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European mask and lithography conference
European mask and lithography conference
召开年:
2016
召开地:
Dresden(DE)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
Etched multilayer EUV mask fabrication for sub-60nm pattern based on effective mirror width
机译:
基于有效镜面宽度的亚60nm图案蚀刻多层EUV掩模制造
作者:
Noriko Iida nee Sakurai
;
Kosuke Takai
;
Takashi Kamo
;
Yasutaka Morikawa
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
EUV lithography;
EUV mask;
etched multilayer;
effective mirror width;
2.
Improving contact layer patterning using SEM contour based etch model
机译:
使用基于SEM轮廓的蚀刻模型改善接触层构图
作者:
Francois Weisbuch
;
Andrey Lutich
;
Jirka Schatz
;
Tino Hertzsch
;
Hans-Peter Moll
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
etch;
model;
contour;
VEB;
SEM;
contact;
calibration;
target;
3.
A thick photoresist process for high aspect ratio MEMS applications
机译:
适用于高纵横比MEMS应用的厚光刻胶工艺
作者:
Elias Laforge
;
Ricky Anthony
;
Paul McCloskey
;
Cian OMathuna
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
photolithography;
high aspect ratio;
THB-151N;
microinductors;
MEMS;
4.
Advanced photomask fabrication by e-beam lithography for mask aligner applications
机译:
利用电子束光刻技术进行先进的光掩模制造,适用于掩模对准仪应用
作者:
T. Weichelt
;
Y. Bourgin
;
M. Banasch
;
U.D. Zeitner
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
5.
Mask Manufacturing of Advanced Technology Designs using Multi-Beam Lithography (Part 1)
机译:
使用多束光刻技术进行先进技术设计的掩模制造(第1部分)
作者:
Michael Green
;
Young Ham
;
Brian Dillon
;
Bryan Kasprowicz
;
Ik Boum Hur
;
Joong Hee Park
;
Yohan Choi
;
Jeff McMurran
;
Henry Kamberian
;
Daniel Chalom
;
Jan Klikovits
;
Michal Jurkovic
;
Peter Hudek
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
Optical Proximity Correction (OPC);
Sub-Resolution Assist Features (SRAFs);
Multi-beam Mask Writer (MBMW);
6.
A Parallel Multibeam Mask Writing Method and Its Impact on Data Volumes
机译:
并行多光束掩模写入方法及其对数据量的影响
作者:
N. Chaudhary
;
Y. Luo
;
S. A. Savari
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
Multibeam mask writing;
data compression;
scanning strategy;
7.
Towards expanding megasonic cleaning capability
机译:
迈向扩大超声波清洗能力
作者:
Zhenxing Han
;
Berthold Ferstl
;
Guenter Oetter
;
Uwe Dietze
;
Martin Samayoa
;
Davide Dattilo
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
EUVL;
193i lithography;
mask cleaning;
megasonic cleaning;
pattern damage;
particle removal;
8.
The future of 2D metrology for display manufacturing
机译:
显示器制造的2D计量学的未来
作者:
Tor Sandstrom
;
Mikael Wahlsten
;
Youngjin Park
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
FPD;
TFT;
AMOLED;
backplane;
placement;
overlay;
9.
Control the Light Where You Need It; New Development in Accurate Delivery of Visible Laser Light
机译:
在需要的地方控制灯光;准确交付可见激光的新发展
作者:
Douwe Geuzebroek
;
Joost van Kerkhof
;
Arne Leinse
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
10.
Illumination pupil optimization in 0.33NA EUVL by intensity balancing for semi-iso dark field two-bar Ml building blocks
机译:
通过强度平衡在0.33NA EUVL中对半等暗场两栏Ml构件进行光瞳优化
作者:
T. Last
;
L. de Winter
;
P. van Adrichem
;
J. Finders
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
EUV Lithography;
Mask 3D Effects;
SMO;
Source Optimization;
EUV Mask Absorber Optimization;
11.
Anamorphic Imaging at High-NA EUV: Mask Error Factor and interaction between demagnification and lithographic metrics
机译:
高NA EUV的变形成像:掩模误差因子以及缩小率和光刻指标之间的相互作用
作者:
Gerardo Bottiglieri
;
Thorsten Last
;
Alberto Colina
;
Eelco van Setten
;
Gijsbert Rispens
;
Jan van Schoot
;
Koen van Ingen Schenau
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
EUV Lithography;
High-NA;
Anamorphic;
Imaging;
Mask Error Factor;
Mask 3D Effects;
12.
