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Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography
Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography
召开年:
2020
召开地:
San Jose(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
High-NA EUV Lithography Exposure Tool: Program Progress
机译:
高净值EUV光刻曝光工具:程序进度
作者:
Jan van Schoot
;
Eelco van Setten
;
Kars Troost
;
Sjoerd Lok
;
Rudy Peeters
;
Judon Stoeldraijer
;
Jos Benschop
;
Joerg Zimmermann
;
Paul Graeupner
;
Peter Kuerz
;
Winfiied Kaiser
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUVL;
Exposure Tools;
High-NA;
Imaging;
Overlay;
Throughput;
Magnification;
Anamorphic;
2.
High-NA EUV lithography optics becomes reality
机译:
高NA EUV光刻光学成为现实
作者:
Lars Wischmeier
;
Paul Graeupner
;
Peter Kuerz
;
Winfried Kaiser
;
Jan van Schoot
;
Joerg Mallmann
;
Joost de Pee
;
Judon Stoeldraijer
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
Optics;
Imaging;
3.
Lithographic pattern formation in the presence of aberrations in anamorphic optical systems
机译:
变形光学系统中存在像差的光刻图案形成
作者:
Zachary Levinson
;
Bruce W. Smith
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Anamorphic optics;
EUVL;
aberrations;
image formation;
central obscuration;
4.
How We Are Making The 0.5-NA Berkeley Micro-field Exposure Tool Stable and Productive
机译:
我们如何使0.5 NA伯克利微场曝光工具稳定高效
作者:
Chris Anderson
;
Arnaud Allezy
;
Weilun Chao
;
Lucas Conley
;
Carl Cork
;
Will Cork
;
ReneDelano
;
Jason DePonte
;
Michael Dickinson
;
Geoff Gaines
;
Jeff Gamsby
;
Eric Gullikson
;
Gideon Jones
;
Lauren McQuade
;
Ryan Miyakawa
;
Patrick Naulleau
;
Seno Rekawa
;
FarhadSalmassi
;
Brandon Vollmer
;
Daniel Zehm
;
Wenhua Zhu
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
High-NA;
MET;
Microfield Exposure Tool;
Photoresist;
Berkeley Lab;
LBNL;
CXRO;
5.
Calibration of a MOx-Specific EUV Photoresist Lithography Model
机译:
MOx专用EUV光刻胶光刻模型的校准
作者:
Craig D. Needham
;
Amrit Narasimhan
;
Ulrich Welling
;
Lawrence S. Melvin
;
Peter De Schepper
;
Joren Wouters
;
Joren Severi
;
Danilo De Simone
;
Stephen Meyers
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Stochastics;
MOx Photoresists;
Lithography Modeling;
EUV;
6.
Cluster of correlated reactions as a cause for various types of stochastic defects in extreme ultraviolet lithography
机译:
相关反应簇是极端紫外光刻中各种随机缺陷的原因
作者:
Hiroshi Fukuda
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
lithography;
extreme ultraviolet (EUV);
chemically amplified resists;
stochastic defect;
secondary electron;
Monte Carlo simulation;
7.
On the dependencies of the Stochastic Printing-Failure Cliffs in EUV Lithography
机译:
关于EUV平版印刷中随机印刷失败悬崖的依赖性
作者:
P. De Bisschop
;
E. Hendrickx
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Stochastic patterning cliff;
missing contacts;
microbridges;
(pix)NOK-metric;
defect inspection;
empirical modeling;
OPC Verification;
8.
Prediction of EUV Stochastic Microbridge Probabilities by Lithography Simulations
机译:
光刻模拟预测EUV随机微桥概率
作者:
Erik Verduijn
;
Ulrich Welling
;
Jiuzhou Tang
;
Hans-Juergen Stock
;
Ulrich Klostermann
;
Wolfgang Demmerle
;
Peter De Bisschop
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Stochastics;
defect prediction;
microbridges;
EUV lithography;
9.
Probability prediction of EUV process failure due to resist-exposure stochastic: applications of Gaussian random fields excursions and Rice's formula
机译:
抵抗抗蚀剂随机性导致的EUV工艺失败的概率预测:高斯随机场偏移和Rice公式的应用
作者:
Azat Latypov
;
Gurdaman Khaira
;
Germain Fenger
;
John Sturtevant
;
Chih-I Wei
;
Peter De Bisschop
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
lithography;
resist;
stochastic;
Gaussian random field;
excursion;
Rice's formula;
10.
Fundamental characterization of stochastic variation for improved single-expose EUV patterning at aggressive pitch
机译:
随机变化的基本特征,用于在侵蚀性间距上改善单曝光EUV图案
作者:
Jennifer Church
;
Luciana Meli
;
Jing Guo
;
Martin Burkhardt
;
Chris Mack
;
Anuja DeSilva
;
Karen Petrillo
;
Mary Breton
;
Ravi Bonam
;
Romain Lallement
;
Eric Miller
;
Brad Austin
;
Shravan Matham
;
Nelson Felix
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Stochastic failure;
single-expose EUV lithography;
LER;
LCDU;
defect inspection;
11.
