko
;
Institute of Physics
;
Minsk
;
Belarus
;
Vladimir P. Osipov
;
Institute of Physics
;
Minsk
;
Belarus.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
5.
Optical field effect transistor with an indium tin oxide gate electrode
机译:
具有铟锡氧化物栅电极的光场效应晶体管
作者:
J.B. Fodje
;
South Bank Univ.
;
London
;
United Kingdom
;
D.Mukherjee
;
South Bank Univ.
;
London
;
United Kingdom
;
Cyril A. Hogarth
;
Brunel Univ.
;
Uxbridge
;
United Kingdom.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
6.
Polymer waveguide-based 1-GHz clock signal distribution system
机译:
基于聚合物波导的1 GHz时钟信号分配系统
作者:
Ting Li
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Suning Tang
;
Radiant Research
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Feiming Li
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Michael Dubinovsky
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Linghui Wu
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Randy W. Wickman
;
Cray Research Inc.
;
Chippewa Falls
;
WI
;
USA
;
Ray T. Chen
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
7.
Spectrophotometry and beam profile reflectometry measurement of six layers in an SOI film stack
机译:
分光光度法和光束轮廓反射法测量SOI薄膜叠层中的六层
作者:
Jingmin Leng
;
Therma-Wave
;
Inc.
;
Fremont
;
CA
;
USA
;
J.J. Sidorowich
;
Therma-Wave
;
Inc.
;
La Jolla
;
CA
;
USA
;
Y.D. Yoon
;
Therma-Wave
;
Inc.
;
Fremont
;
CA
;
USA
;
Jon L. Opsal
;
Therma-Wave
;
Inc.
;
Fremont
;
CA
;
USA
;
B.H. Lee
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kyungki
;
South Korea
;
G.Cha
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kyungki
;
South Korea
;
Joo T. Moon
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Yongin-Gun
;
Kyungki-Do
;
South Korea
;
S.I. Lee
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kyungki
;
South Korea.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
8.
Thermal wave analysis of the formation of titanium disilicide on submicron lines
机译:
亚微米线上二硅化钛形成的热波分析
作者:
Alain Brun
;
France Telecom CNET/Grenoble
;
Crolles Cedex
;
France
;
Eric Gerritsen
;
Philips Semiconductors
;
Crolles
;
France
;
Nicole Brun
;
France Telecom CNET/Grenoble
;
Crolles Cedex
;
France.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
9.
Grating-based surface-normal optoelectronic interconnects on Si substrate
机译:
Si基板上基于光栅的表面法向光电互连
作者:
Feiming Li
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Michael Dubinovsky
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Oleg A. Ershov
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Linghui Wu
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Ting Li
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Suning Tang
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Ray T. Chen
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
10.
Nematic thin layer self-organization caused by semiconductor surface superlattice
机译:
半导体表面超晶格引起的向列薄层自组织
作者:
Alexander P. Fedtchouk
;
Odessa State Univ.
;
Odessa
;
Ukraine
;
Ruslana A. Rudenko
;
Odessa State Univ.
;
Odessa
;
Ukraine
;
Larisa D. Shevchenko
;
Odessa State Univ.
;
Odessa
;
Ukraine
;
Andrew Fedtchouk
;
Odessa State Univ.
;
Odessa
;
Ukraine
;
Yuri Kornienko
;
Odessa State Univ.
;
Odessa
;
Ukraine.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
11.
Electron emission phenomena controlled by a transverse electric field in compound emitters
机译:
复合发射极中受横向电场控制的电子发射现象
作者:
Jadwiga Olesik
;
Pedagogical Univ. of Czestochowa
;
Czestochowa
;
Poland
;
Bogdan Calusinski
;
Pedagogical Univ. of Czestochowa
;
Czestochowa
;
Poland
;
Zygmunt Olesik
;
Pedagogical Univ. of Czestochowa
;
Czestochowa
;
Poland.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
12.
Formation of oxygen-related donors during transition from thermal donors to new donors in CZ-silicon
机译:
在CZ硅中从热供体过渡到新供体的过程中形成了与氧有关的供体
作者:
Shyam Singh
;
G.B. Pant Univ. of Agriculture
;
Technology
;
Pantnagar
;
India
;
Om Prakash
;
G.B. Pant Univ. of Agriculture
;
Technology
;
Pantnagar
;
India.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
13.
Semiconductor surface superlattice symmetry type evaluation
机译:
半导体表面超晶格对称性类型评估
作者:
Yuri Kornienko
;
Odessa State Univ.
;
Odessa
;
Ukraine
;
Alexander P. Fedtchouk
;
Odessa State Univ.
;
Odessa
;
Ukraine
;
Ruslana A. Rudenko
;
Odessa State Univ.
