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Microlithography and Metrology in Micromachining
Microlithography and Metrology in Micromachining
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1.
Application of the prototype NIST SRM 2090A SEM magnification standard ina manufacturing environment,
机译:
NIST SRM 2090A SEM放大倍数标准样机在制造环境中的应用,
作者:
Brian L. Newell
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA
;
Michael T. Postek
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
Jan P. van der Ziel
;
Univ. of Texas/Dallas
;
Richardson
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
2.
Process optimization of single-coat positive photoresist for thick film a
机译:
用于厚膜a的单涂层正性光刻胶的工艺优化
作者:
Alan E. Kozlowski
;
Shipley Co.
;
Inc.
;
Santa CLara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
3.
Projection displays and MEMS: timely convergence for a bright future
机译:
投影显示器和MEMS:及时融合,共创美好未来
作者:
Larry J. Hornbeck
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
4.
Optical methods for characterization of MEMS device motion
机译:
表征MEMS设备运动的光学方法
作者:
Phyllis R. Nelson
;
Univ. of California/Los Angeles
;
Los Angeles
;
CA
;
USA
;
Patrick B. Chu
;
Univ. of California/Los Angeles
;
Los Angeles
;
CA
;
USA
;
Kristofer S. Pister
;
Univ. of California/Los Angeles
;
Los Angeles
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
5.
Generic technology measurement and standards issues in micromachining and microfabrication
机译:
微加工和微加工中的通用技术度量和标准问题
作者:
Dennis A. Swyt
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
6.
Integrated optical bench for a CO2 gas sensor
机译:
用于CO2气体传感器的集成光学平台
作者:
Yohannes M. Desta
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
Michael C. Murphy
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
Marc Madou
;
NASA Ames Research Ctr.
;
Moffett Field
;
CA
;
USA
;
John W. Hines
;
NASA Ames Research Ctr.
;
Moffett Field
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
7.
Low-temperature process for very high aspect ratio silicon microstructures using SOG etch mask
机译:
使用SOG蚀刻掩模的超高长宽比硅微结构的低温工艺
作者:
X. Trent Huang
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA
;
Liang-Yuh Chen
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA
;
Noel C. MacDonald
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
8.
Overview of the miniaturization technologies
机译:
小型化技术概述
作者:
Robert O. Warrington
;
JR.
;
Louisiana Tech Univ.
;
Ruston
;
LA
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
9.
Recent trends in silicon micromachining technology
机译:
硅微加工技术的最新趋势
作者:
Hal Jerman
;
EGG IC Sensors
;
Milpitas
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
10.
1/N Feynman machines as a path to ultraminiaturization?
机译:
1 / N Feynman机器是实现超小型化的途径吗?
作者:
E.C. Teague
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
11.
Application of the prototype NIST SRM 2090A SEM magnification standard in a manufacturing environment
机译:
NIST SRM 2090A SEM放大倍数原型标准在制造环境中的应用
作者:
Author(s): Brian L. Newell Texas Instruments Inc. Dallas TX USA
;
Michael T. Postek National Institute of Standards and Technology Gaithersburg MD USA
;
Jan P. van der Ziel Univ. of Texas/Dallas Richardson TX USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
12.
Micromechanical cantilevers and scanning probe microscopes
机译:
微机械悬臂和扫描探针显微镜
作者:
Scott A. Miller
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA
;
Yang Xu
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA
;
Noel C. MacDonald
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
13.
Fabrication and testing of microchannel heat exchangers
机译:
微通道热交换器的制造和测试
作者:
Judith M. Cuta
;
Batelle Pacific Northwest Lab.
;
Richland
;
WA
;
USA
;
Wendy D. Bennett
;
Batelle Pacific Northwest Lab.
;
Richland
;
WA
;
USA
;
Carolyn E. McDonald
;
Batelle Pacific Northwest Lab.
;
Richland
;
WA
;
USA
;
T.S. Ravigururajan
;
Batelle Pacific Northwest Lab.