Leveraging sub-EO dose assessment methodology to improve EUV lithography cluster dose performance
机译:
利用亚EO剂量评估方法来改善EUV光刻集群剂量性能
作者:
Chris Robinson
;
Cody Murray
;
Luciana Meli
;
Anuja DeSilva
;
Dario Goldfarb
;
Conor Thomas
;
Madhana Sunder
;
Mary Ann Zaitz
;
Guoda Lian
;
Yiping Yao
;
Leo Tai
;
Jay Bunt
;
Jim Rosa
;
Malik Ali
;
Steven Boettcher
;
Mark Stalter
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
EUV scanner;
dose control;
sub-EO;
mask contamination;
flare;
stray light;
12.
EUVL mask process development and verification using advanced modeling and characterization techniques
机译:
使用高级建模和表征技术的EUVL掩模工艺开发和验证
作者:
Michael Green
;
Romain Lallement
;
Mohamed Ramadan
;
Derren Dunn
;
Henry Kamberian
;
Stuart Sieg
;
Young Ham
;
Chris Progler
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
extreme ultraviolet lithography (EUVL);
advanced mask characterization and optimization (AMCO);
corner rounding (CR);
mask process correction (MPC);
13.
Novel monitoring of EUV litho cluster for manufacturing insertion
机译:
用于生产插入的EUV光刻机群的新型监控
作者:
Vincent Truffert
;
Kit Ausschnitt
;
Vineet V. Nair
;
Koen DHave
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
variance monitor;
pattern fidelity;
optical metrology;
overlay;
asymmetric mark;
pattern shift response;
PSR;
stochastic defect;
LER;
2-D;
14.
Strategies for Aggressive Scaling of EUV multi-patterning to sub-20 nm features
机译:
将EUV多图案扩展到20 nm以下特征的策略
作者:
Ashim Dutta
;
Jennifer Church
;
Joe Lee
;
Brendan OBrien
;
Luciana Meli
;
Chi Chun Liu
;
Saumya Sharma
;
Karen Petrillo
;
Cody Murray
;
Eric Liu
;
Katie Lutker-Lee
;
Qiaowei Lou
;
Chris Cole
;
Angelique Raley
;
Akiteru Ko
;
Subhadeep Kal
;
Jake Kaminsky
;
Aelan Mosden
;
Henan Zhang
;
Shan Hu
;
Lior Huli
;
Naoki Shibata
;
Dave Hetzer
;
Chia-Yun (Sharon) Hsieh
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
15.
Challenge of >300W High Power LPP-EUV Source with Long Collector Mirror Lifetime for Semiconductor HVM
机译:
半导体HVM的> 300W大功率LPP-EUV源具有较长的集电极镜寿命的挑战
作者:
Hakaru Mizoguchi
;
Hiroaki Nakarai
;
Tamotsu Abe
;
Hiroshi Tanaka
;
Yukio Watanabe
;
Tsukasa Hori
;
Yutaka Shiraishi
;
Tatsuya Yanagida
;
Georg Soumagne
;
Tsuyoshi Yamada
;
Takashi Saitou
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Laser produced plasma;
EUV;
13.5nm;
lithography;
conversion efficiency;
Pre-pulse laser;
CO2 laser;
collector mirror;
16.
Understanding EUV-induced Plasma and Application to Particle Contamination Control in EUV Scanners
机译:
了解EUV诱导的等离子体及其在EUV扫描仪中的颗粒污染控制中的应用
作者:
Mark van de Kerkhof
;
Andrei Yakunin
;
Vladimir Kvon
;
Ferdi van de Wetering
;
Selwyn Cats
;
Luuk Heijmans
;
Andrey Nikipelov
;
Adam Lassise
;
Vadim Banine
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
Plasma;
EUV-induced Plasma;
Defects;
Particles;
Contamination;
17.
EUV Mask Infrastructure and Actinic Pattern Mask Inspection
机译:
EUV掩模基础设施和光化图案掩模检查
作者:
Ted Liang
;
Yoshihiro Tezuka
;
Marieke Jager
;
Kishore Chakravorty
;
Safak Sayan
;
Eric Frendberg
;
Srinath Satyanarayana
;
Firoz Ghadiali
;
Guojing Zhang
;
Frank Abboud
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
EUV mask;
APMI Actinic Pattern Mask Inspection;
mask inspection;
pellicle;
18.
EUV Mask Polarization Effects on Sub-7nm Node Imaging
机译:
EUV掩模极化对7纳米以下节点成像的影响
作者:
Lilian Neim
;
Bruce W. Smith
;
Germain Fenger
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Photomask;
Polarization;
EUV;
NA;
Degree of Polarization;
TM;
TE;
Image Contrast;
CRAO.;
19.
Quantitative Phase Retrieval for EUV Photomasks
机译:
EUV光掩模的定量相位检索
作者:
Stuart Sherwin
;
Isvar Cordova
;
Ryan Miyakawa
;
Laura Waller
;
Andrew Neureuther
;
Patrick Naulleau
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
Phase;
Attenuated PSM;
Reflectoinetry;
Scatterometry;
Absorber;
Multilayer. PhaseLift;
20.
Pathfinding the perfect EUV mask: The role of the multilayer
机译:
寻觅完美的EUV掩模:多层的作用
作者:
H. Mesilhy
;
P. Evanschitzky
;
G. Bottiglieri
;
E. van Setten
;
T. Fliervoet
;
A. Erdmann
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
High-NA;
EUV;
Reflective multilayer;
EUV mask;
Shadowing;
3D-mask effects;
21.