;
Odessa
;
Ukraine
;
Andrew Fedtchouk
;
Odessa State Univ.
;
Odessa
;
Ukraine.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
14.
Combined spectroscopic ellipsometry and reflectometry for advanced semiconductor fabrication metrology
机译:
结合椭圆偏振光谱仪和反射光谱仪进行高级半导体制造计量
作者:
William A. McGahan
;
Nanometrics
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Blaine R. Spady
;
Nanometrics
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
John A. Iacoponi
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
John D. Williams
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
15.
Determination of COP distribution after SC1 cleaning by a laser particle counter
机译:
用激光粒子计数器确定SC1清洁后的COP分布
作者:
T.Fujise
;
Sumitomo Sitix Corp.
;
Saga
;
Japan
;
Y.Yanase
;
Sumitomo Sitix Corp.
;
Saga
;
Japan
;
M.Hourai
;
Sumitomo Sitix Corp.
;
Saga
;
Japan
;
M.Sano
;
Sumitomo Sitix Corp.
;
Saga
;
Japan
;
H.Tsuya
;
Sumitomo Sitix Corp.
;
Saga
;
Japan.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
16.
Optical characterization of amorphous and polycrystalline silicon films
机译:
非晶和多晶硅膜的光学表征
作者:
Effiong Ibok
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Shyam Garg
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
G.G. Li
;
nk Technology
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
A. Rahim Forouhi
;
nk Technology
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Iris Bloomer
;
nk Technology
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Joel W. Ager
;
III
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Berkeley
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
17.
Real-time preparation-free imaging of mobile charge in SiO2
机译:
SiO2中移动电荷的实时免制备成像
作者:
Lubek Jastrzebski
;
Semiconductor Diagnostics
;
Inc.
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
Piotr Edelman
;
Semiconductor Diagnostics
;
Inc.
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
Jacek J. Lagowski
;
Univ. of South Florida
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
Andrew M. Hoff
;
Univ. of South Florida
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
A.Savchouk
;
Univ. of South Florida
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
Eric Persson
;
Lucent Technologies
;
Inc.
;
Orlando
;
FL
;
USA.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
18.
Automated visual inspection stations for next-generation semiconductor package quality control
机译:
自动视觉检查站,用于下一代半导体封装质量控制
作者:
Mark R. DeYong
;
Intelligent Reasoning Systems
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Thomas C. Eskridge
;
Intelligent Reasoning Systems
;
Inc.
;
Las Cruces
;
NM
;
USA
;
John W. Grace
;
Intelligent Reasoning Systems
;
Inc.
;
Las Cruces
;
NM
;
USA
;
Jeff E. Newberry
;
Intelligent Reasoning Systems
;
Inc.
;
Las Cruces
;
NM
;
USA
;
J.H. Jones
;
Intelligent Reasoning Systems
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
B.E. Hart
;
Intelligent Reasoning Systems
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
19.
Implementing surface photo-voltage in manufacturing
机译:
在制造过程中实现表面光电压
作者:
Martine Simard-Normandin
;
Nortel North America
;
Ottawa
;
ON
;
Canada.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
20.
Low-temperature photoluminescence characterization of impurity-doped GaAs and silicides prepared by molecular beam epitaxy high-energy ion implantation and combined ion-beam and molecular beam epi
机译:
分子束外延高能离子注入并结合离子束和分子束epi制备的掺杂GaAs和硅化物的低温光致发光特性
作者:
Yunosuke Makita
;
Electrotechnical Lab.
;
Ibaraki
;
Japan.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
21.
Metal-induced charge and growth rate of ultrathin thermal oxide films grown on Al or Fe contaminated Si (100) surfaces
机译:
金属诱导的在Al或Fe污染的Si(100)表面上生长的超薄热氧化膜的电荷和生长速率
作者:
Hirofumi Shimizu
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Tokyo
;
Japan
;
Alison Shull
;
Harvard Univ.
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Chusuke Munakata
;
Central Research Lab.
;
Taihaku-ku
;
Sendai
;
Japan.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
22.
Productivity improvement through industrial engineering in the semiconductor industry
机译:
通过半导体行业的工业工程提高生产率
作者:
Doron Meyersdorf
;
TEFEN USA
;
San Mateo
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
23.
Stark effect: a novel method of characterization of low-dimensional heterostructure semiconductor lasers
机译:
斯塔克效应:一种表征低维异质结构半导体激光器的新颖方法
作者:
B.S. Gopalam
;
Indian Institute of Technology
;
Madras
;
India.
会议名称:
《Optical Characterization Techniques for High-Performance Microelectronic Device Manufacturing III》
|
1996年
意见反馈
回到顶部
回到首页