;
Richland
;
WA
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
14.
Thin metal film thermal microsensors
机译:
金属薄膜热微传感器
作者:
Yuli Vladimirsky
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
N.Rau
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
H.Manohara
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
Kevin J. Morris
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
J. Michael Klopf
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
G.Calderon
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
Olga Vladimirsky
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
15.
X-ray microlithography exposure system for high aspect ratio micromachining
机译:
用于高纵横比微加工的X射线微光刻曝光系统
作者:
Yuli Vladimirsky
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
Kevin J. Morris
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
J. Michael Klopf
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
Olga Vladimirsky
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
Volker Saile
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
16.
Challenge of automotive sensors
机译:
汽车传感器的挑战
作者:
Joseph M. Giachino
;
Ford Motor Co.
;
Farmington
;
MI
;
USA
;
Thomas J. Miree
;
Ford Motor Co.
;
Allen Park
;
MI
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
17.
E-beam lithography: a suitable technology for fabrication of high-accuracy 2D and 3D surface profiles
机译:
电子束光刻:一种适用于制造高精度2D和3D表面轮廓的技术
作者:
Ernst-Bernhard Kley
;
Friedrich-Schiller-Univ. Jena
;
Jena
;
Germany
;
B.Schnabel
;
Friedrich-Schiller-Univ. Jena
;
Jena
;
Germany.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
18.
Effects of doping on the dynamic mechanical response of semiconductor cantilevers to electrostatic forces
机译:
掺杂对半导体悬臂梁对静电力的动态机械响应的影响
作者:
Albert K. Henning
;
Dartmouth College
;
Hanover
;
NH
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
19.
Fabrication of miniaturized electrostatic deflectors using LIGA
机译:
使用LIGA制作小型静电偏转器
作者:
Keith H. Jackson
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Chantal Khan Malek
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA
;
Lawrence P. Murray
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
William D. Bonivert
;
Sandia National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Jill M. Hruby
;
Sandia National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
J.T. Hachmann
;
Sandia National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
T.H. Chang
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
20.
Fine pitch grids for an x-ray solar imaging spectrometer fabricated by optical lithography and XeF2 etching
机译:
通过光学光刻和XeF2蚀刻制成的用于X射线太阳成像光谱仪的细间距栅格
作者:
Reid A. Brennen
;
Jet Propulsion Lab.
;
Pasadena
;
CA
;
USA
;
Michael H. Hecht
;
Jet Propulsion Lab.
;
Pasadena
;
CA
;
USA
;
Dean V. Wiberg
;
Jet Propulsion Lab.
;
Pasadena
;
CA
;
USA
;
Steve J. Manion
;
Jet Propulsion Lab.
;
Pasadena
;
CA
;
USA
;
William D. Bonivert
;
Sandia National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Jill M. Hruby
;
Sandia National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Kristofer S. Pister
;
Univ. of California/Los Angeles
;
Los Angeles
;
CA
;
USA
;
Ezekiel J. Kruglick
;
Univ. of California/Los Angeles
;
Los Angeles
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
21.
Three-dimensional functional integration in silicon using confined selective epitaxial growth
机译:
使用受限的选择性外延生长在硅中进行三维功能集成
作者:
Marian Bartek
;
Delft Univ. of Technology
;
Delft
;
Netherlands
;
Paul T. Gennissen
;
Delft Univ. of Technology
;
Delft
;
Netherlands
;
Reinoud F. Wolffenbuttel
;
Delft Univ. of Technology
;
Delft
;
Netherlands.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
22.
Very high aspect ratio wafer-free silicon micromechanical structures
机译:
超高纵横比的无晶圆硅微机械结构
作者:
Ali Jazairy
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA
;
Noel C. MacDonald
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
23.
Design and fabrication of micromachined electron guns (MEGs) usinga multiple-level planar tungsten process
机译:
使用多层平面钨工艺设计和制造微机械电子枪(MEG)
作者:
Wolfgang Hofmann
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA
;
Liang-Yuh Chen
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA
;
Noel C. MacDonald
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
24.