Machine Learning Techniques for OPC Improvement at the Sub-5 nm Node
机译:
在5纳米以下节点改进OPC的机器学习技术
作者:
Changsoo Kim
;
Seungjong Lee
;
Sangwoo Park
;
No-Young Chung
;
Jungmin Kim
;
Narae Bang
;
Sanghwa Lee
;
SooRyong Lee
;
Robert Boone
;
Pengcheng Li
;
Jiyoon Chang
;
Xinxin Zhou
;
YoungMi Kim
;
MinSu Oh
;
Minsung Kim
;
Rachit Gupta
;
Jun Ye
;
Stanislas Baron
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
optical proximity correction;
pattern classification;
machine learning;
deep learning (DL);
edge placement error (EPE);
modeling;
runtime optimization;
22.
Measurement of latent image in resist using scanning probe techniques
机译:
使用扫描探针技术测量抗蚀剂中的潜像
作者:
Luke T. Long
;
Andrew R Neureuther
;
Patrick P Naulleau
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Photoresist;
LWR;
AFM;
Stochastics;
Chemcial Slope;
23.
Excitation Selectivity in Model Tin-oxo Resist A Computational Chemistry Perspective
机译:
锡-氧代模型中的激发选择性从计算化学的角度
作者:
Jonathan H. Ma
;
Han Wang
;
David Prendergast
;
Andrew Neureuther
;
Patrick Naulleau
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
Radiation Chemistry;
Metal-oxide Resists;
Computational Chemistry;
24.
The EUV CNT pellicle: balancing material properties to optimize performance
机译:
EUV CNT防护膜:平衡材料性能以优化性能
作者:
Ivan Pollentier
;
Marina Y. Timmermans
;
Cedric Huyghebaert
;
Steven Brems
;
Emily E. Gallagher
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
pellicle;
mask defects;
carbon nanotubes;
optical transmission;
optical scattering;
25.
Illumination control in lensless imaging for EUV mask inspection and review
机译:
用于EUV掩模检查和检查的无透镜成像中的照明控制
作者:
Iacopo Mochi
;
Hyun-Su Kim
;
Uldis Locans
;
Atoosa Dejkameh
;
Ricarda Ncbling
;
Dimitrios Kazazis
;
Yasin Ekinci
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV mask review;
inspection;
defects;
lensless imaging;
coherent diffraction imaging;
ptychography;
26.
Optical defect inspection solution for EUV stochastics detection
机译:
用于EUV随机检测的光学缺陷检查解决方案
作者:
Anantha Vidyasagar
;
Raghav Babulnath
;
Vaikunth Kannan
;
Garima Sharma
;
Shubham Kumar
;
Kaushik Sah
;
Andrew Cross
;
Rahul Lakhawat
;
Hari Pathangi
;
Peter De Bisschop
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV Stochastics;
Optical Defect Inspection;
Broadband Plasma;
Full wafer coverage;
Random defects;
27.
Simulation investigation of enabling technologies for EUV single exposure of via patterns in 3nm logic technology
机译:
3nm逻辑技术中用于EUV单孔图案曝光的使能技术的仿真研究
作者:
Weimin Gao
;
Tsann-Bim Chiou
;
Shih-En Tseng
;
Pieter Woltgens
;
Moyra McManus
;
Nak Seong
;
Anthony Yen
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
28.
Projecting EUV photo-speeds for future logic nodes
机译:
预测未来逻辑节点的EUV光速
作者:
Mark Neisser
;
Harry J. Levinson
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
Photoresist;
Lithography roadmap;
Stochastics;
Photospeed;
IRDS;
ITRS;
Lithography;
29.
Novel high-contrast phase-shifting masks for EUV interference lithography
机译:
用于EUV干涉光刻的新型高对比度相移掩模
作者:
B. Luettgenau
;
S. Brose
;
S. Danylyuk
;
J. Stollenwerk
;
P. Loosen
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
extreme ultraviolet;
laboratory exposure tool;
achromatic Talbot lithography;
rigorous simulation;
high-resolution nanopatterning;
large-area structuring;
aerial image calculation;
intensity modulation;
30.
Application of alternative developer solutions for EUV Lithography
机译:
替代显影剂解决方案在EUV光刻中的应用
作者:
Julius Joseph Santillan
;
Masahiko Harumoto
;
Harold Stokes
;
Chisayo Mori
;
Yuji Tanaka
;
You Arisawa
;
Tomohiro Motono
;
Masaya Asai
;
Toshiro Itani
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Resist process;
defects;
developer solutions;
developer concentrations;
31.
Additional real-time diagnostics on the EBL2 EUV exposure facility
机译:
EBL2 EUV曝光设备的附加实时诊断
作者:
Peter van der Walle
;
Jetske Stortelder
;
Chien-Ching Wu
;
Henk Lensen
;
Norbert Koster
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUVL;
optics lifetime;
EBL2;
diagnostics;
EUVR;
thermal imaging;
32.