FIB 601 focused ion beam fabrication of micron-sized apertures for the NASA AXAF x-ray telescope prelaunch calibration
机译:
FIB 601聚焦用于微米尺寸孔径的离子束制造,用于NASA AXAF X射线望远镜的发射前校准
作者:
Eugene Y. Tsiang
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Edwin M. Kellogg
;
Smithsonian Astrophysical Observatory
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Don Porterfield
;
Materials Analytical Services
;
Raleigh
;
NC
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
25.
Rapid fabrication of molds by mechanical micromilling: process development
机译:
通过机械微铣快速制造模具:工艺开发
作者:
Craig Friedrich
;
Louisiana Tech Univ.
;
Ruston
;
LA
;
USA
;
Bharath Kikkeri
;
Louisiana Tech Univ.
;
Ruston
;
LA
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
26.
Fabricating subcollimating grids for an x-ray solar imaging spectrometer using LIGA techniques
机译:
使用LIGA技术制造X射线太阳成像光谱仪的准直栅格
作者:
Reid A. Brennen
;
Jet Propulsion Lab.
;
Pasadena
;
CA
;
USA
;
Michael H. Hecht
;
Jet Propulsion Lab.
;
Pasadena
;
CA
;
USA
;
Dean V. Wiberg
;
Jet Propulsion Lab.
;
Pasadena
;
CA
;
USA
;
Steve J. Manion
;
Jet Propulsion Lab.
;
Pasadena
;
CA
;
USA
;
William D. Bonivert
;
Sandia National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Jill M. Hruby
;
Sandia National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Marcus L. Scholz
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Timothy D. Stowe
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Thomas W. Kenny
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Keith H. Jackson
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Chantal Khan Malek
;
Louisiana State Univ.
;
Baton Rouge
;
LA
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
27.
Microanalysis to nanoanalysis: analytical techniques for chemical characterization of micrometer- to nanometer-scale structures
机译:
从微观分析到纳米分析:用于微米级到纳米级结构化学表征的分析技术
作者:
Dale E. Newbury
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
28.
Microfabrication of channel electron multipliers
机译:
通道电子倍增器的微细加工
作者:
G. William Tasker
;
Galileo Electro-Optics Corp.
;
Sturbridge
;
MA
;
USA
;
Scott T. Bentley
;
Galileo Electro-Optics Corp.
;
Sturbridge
;
MA
;
USA
;
Steven M. Shank
;
Galileo Electro-Optics Corp.
;
Ithaca
;
NY
;
USA
;
Robert J. Soave
;
Galileo Electro-Optics Corp.
;
Ithaca
;
NY
;
USA
;
Alan M. Then
;
Galileo Electro-Optics Corp.
;
Sturbridge
;
MA
;
USA.
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
29.
Projection displays and MEMS: timely convergence for a bright future
机译:
投影显示器和MEMS:及时收敛光明的未来
作者:
Larry J. Hornbeck
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
30.
Projection Displays and MEMS: Timely Convergence for a Bright Future
机译:
投影显示器和MEMS:及时收敛光明的未来
作者:
Larry J. Hornbeck
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
Digital Micromirror Device~(TM);
DMD~(TM);
Digital Light Processing~(TM);
DLP~(TM);
spatial light modulator;
SLM;
microelectromechanical systems;
MEMS;
projection displays;
hardcopy;
31.
Optical methods for characterization of MEMS device motion
机译:
MEMS器件运动表征的光学方法
作者:
Phyllis R. Nelson
;
Patrick B. Chu
;
Kristofer S. J. Pister
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
electrostatic actuator;
Michaelson interferometer;
micro-optics;
surface micromachining;
32.
Optical methods for characterization of MEMS device motion
机译:
MEMS器件运动表征的光学方法
作者:
Phyllis R. Nelson
;
Patrick B. Chu
;
Kristofer S. Pister
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
33.
Overview of the miniaturization technologies
机译:
小型化技术概述
作者:
Robert O. Warrington
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
34.
Generic technology measurement and standards issues in micromachining and microfabrication
机译:
微机械线和微型制作中的通用技术测量和标准问题
作者:
Dennis A. Swyt
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
35.
Generic Technology, Measurement and Standards Issues in Micromachining and Microfabrication
机译:
微机械线和微制造中的通用技术,测量和标准问题
作者:
Dennis A. Swyt
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
Micromachining;
microfabrication;
MEMS;
microelectromechanical systems;
microsensors;
microactuators;
microstructures;
silicon micromachining;
surface micromachining;
bulk micromachining;
LIGA;
substrate bonding;
fusion bonding;
generic technology;
measurements;
standards;
36.
Integrated optical bench for a CO2 gas sensor
机译:
用于CO2气体传感器的集成光学台阶
作者:
Yohannes M. Desta
;
Michael C. Murphy
;
Marc Madou
;
John W. Hines
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
37.
Recent trends in silicon micromachining technology
机译:
最近硅微机械技术的趋势
作者:
Hal Jerman
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
38.
A Low Temperature Process for Very High Aspect Ratio Silicon Microstructures using SOG Etch Mask
机译:
使用SOG蚀刻面罩的非常高纵横比硅微结构的低温工艺
作者:
X. Trent Huang
;
Liang-Yuh Chen
;
Noel C. MacDonald
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
Trench Filling Masking Technique;
High aspect ratio trench filling;
SOG;
Single Crystal Silicon (SCS);
Micro-Electro-Mechanical-Systems (MEMS);
Micromachining;
High aspect ratio microstructures;
SCREAM;
39.
An overview of the miniaturization technologies
机译:
小型化技术的概述
作者:
Robert O. Warrington
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
micromanufacturing;
miniaturization technologies;
MEMS;
40.
Recent trends in silicon micromachining technology
机译:
最近硅微机械技术的趋势
作者:
Hal Jerman
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
micromachining;
process technology;
commercial development;
41.
Low-temperature process for very high aspect ratio silicon microstructures using SOG etch mask
机译:
使用SOG蚀刻面罩的非常高纵横比硅微结构的低温工艺
作者:
X. Trent Huang
;
Liang-Yuh Chen
;
Noel C. MacDonald
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
42.
Integrated optical bench for a CO_(2) gas sensor
机译:
用于CO_(2)气体传感器的集成光学台阶
作者:
Yohannes M. Desta
;
Michael C. Murphy
;
Marc Madou
;
John Hines
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
infrared gas sensors;
gas sensors;
carbon dioxide sensor;
CO_(2) sensor;
micro-optics;
LIGA;
43.
1/N Feynman machines as a path to ultraminiaturization?
机译:
1 / n Feynman机器作为超敏感的道路?
作者:
E.C. Teague
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
44.
Application of the Prototype NIST SRM 2090A SEM Magnification Standard in a Manufacturing Environment
机译:
原型NIST SRM 2090A SEM倍率标准在制造环境中的应用
作者:
Brian L. Newell
;
Michael T. Postek
;
Jan P. van der Ziel
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
calibration;
standards;
electron beam lithography;
SRM 2090A;
CD-SEM;
45.
1/N Feynman machines as a path to ultraminiaturization?
机译:
1 / n Feynman机器作为超敏感的道路?
作者:
E. Clayton Teague
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
46.
Micromechanical cantilevers and scanning probe microscopes
机译:
微机械悬臂和扫描探针显微镜
作者:
Scott A. Miller
;
Yang Xu
;
Noel C. MacDonald
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
47.
Micromechanical Cantilevers and Scanning Probe Microscopes
机译:
微机械悬臂和扫描探针显微镜
作者:
Scott A. Miller
;
Yang Xu
;
Noel C. MacDonald
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
microelectromechanical systems;
scanning tunneling microscopes;
atomic force microscopes;
torsional cantilevers;
48.