Spectral purity performance of high-power EUV systems
机译:
大功率EUV系统的光谱纯度性能
作者:
Mark van de Kerkhof
;
Fei Liu
;
Marieke Meeuwissen
;
Xueqing Zhang
;
Robert de Kruif
;
Natalia Davydova
;
Guido Schiffelers
;
Felix Waehlisch
;
Eelco van Setten
;
Wouter Varenkamp
;
Kees Ricken
;
Laurens de Winter
;
John Mcnamara1 Muharrem Bayraktar
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
High-Power;
DUV;
Spectral Purity;
Pellicle;
DGL-membrane;
33.
Compact modeling to predict and correct stochastic hotspots in EUVL
机译:
紧凑模型可预测和纠正EUVL中的随机热点
作者:
Zachary Levinson
;
Yudhishthir Kandel
;
Yunqiang Zhang
;
Qiliang Yan
;
Makoto Miyagi
;
Xiaohai Li
;
Kevin Lucas
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
compact modeling;
stochastic variation;
stochastic modeling;
34.
A plausible approach for actinic patterned mask inspection using coherent interferometric imaging
机译:
使用相干干涉成像技术进行光化图案掩模检查的可行方法
作者:
Steven M. Ebstein
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
mask inspection;
actinic inspection;
interferometric imaging;
digital holography;
FEL;
zone plate;
35.
Impact of EUV Resist Thickness on Local Critical Dimension Uniformities for <30 nm CD Via Patterning
机译:
EUV抗蚀剂厚度对通过图案形成<30 nm CD的局部临界尺寸均匀性的影响
作者:
B. Vincent
;
M. J. Maslow
;
J. Bekaert
;
M. Mao
;
J. Ervin
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Lithography/etch variation;
EUV;
LCDU;
simulation;
3D resist profiles;
36.
Update of development progress of the High Power LPP-EUV light source using a magnetic field
机译:
利用磁场更新大功率LPP-EUV光源的开发进度
作者:
Gouta Niimi
;
Shinji Nagai
;
Tsukasa Hori
;
Yoshifumi Ueno
;
Tatsuya Yanagida
;
Kenichi Miyao
;
Hideyuki Hayashi
;
Yukio Watanabe
;
Tamotsu Abe
;
Hiroaki Nakarai
;
Takashi Saito
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV light source;
EUV lithography;
Laser produced plasma;
Debris mitigation;
Magnetic field;
Tin droplet target;
CO_2 laser;
Pre-pulse laser;
37.
Analysis of trade-off relationships between resolution, line edge roughness, and sensitivity in extreme ultraviolet lithography using machine learning
机译:
使用机器学习分析极端紫外线光刻中分辨率,线条边缘粗糙度和灵敏度之间的权衡关系
作者:
Kazuki Azumagawa
;
Takahiro Kozawa
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
machine learning;
materials informatics;
LWR;
trade-off;
mechanism;
chemical gradient;
38.
CLEAN TRACK™ solutions for detectivity and CD control towards 5 nm and smaller nodes
机译:
CLEAN TRACK™解决方案,用于对5 nm及更小的节点进行探测和CD控制
作者:
Amaud Dauendorffer
;
Takahiro Shiozawa
;
Keisuke Yoshida
;
Noriaki Nagamine
;
Yuya Kamei
;
Shinichiro Kawakami
;
Satoru Shimura
;
Kathleen Nafus
;
Akihiro Sonoda
;
Philippe Foubert
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
39.
Realization of thermally stable transmissive optical elements for the EUV wavelength range
机译:
在EUV波长范围内实现热稳定的透射光学元件
作者:
G. Hergenhan
;
J. Taubert
;
D. Grimm
;
M. Tilke
;
M. Panitz
;
C. Ziener
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
membrane;
ULE;
transmissive optical elements;
fiducial;
beam shaping;
EUV exposure;
actinic mask inspection;
masks;
40.
Impact of Flare on Source Mask Optimization in EUVL for 7nm technology node
机译:
耀斑对7nm技术节点EUVL中源掩模优化的影响
作者:
Lisong Dong
;
Rui Chen
;
Taian Fan
;
Rongbo Zhao
;
Yayi Wei
;
Jianjun Jia
;
Zac Levinson
;
Thuc Dam
;
Jay Lee
;
Yongdong Wang
;
Larry Melvin
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
constant flare;
flare map;
process window;
41.
EUV OPC Methodology for beyond 20nm Memory Cell by Simulation Data
机译:
通过仿真数据对超过20nm的存储单元进行EUV OPC方法论
作者:
Jiunhau Fu
;
Chiang Lin Shih
;
Chun Cheng Liao
;
Eric Huang
;
Elsley Tan
;
John Tsai
;
Ming Yun Chen
;
Yuan Pin Liao
;
Seung Hee Back
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
OPC;
memory cell;
ILT;
mask optimization;
42.
Compressive sensing method for EUV source optimization using different bases
机译:
使用不同基准的EUV源优化的压缩感测方法
作者:
Jiaxin Lin
;
Lisong Dong
;
Taian Fan
;
Xu Ma
;
Rui Chen
;
Xiaoran Zhang
;
Hans-Juergen Stock
;
Yayi Wei
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
source optimization;
compressive sensing;
43.
Particle contamination control by application of plasma
机译:
通过等离子体控制颗粒污染
作者:
Job Beckers
;
Boy van Minderhout
;
Paul Blom
;
Gerrit Kroesen
;
Ton Peijnenburg
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Plasma;
EUV;
EUV lithography;
Particles;
Contamination;
Contamination control;
44.