X-ray Micro-Lithography Exposure System for High Aspect Ratio Micromachining
机译:
X射线微光刻曝光系统,用于高纵横比微机械线
作者:
Y. Vladimirsky
;
K. Morris
;
J. M Klopf
;
O. Vladimirsky
;
V. Saile
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
high aspect ratio micromachining;
x-ray lithography;
micro-fabrication;
radiation induced chemistry;
49.
Fabrication and testing of microchannel heat exchangers
机译:
微通道热交换器的制造和测试
作者:
Judith M. Cuta
;
Wendy D. Bennett
;
Carolyn E. McDonald
;
T.S. Ravigururajan
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
50.
Thin metal film thermal microsensors
机译:
薄金属薄膜热微传感器
作者:
Yuli Vladimirsky
;
N.Rau
;
H.Manohara
;
Kevin J. Morris
;
J. Michael Klopf
;
G.Calderon
;
Olga Vladimirsky
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
51.
Fabrication and Testing of Micro-Channel Heat Exchangers
机译:
微通道热交换器的制造和测试
作者:
J.M. Cuta
;
W.D. Bennett
;
C.E. McDonald
;
T.S. Ravigururajan
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
micro-channel heat exchangers;
high flux heat transfer;
52.
Thin Metal Film Thermal Micro-Sensors
机译:
薄金属薄膜热微传感器
作者:
Y. Vladimirsky
;
N. Rau
;
H. Manohara
;
K. Morris
;
J M. Klopf
;
G. Calderon
;
O. Vladimirsky
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
thermal micro-sensor;
micro-lithography;
x-ray lithography;
micromachining;
53.
X-ray microlithography exposure system for high aspect ratio micromachining
机译:
用于高纵横比微机械线的X射线微型光刻曝光系统
作者:
Yuli Vladimirsky
;
Kevin J. Morris
;
J. Michael Klopf
;
Olga Vladimirsky
;
Volker Saile
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
54.
Very high aspect ratio wafer-free silicon micromechanical structures
机译:
非常高纵横比无晶片硅微机械结构
作者:
A. Jazairy
;
N. C. MacDonald
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
Single Crystal Silicon (SCS);
Micromechanics (MEMS);
SHARP;
Wafer-free released device on-a-frame;
Intrinsic stress based vertical deflection;
Very high aspect ratio z-motion micro-cantilever;
Deep anisotropic dry etching using thermal oxidation;
55.
Fabrication of miniaturized electrostatic deflectors using LIGA
机译:
使用LIGA的小型化静电偏转器的制造
作者:
Keith H. Jackson
;
Chantal Khan Malek
;
Lawrence P. Murray
;
William D. Bonivert
;
Jill M. Hruby
;
J.T. Hachmann
;
T.H. Chang
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
56.
Fabrication of Miniaturized Electrostatic Deflectors Using LIGA
机译:
使用LIGA的小型化静电偏转器的制造
作者:
K. H. Jackson
;
C. Khan-Malek
;
L.P. Muray
;
W. D. Bonivert
;
J.M. Hruby
;
J.T. Hachman
;
T. H. P. Chang
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
electron beam microcolumns;
LIGA;
octupole lens;
e-beam lithography;
X-ray lithography;
precision microfabrication;
applications of synchrotron radiation;
57.
Fine pitch grids for an x-ray solar imaging spectrometer fabricated by optical lithography and XeF_(2) etching
机译:
由光学光刻和XEF_(2)蚀刻制造的X射线太阳能成像光谱仪的细螺距网格
作者:
Reid A. Brennen
;
Michael H. Hecht
;
Dean V. Wiberg
;
Steve J. Manion
;
William D. Bonivert
;
Jill M. Hruby
;
Kristofer S. Pister
;
Ezekiel Kruglick
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
x-ray collimators;
x-ray grids;
thick films;
high aspect ratio structures;
integrated processes;
xenon difluoride;
silicon etch;
MEMS electroplating;
58.
Very high aspect ratio wafer-free silicon micromechanical structures
机译:
非常高纵横比无晶片硅微机械结构
作者:
Ali Jazairy
;
Noel C. MacDonald
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
59.
THE CHALLENGE OF AUTOMOTIVE SENSORS
机译:
汽车传感器的挑战
作者:
Joseph M. Giachino
;
Thomas J. Miree
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
60.
Three-dimensional functional integration in silicon using confined selective epitaxial growth
机译:
硅中硅三维功能集成使用局限性选择性外延生长
作者:
Marian Bartek
;
Paul T. Gennissen
;
Reinoud F. Wolffenbuttel
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
61.
Effects of doping on the dynamic mechanical response of semiconductor cantilevers to electrostatic forces
机译:
掺杂对静电力的动态机械响应的影响
作者:
Albert K. Henning
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
62.
E-beam lithography: a suitable technology for fabrication of high-accuracy 2D and 3D surface profiles
机译:
电子梁光刻:用于制造高精度2D和3D表面轮廓的合适技术
作者:
Ernst-Bernhard Kley
;
B.Schnabel
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
63.
Fine pitch grids for an x-ray solar imaging spectrometer fabricated by optical lithography and XeF2 etching
机译:
由光学光刻和XEF2蚀刻制造的X射线太阳能成像光谱仪的细螺距网格
作者:
Reid A. Brennen
;
Michael H. Hecht
;
Dean V. Wiberg
;
Steve J. Manion
;
William D. Bonivert
;
Jill M. Hruby
;
Kristofer S. Pister
;
Ezekiel J. Kruglick
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
64.
E-beam lithography: a suitable technology for fabrication of high-accuracy 2D and 3D surface profiles
机译:
电子梁光刻:用于制造高精度2D和3D表面轮廓的合适技术
作者:
E.-B. Kley
;
B. Schnabel
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
Microoptics;
Diffractive optics;
E-beam lithography;
Surface shaping;
Micromachining;
65.
Effects of doping on the dynamic mechanical response of semiconductor cantilevers to electrostatic forces
机译:
掺杂对静电力的动态机械响应的影响
作者:
Albert K. Henning
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
microcantilever;
atomic force microscope;
AFM;
electrostatic force microscope;
EFM;
semiconductor cantilever;
scanning Kelvin probe microscope;
SKPM;
dopant profile;
dynamic response;
cantilever mechanical transfer function;
small signal;
66.
Three-dimensional functional integration in silicon using confined selective epitaxial growth
机译:
硅中硅三维功能集成使用局限性选择性外延生长
作者:
Marian Bartek
;
Paul T.J. Gennissen
;
Reinoud F. Wolffenbuttel
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
integrated silicon sensors;
confined selective epitaxial growth;
silicon on insulator;
3-D integration;
fabrication compatibility;
67.
Challenge of automotive sensors
机译:
汽车传感器的挑战
作者:
Joseph M. Giachino
;
Thomas J. Miree
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
68.
Rapid fabrication of molds by mechanical micromilling: process development
机译:
通过机械微舱快速制造模具:工艺开发
作者:
Craig Friedrich
;
Bharath Kikkeri
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
micromilling;
micromachining;
focused ion beam machining;
mask making;
mold making;
rapid prototyping;
69.
Rapid fabrication of molds by mechanical micromilling: process development
机译:
通过机械微舱快速制造模具:工艺开发
作者:
Craig Friedrich
;
Bharath Kikkeri
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
70.
Design and fabrication of Micromachined Electron Guns (MEGs) using a multiple-level planar tungsten process
机译:
使用多级平面钨工艺设计和制造微机械电子枪(MEGS)
作者:
Wolfgang Hofmann
;
Liang-Yuh Chen
;
Noel C. MacDonald
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
71.