Analysis of trade-off relationships between resolution, line edge roughness, and sensitivity in extreme ultraviolet lithography using machine learning
机译:
利用机器学习分辨率,线边缘粗糙度与极端紫外线光刻敏感性的权衡关系分析
作者:
Kazuki Azumagawa
;
Takahiro Kozawa
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
machine learning;
materials informatics;
LWR;
trade-off;
mechanism;
chemical gradient;
45.
Realization of thermally stable transmissive optical elements for the EUV wavelength range
机译:
实现EUV波长范围的热稳定透射光学元件
作者:
G. Hergenhan
;
J. Taubert
;
D. Grimm
;
M. Tilke
;
M. Panitz
;
C. Ziener
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
membrane;
ULE;
transmissive optical elements;
fiducial;
beam shaping;
EUV exposure;
actinic mask inspection;
masks;
46.
Challenge of >300W High Power LPP-EUV Source with Long Collector Mirror Lifetime for Semiconductor HVM
机译:
半导体HVM具有长集电极镜寿命的300W高功率LPP-EUV源的挑战
作者:
Hakaru Mizoguchi
;
Hiroaki Nakarai
;
Tamotsu Abe
;
Hiroshi Tanaka
;
Yukio Watanabe
;
Tsukasa Hori
;
Yutaka Shiraishi
;
Tatsuya Yanagida
;
Georg Soumagne
;
Tsuyoshi Yamada
;
Takashi Saitou
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Laser produced plasma;
EUV;
13.5nm;
lithography;
conversion efficiency;
Pre-pulse laser;
CO2 laser;
collector mirror;
47.
Prediction of EUV Stochastic Microbridge Probabilities by Lithography Simulations
机译:
光刻模拟预测EUV随机微磁概率
作者:
Erik Verduijn
;
Ulrich Welling
;
Jiuzhou Tang
;
Hans-Juergen Stock
;
Ulrich Klostermann
;
Wolfgang Demmerle
;
Peter De Bisschop
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Stochastics;
defect prediction;
microbridges;
EUV lithography;
48.
Novel high-contrast phase-shifting masks for EUV interference lithography
机译:
用于EUV干扰光刻的新型高对比度相位移膜
作者:
B. Luettgenau
;
S. Brose
;
S. Danylyuk
;
J. Stollenwerk
;
P. Loosen
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
extreme ultraviolet;
laboratory exposure tool;
achromatic Talbot lithography;
rigorous simulation;
high-resolution nanopatterning;
large-area structuring;
aerial image calculation;
intensity modulation;
49.
Compact modeling to predict and correct stochastic hotspots in EUVL
机译:
紧凑型模型以预测EUVL中的随机热点
作者:
Zachary Levinson
;
Yudhishthir Kandel
;
Yunqiang Zhang
;
Qiliang Yan
;
Makoto Miyagi
;
Xiaohai Li
;
Kevin Lucas
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
compact modeling;
stochastic variation;
stochastic modeling;
50.
Calibration of a MOx-Specific EUV Photoresist Lithography Model
机译:
MOX特异性EUV光致抗蚀剂光刻模型的校准
作者:
Craig D. Needham
;
Amrit Narasimhan
;
Ulrich Welling
;
Lawrence S. Melvin
;
Peter De Schepper
;
Joren Wouters
;
Joren Severi
;
Danilo De Simone
;
Stephen Meyers
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Stochastics;
MOx Photoresists;
Lithography Modeling;
EUV;
51.
Additional real-time diagnostics on the EBL2 EUV exposure facility
机译:
EBL2 EUV曝光设施上的其他实时诊断
作者:
Peter van der Walle
;
Jetske Stortelder
;
Chien-Ching Wu
;
Henk Lensen
;
Norbert Koster
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUVL;
optics lifetime;
EBL2;
diagnostics;
EUVR;
thermal imaging;
52.
Quantitative Phase Retrieval for EUV Photomasks
机译:
EUV光掩模的定量相位检索
作者:
Stuart Sherwin
;
Isvar Cordova
;
Ryan Miyakawa
;
Laura Waller
;
Andrew Neureuther
;
Patrick Naulleau
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
Phase;
Attenuated PSM;
Reflectoinetry;
Scatterometry;
Absorber;
Multilayer. PhaseLift;
53.
Strategies for Aggressive Scaling of EUV multi-patterning to sub-20 nm features
机译:
EUV多图案攻击到Sub-20 NM功能的策略
作者:
Ashim Dutta
;
Jennifer Church
;
Joe Lee
;
Brendan OBrien
;
Luciana Meli
;
Chi Chun Liu
;
Saumya Sharma
;
Karen Petrillo
;
Cody Murray
;
Eric Liu
;
Katie Lutker-Lee
;
Qiaowei Lou
;
Chris Cole
;
Angelique Raley
;
Akiteru Ko
;
Subhadeep Kal
;
Jake Kaminsky
;
Aelan Mosden
;
Henan Zhang
;
Shan Hu
;
Lior Huli
;
Naoki Shibata
;
Dave Hetzer
;
Chia-Yun (Sharon) Hsieh
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
54.