FIB 601 focused ion beam fabrication of micron-sized apertures for the NASA AXAF x-ray telescope prelaunch calibration
机译:
FIB 601聚焦离子束制造微米尺寸的孔,用于NASA Axaf X射线望远镜预振校准
作者:
Eugene Y. Tsiang
;
Edwin M. Kellogg
;
Don Porterfield
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
72.
Process Optimization of Single Coat Positive Photoresist for Thick Film Applications
机译:
单涂层厚膜应用的单涂层阳性光致抗蚀剂的过程优化
作者:
Alan Kozlowski
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
thick resist;
coating process;
resist cracking;
73.
FIB 601Focused ion beam fabrication of micron-sized apertures for the NASA AXAF X-ray telescope prelaunch calibration
机译:
FIB 601掺量离子束制造微米尺寸的NASA AXAF X射线望远镜预振校准
作者:
Eugene Y. Tsiang
;
Edwin M. Kellogg
;
Don Porterfield
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
AXAF;
focused ion beams;
gas-assisted etching;
ion beam milling;
sputtering;
74.
Design and fabrication of micromachined electron guns (MEGs) usinga multiple-level planar tungsten process
机译:
微机械电子枪(MEGS)的设计和制造使用多级平面钨工艺
作者:
Wolfgang Hofmann
;
Liang-Yuh Chen
;
Noel C. MacDonald
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
75.
Fabricating Sub-collimating Grids for an X-ray Solar Imaging Spectrometer Using LIGA Techniques
机译:
使用LIGA技术制造用于X射线太阳能成像光谱仪的子准直网格
作者:
Reid A. Brennen
;
Michael H. Hecht
;
Dean V. Wiberg
;
Steve J. Manion
;
William D. Bonivert
;
Jill M. Hruby
;
Marcus L. Scholz
;
Timothy D. Stowe
;
Tom W. Kenny
;
Keith H. Jackson
;
Chantal Khan Malek
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
x-ray collimators;
x-ray grids;
thick films;
high aspect ratio structures;
MEMS electroplating;
LIGA;
x-ray lithography;
deep etch x-ray lithography;
76.
Microanalysis to nanoanalysis: analytical techniques for chemical characterization of micrometer- to nanometer-scale structures
机译:
微量分析至纳米分析:分析技术用于米尺至纳米结构结构的化学表征
作者:
Dale E. Newbury
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
77.
Fabricating subcollimating grids for an x-ray solar imaging spectrometer using LIGA techniques
机译:
使用LIGA技术制造用于X射线太阳能成像光谱仪的子/射线太阳能影像光谱仪
作者:
Reid A. Brennen
;
Michael H. Hecht
;
Dean V. Wiberg
;
Steve J. Manion
;
William D. Bonivert
;
Jill M. Hruby
;
Marcus L. Scholz
;
Timothy D. Stowe
;
Thomas W. Kenny
;
Keith H. Jackson
;
Chantal Khan Malek
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
78.
Microanalysis to nanoanalysis: analytical techniques for chemical characterization of micrometer- to nanometer-scale materials
机译:
微分分析至纳米分析:微米达纳米尺度材料化学表征的分析技术
作者:
Dale E. Newbury
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
analytical electron microscopy;
microanalysis;
microbeam analysis;
microscopy;
microprobe analysis;
scanning electron microscopy;
secondary ion mass spectrometry;
X-ray microanalysis;
79.
Microfabrication of channel electron multipliers
机译:
信道电子乘法器的微制造
作者:
G. W. Tasker
;
S. T. Bentley
;
S. M. Shank
;
R. J. Soave
;
A. M. Then
;
SPIE
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
关键词:
electron multipliers;
detectors;
microfabrication;
microelectromechanical systems;
80.
Microfabrication of channel electron multipliers
机译:
信道电子乘法器的微制造
作者:
G. William Tasker
;
Scott T. Bentley
;
Steven M. Shank
;
Robert J. Soave
;
Alan M. Then
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1995年
81.
Analysis and enhancement of bond strength of acrylic sheets to metallic substrates for use in LIGA-type processing
机译:
丙烯酸片粘合强度与LIGA型加工用于金属基材的粘合强度分析及改进
作者:
Sudipta S. Das
;
Harish M. Manohara
;
Chantal Khan Malek
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
82.
One-Step Microlithography
机译:
一步的微型刻表
作者:
Franz-Josef Kahlen
;
Srikanth Sankaranarayanan
;
Aravinda Kar
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
83.
Photofabrication of the Third Dimension of NiTi Shape Memory Alloy Microactuators
机译:
NITI形状记忆合金微致动器的第三尺寸的光移植物
作者:
D. M. Allen
;
T. Leong
;
S. H. Lim
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
84.
Cost-effective mask fabrication on Kapton↑(R). membrane for deep X-ray lithography
机译:
Kapton↑(r)上的经济高效的面膜制造。深X射线光刻的膜
作者:
S. Stadler
;
I. Derhalli
;
C. Khan Malek
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
85.
High precision positioning stages for micro/nano-lithography
机译:
微/纳光刻的高精度定位阶段
作者:
D. Croft
;
S. Devasia
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
86.
High-precision positioning stages for micro- and nanolithography
机译:
微型和纳米光刻的高精度定位阶段
作者:
Donald Croft
;
Santosh Devasia
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
87.
MEMS Metrology Station Based on Two Interferometers
机译:
基于两个干涉仪的MEMS计量站
作者:
Adolfo Gutierrez
;
Dan Edmans
;
Gernot Seidler
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
88.
Engineering Tool Set for Monolithic and Hybrid Microsystem Design
机译:
用于单片和混合微系统设计的工程工具
作者:
H. Boutamine
;
J. M. Karam
;
B. Courtois
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
89.
The Potentials for Inspection and Metrology of MEMS using a Combined Scanning Electron Microscope (SEM) and Proximal Probe Microscope (PPM)
机译:
使用组合扫描电子显微镜(SEM)和近端探针显微镜(PPM)检查和计量MEMS的潜力
作者:
Michael T. Postek
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
90.
INTEGRATED MICROMACHINED TRANSMISSION LINES AND ENDFIRE SLOTLINE ANTENNAS
机译:
集成的微机械传输线和Endfire Slotline天线
作者:
STEVENS. GEARHART
;
THEODORE WILLKE
;
AND EKO ONGGOSANUSI
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
91.
Potentials for inspection and metrology of MEMS using a combined scanning electron microscope (SEM) and proximal probe microscope (PPM)
机译:
使用组合扫描电子显微镜(SEM)和近端探针显微镜(PPM)检查和计量MEMS的电位
作者:
Michael T. Postek
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
92.
Accurate force measurements for miniature mechanical systems: a review of progress.
机译:
微型机械系统的准确力测量:进展综述。
作者:
Lowell P. Howard
;
Joe Fu
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
93.
Mechanical properties of microstructures: experiments and theory
机译:
微观结构的力学性能:实验与理论
作者:
J. Dual
;
E. Mazza
;
G. Schiltges
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
94.
Visualization of High-Frequency Surface Acoustic Wave Propagation Using Stroboscopic Phase-Shift Interferometry
机译:
使用频闪相移干扰测量的高频表面声波传播的可视化
作者:
Ken Nakano
;
Akihiro Torii
;
Kazuhiro Hane
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
95.
Modeling of stress-induced curvature in surface-micromachined devices
机译:
表面微机械装置中应力诱导曲率的建模
作者:
William D. Cowan
;
Victor M. Bright
;
Alex A. Elvin
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
96.
Measuring frequency response of surface-micromachined resonators
机译:
测量表面微机械谐振器的频率响应
作者:
William D. Cowan
;
Victor M. Bright
;
George C. Dalton
会议名称:
《Microlithography and Metrology in Micromachining》
|
1997年
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