Fundamental characterization of stochastic variation for improved single-expose EUV patterning at aggressive pitch
机译:
随机变异的基本表征改进的单曝光EUV图案在激进间距
作者:
Jennifer Church
;
Luciana Meli
;
Jing Guo
;
Martin Burkhardt
;
Chris Mack
;
Anuja DeSilva
;
Karen Petrillo
;
Mary Breton
;
Ravi Bonam
;
Romain Lallement
;
Eric Miller
;
Brad Austin
;
Shravan Matham
;
Nelson Felix
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Stochastic failure;
single-expose EUV lithography;
LER;
LCDU;
defect inspection;
55.
EUV Mask Infrastructure and Actinic Pattern Mask Inspection
机译:
EUV面具基础设施和散装图案面膜检查
作者:
Ted Liang
;
Yoshihiro Tezuka
;
Marieke Jager
;
Kishore Chakravorty
;
Safak Sayan
;
Eric Frendberg
;
Srinath Satyanarayana
;
Firoz Ghadiali
;
Guojing Zhang
;
Frank Abboud
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
EUV mask;
APMI Actinic Pattern Mask Inspection;
mask inspection;
pellicle;
56.
Pathfinding the perfect EUV mask: The role of the multilayer
机译:
Pathfinding完美的EUV面具:多层的角色
作者:
H. Mesilhy
;
P. Evanschitzky
;
G. Bottiglieri
;
E. van Setten
;
T. Fliervoet
;
A. Erdmann
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
High-NA;
EUV;
Reflective multilayer;
EUV mask;
Shadowing;
3D-mask effects;
57.
Compressive sensing method for EUV source optimization using different bases
机译:
使用不同碱的EUV源优化的压缩传感方法
作者:
Jiaxin Lin
;
Lisong Dong
;
Taian Fan
;
Xu Ma
;
Rui Chen
;
Xiaoran Zhang
;
Hans-Juergen Stock
;
Yayi Wei
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
source optimization;
compressive sensing;
58.
Excitation Selectivity in Model Tin-oxo Resist A Computational Chemistry Perspective
机译:
锡氧化型模型中的激发选择性抵抗计算化学视角
作者:
Jonathan H. Ma
;
Han Wang
;
David Prendergast
;
Andrew Neureuther
;
Patrick Naulleau
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
Radiation Chemistry;
Metal-oxide Resists;
Computational Chemistry;
59.
Illumination control in lensless imaging for EUV mask inspection and review
机译:
EUV面罩检测和审查中无透镜成像中的照明控制
作者:
Iacopo Mochi
;
Hyun-Su Kim
;
Uldis Locans
;
Atoosa Dejkameh
;
Ricarda Ncbling
;
Dimitrios Kazazis
;
Yasin Ekinci
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV mask review;
inspection;
defects;
lensless imaging;
coherent diffraction imaging;
ptychography;
60.
High-NA EUV lithography optics becomes reality
机译:
高NA EUV光刻光学成为现实
作者:
Lars Wischmeier
;
Paul Graeupner
;
Peter Kuerz
;
Winfried Kaiser
;
Jan van Schoot
;
Joerg Mallmann
;
Joost de Pee
;
Judon Stoeldraijer
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
Optics;
Imaging;
61.
Optical defect inspection solution for EUV stochastics detection
机译:
EUV随机检测的光学缺陷检测解决方案
作者:
Anantha Vidyasagar
;
Raghav Babulnath
;
Vaikunth Kannan
;
Garima Sharma
;
Shubham Kumar
;
Kaushik Sah
;
Andrew Cross
;
Rahul Lakhawat
;
Hari Pathangi
;
Peter De Bisschop
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV Stochastics;
Optical Defect Inspection;
Broadband Plasma;
Full wafer coverage;
Random defects;
62.
Lithographic pattern formation in the presence of aberrations in anamorphic optical systems
机译:
在变形光学系统中存在像差的光刻图案形成
作者:
Zachary Levinson
;
Bruce W. Smith
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Anamorphic optics;
EUVL;
aberrations;
image formation;
central obscuration;
63.
On the dependencies of the Stochastic Printing-Failure Cliffs in EUV Lithography
机译:
在EUV光刻中随机印刷悬崖的依赖性
作者:
P. De Bisschop
;
E. Hendrickx
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Stochastic patterning cliff;
missing contacts;
microbridges;
(pix)NOK-metric;
defect inspection;
empirical modeling;
OPC Verification;
64.
Spectral purity performance of high-power EUV systems
机译:
高功率EUV系统的光谱纯度性能
作者:
Mark van de Kerkhof
;
Fei Liu
;
Marieke Meeuwissen
;
Xueqing Zhang
;
Robert de Kruif
;
Natalia Davydova
;
Guido Schiffelers
;
Felix Waehlisch
;
Eelco van Setten
;
Wouter Varenkamp
;
Kees Ricken
;
Laurens de Winter
;
John Mcnamara1 Muharrem Bayraktar
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
High-Power;
DUV;
Spectral Purity;
Pellicle;
DGL-membrane;
65.
Leveraging sub-EO dose assessment methodology to improve EUV lithography cluster dose performance
机译:
利用次EO剂量评估方法改善EUV光刻簇剂量性能
作者:
Chris Robinson
;
Cody Murray
;
Luciana Meli
;
Anuja DeSilva
;
Dario Goldfarb
;
Conor Thomas
;
Madhana Sunder
;
Mary Ann Zaitz
;
Guoda Lian
;
Yiping Yao
;
Leo Tai
;
Jay Bunt
;
Jim Rosa
;
Malik Ali
;
Steven Boettcher
;
Mark Stalter
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
EUV scanner;
dose control;
sub-EO;
mask contamination;
flare;
stray light;
66.
Impact of EUV Resist Thickness on Local Critical Dimension Uniformities for <30 nm CD Via Patterning
机译:
EUV抗蚀剂厚度对局部关键尺寸均匀性的影响<30nm CD通过图案化
作者:
B. Vincent
;
M. J. Maslow
;
J. Bekaert
;
M. Mao
;
J. Ervin
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Lithography/etch variation;
EUV;
LCDU;
simulation;
3D resist profiles;
67.
The EUV CNT pellicle: balancing material properties to optimize performance
机译:
EUV CNT PELLICE:平衡材料特性以优化性能
作者:
Ivan Pollentier
;
Marina Y. Timmermans
;
Cedric Huyghebaert
;
Steven Brems
;
Emily E. Gallagher
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
pellicle;
mask defects;
carbon nanotubes;
optical transmission;
optical scattering;
68.
EUV Mask Polarization Effects on Sub-7nm Node Imaging
机译:
euv掩模对子7nm节点成像的偏振效应
作者:
Lilian Neim
;
Bruce W. Smith
;
Germain Fenger
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Photomask;
Polarization;
EUV;
NA;
Degree of Polarization;
TM;
TE;
Image Contrast;
CRAO.;
69.
Machine Learning Techniques for OPC Improvement at the Sub-5 nm Node
机译:
SUB-5 NM节点OPC改进的机器学习技术
作者:
Changsoo Kim
;
Seungjong Lee
;
Sangwoo Park
;
No-Young Chung
;
Jungmin Kim
;
Narae Bang
;
Sanghwa Lee
;
SooRyong Lee
;
Robert Boone
;
Pengcheng Li
;
Jiyoon Chang
;
Xinxin Zhou
;
YoungMi Kim
;
MinSu Oh
;
Minsung Kim
;
Rachit Gupta
;
Jun Ye
;
Stanislas Baron
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
optical proximity correction;
pattern classification;
machine learning;
deep learning (DL);
edge placement error (EPE);
modeling;
runtime optimization;
70.
A plausible approach for actinic patterned mask inspection using coherent interferometric imaging
机译:
采用相干干涉成像的幻影图案化掩模检验的合理方法
作者:
Steven M. Ebstein
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
mask inspection;
actinic inspection;
interferometric imaging;
digital holography;
FEL;
zone plate;
71.
Update of development progress of the High Power LPP-EUV light source using a magnetic field
机译:
使用磁场更新高功率LPP-EUV光源的开发进展
作者:
Gouta Niimi
;
Shinji Nagai
;
Tsukasa Hori
;
Yoshifumi Ueno
;
Tatsuya Yanagida
;
Kenichi Miyao
;
Hideyuki Hayashi
;
Yukio Watanabe
;
Tamotsu Abe
;
Hiroaki Nakarai
;
Takashi Saito
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV light source;
EUV lithography;
Laser produced plasma;
Debris mitigation;
Magnetic field;
Tin droplet target;
CO_2 laser;
Pre-pulse laser;
72.
Impact of Flare on Source Mask Optimization in EUVL for 7nm technology node
机译:
FLARE对7NM技术节点EUVL源掩模优化的影响
作者:
Lisong Dong
;
Rui Chen
;
Taian Fan
;
Rongbo Zhao
;
Yayi Wei
;
Jianjun Jia
;
Zac Levinson
;
Thuc Dam
;
Jay Lee
;
Yongdong Wang
;
Larry Melvin
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
constant flare;
flare map;
process window;
73.
Cluster of correlated reactions as a cause for various types of stochastic defects in extreme ultraviolet lithography
机译:
相关反应集群作为极端紫外线术中各种类型的随机缺陷的原因
作者:
Hiroshi Fukuda
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
lithography;
extreme ultraviolet (EUV);
chemically amplified resists;
stochastic defect;
secondary electron;
Monte Carlo simulation;
74.
Measurement of latent image in resist using scanning probe techniques
机译:
使用扫描探针技术测量抗蚀剂中的潜像
作者:
Luke T. Long
;
Andrew R Neureuther
;
Patrick P Naulleau
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Photoresist;
LWR;
AFM;
Stochastics;
Chemcial Slope;
75.
Novel monitoring of EUV litho cluster for manufacturing insertion
机译:
用于制造插入的EUV LITHO集群的新颖监控
作者:
Vincent Truffert
;
Kit Ausschnitt
;
Vineet V. Nair
;
Koen DHave
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV lithography;
variance monitor;
pattern fidelity;
optical metrology;
overlay;
asymmetric mark;
pattern shift response;
PSR;
stochastic defect;
LER;
2-D;
76.
High-NA EUV Lithography Exposure Tool: Program Progress
机译:
高NA EUV光刻曝光工具:方案进展
作者:
Jan van Schoot
;
Eelco van Setten
;
Kars Troost
;
Sjoerd Lok
;
Rudy Peeters
;
Judon Stoeldraijer
;
Jos Benschop
;
Joerg Zimmermann
;
Paul Graeupner
;
Peter Kuerz
;
Winfiied Kaiser
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUVL;
Exposure Tools;
High-NA;
Imaging;
Overlay;
Throughput;
Magnification;
Anamorphic;
77.
How We Are Making The 0.5-NA Berkeley Micro-field Exposure Tool Stable and Productive
机译:
我们如何制作0.5纳伯克利微场曝光工具稳定和生产力
作者:
Chris Anderson
;
Arnaud Allezy
;
Weilun Chao
;
Lucas Conley
;
Carl Cork
;
Will Cork
;
ReneDelano
;
Jason DePonte
;
Michael Dickinson
;
Geoff Gaines
;
Jeff Gamsby
;
Eric Gullikson
;
Gideon Jones
;
Lauren McQuade
;
Ryan Miyakawa
;
Patrick Naulleau
;
Seno Rekawa
;
FarhadSalmassi
;
Brandon Vollmer
;
Daniel Zehm
;
Wenhua Zhu
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
High-NA;
MET;
Microfield Exposure Tool;
Photoresist;
Berkeley Lab;
LBNL;
CXRO;
78.
Projecting EUV photo-speeds for future logic nodes
机译:
投影EUV光速,用于将来逻辑节点
作者:
Mark Neisser
;
Harry J. Levinson
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
Photoresist;
Lithography roadmap;
Stochastics;
Photospeed;
IRDS;
ITRS;
Lithography;
79.
Application of alternative developer solutions for EUV Lithography
机译:
EUV光刻替代开发人员解决方案的应用
作者:
Julius Joseph Santillan
;
Masahiko Harumoto
;
Harold Stokes
;
Chisayo Mori
;
Yuji Tanaka
;
You Arisawa
;
Tomohiro Motono
;
Masaya Asai
;
Toshiro Itani
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Resist process;
defects;
developer solutions;
developer concentrations;
80.
EUVL mask process development and verification using advanced modeling and characterization techniques
机译:
EUVL掩码使用先进建模和表征技术的开发和验证
作者:
Michael Green
;
Romain Lallement
;
Mohamed Ramadan
;
Derren Dunn
;
Henry Kamberian
;
Stuart Sieg
;
Young Ham
;
Chris Progler
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
extreme ultraviolet lithography (EUVL);
advanced mask characterization and optimization (AMCO);
corner rounding (CR);
mask process correction (MPC);
81.
CLEAN TRACK? solutions for detectivity and CD control towards 5 nm and smaller nodes
机译:
干净的轨道?探测和CD控制朝向5 nm和较小节点的解决方案
作者:
Amaud Dauendorffer
;
Takahiro Shiozawa
;
Keisuke Yoshida
;
Noriaki Nagamine
;
Yuya Kamei
;
Shinichiro Kawakami
;
Satoru Shimura
;
Kathleen Nafus
;
Akihiro Sonoda
;
Philippe Foubert
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
82.
Simulation investigation of enabling technologies for EUV single exposure of via patterns in 3nm logic technology
机译:
3NM逻辑技术常压录材促进技术促进技术仿真研究
作者:
Weimin Gao
;
Tsann-Bim Chiou
;
Shih-En Tseng
;
Pieter Woltgens
;
Moyra McManus
;
Nak Seong
;
Anthony Yen
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
83.
EUV OPC Methodology for beyond 20nm Memory Cell by Simulation Data
机译:
EUV OPC通过模拟数据超出20nm存储器单元的方法
作者:
Jiunhau Fu
;
Chiang Lin Shih
;
Chun Cheng Liao
;
Eric Huang
;
Elsley Tan
;
John Tsai
;
Ming Yun Chen
;
Yuan Pin Liao
;
Seung Hee Back
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
OPC;
memory cell;
ILT;
mask optimization;
84.
Understanding EUV-induced Plasma and Application to Particle Contamination Control in EUV Scanners
机译:
了解EUV诱导的血浆和应用于EUV扫描仪中的粒子污染控制
作者:
Mark van de Kerkhof
;
Andrei Yakunin
;
Vladimir Kvon
;
Ferdi van de Wetering
;
Selwyn Cats
;
Luuk Heijmans
;
Andrey Nikipelov
;
Adam Lassise
;
Vadim Banine
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
Plasma;
EUV-induced Plasma;
Defects;
Particles;
Contamination;
85.
Probability prediction of EUV process failure due to resist-exposure stochastic: applications of Gaussian random fields excursions and Rice's formula
机译:
抗蚀剂曝光随机由于抗蚀剂的概率预测:高斯随机田偏移和大米公式的应用
作者:
Azat Latypov
;
Gurdaman Khaira
;
Germain Fenger
;
John Sturtevant
;
Chih-I Wei
;
Peter De Bisschop
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
EUV;
lithography;
resist;
stochastic;
Gaussian random field;
excursion;
Rice's formula;
86.
Particle contamination control by application of plasma
机译:
粒子污染控制通过施加等离子体
作者:
Job Beckers
;
Boy van Minderhout
;
Paul Blom
;
Gerrit Kroesen
;
Ton Peijnenburg
会议名称:
《Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography》
|
2020年
关键词:
Plasma;
EUV;
EUV lithography;
Particles;
Contamination;
Contamination control;
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