High performance gratings for DFB-lasers fabricated by direct-write e-beam lithography
机译:
通过直接写入电子束光刻技术制造的用于DFB激光器的高性能光栅
作者:
R. Steingrueber
;
Z. Zhang
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
Direct-write e-beam lithography;
gratings;
DFB laser;
13.
Photonic Integrated Circuits: New Challenges for Lithography
机译:
光子集成电路:光刻技术的新挑战
作者:
Jens Bolten
;
Thorsten Wahlbrink
;
Andreas Prinzen
;
Caroline Porschatis
;
Holger Lerch
;
Anna Lena Giesecke
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
More than Moore;
Photonics Integrated Circuits;
PIC;
Lithography;
Silicon Photonics;
Silicon Nitride Photonics;
14.
Nanoimprint System Development and Status for High Volume Semiconductor Manufacturing
机译:
纳米压印系统的开发和大批量半导体制造的现状
作者:
Hiromi Hiura
;
Yukio Takabayashi
;
Tsuneo Takashima
;
Keiji Emoto
;
Jin Choi
;
Phil Schumaker
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
nanoimprint lithography;
cost of ownership;
overlay;
throughput;
defectivity;
particle control;
image placement accuracy;
mask replication;
15.
SCIL Nanoimprint Solutions; high volume soft NIL for wafer scale sub-10nm resolution
机译:
SCIL纳米压印解决方案;适用于10nm以下晶片级的高容量软NIL
作者:
R. Voorkamp
;
M.A. Verschuuren
;
R. van Brakel
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
16.
Enhancing EUV mask blanks usability through smart shift and blank-design pairing optimization
机译:
通过智能转换和空白设计配对优化来提高EUV掩模空白的可用性
作者:
Rakesh Kumar Soni
;
Sankaranarayanan Paninjath
;
Mark Pereira
;
Peter Buck
;
Peter Thwaite
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
Extreme Ultraviolet Lithography;
EUV Defect Avoidance;
Pattern Shift;
Smart Shift;
Blank-Design Pairing Optimizer;
Mask Shops;
Mask Blank Manufacturers;
17.
Translation of lithography variability into after-etch performance: monitoring of 'golden' hotspot
机译:
将光刻可变性转换为蚀刻后性能:监视“黄金”热点
作者:
Jo Finders
;
Ton Kiers
;
Bertrand Le Gratiet
;
Amine Lakcher
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
18.
Smart mask ship to control for enhanced on wafer CD performance
机译:
智能光罩可以控制晶片CD的性能
作者:
Clemens Utzny
;
Karl Schumacher
;
Rolf Seltmann
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
19.
CHAM: Weak signals detection through a new multivariate algorithm for process control
机译:
CHAM:通过用于过程控制的新多元算法检测弱信号
作者:
Francois Bergeret
;
Carole Soual
;
B. Le Gratiet
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
20.
SRAF insertion for VIA-like layers using laSRAF method
机译:
使用laSRAF方法将SRAF插入类VIA层
作者:
Andrey Lutich
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
SRAF;
model-based SRAF;
RET;
OPC;
Process Window Optimization;
Sub-Resolution Assist Features;
21.
Researching new EUV pellicle films for source powers beyond 250 watts
机译:
研究新的EUV薄膜薄膜以提供超过250瓦的源功率
作者:
Maxim Nasalevich
;
Pieter Jan van Zwol
;
Erik Abegg
;
Pim Voorthuijzen
;
David Vles
;
Maria Peter
;
Wim van der Zande
;
Hans Vermeulen
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
22.
Critical Dimension Uniformity characterization of nanoimprinted trenches for high volume manufacturing qualification
机译:
纳米压印沟槽的临界尺寸均匀性表征,可实现大批量生产
作者:
H. Teyssedre
;
S. Landis
;
C. Thanner
;
V. Schauer
;
M. Laure
;
W. Zorbach
;
L. Pain
;
S. Bos
;
M. Eibelhuber
;
M. Wimplinger
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
CDU;
Smart NIL;
UV-NIL;
high volume manufacturing;
23.
Bayesian Analysis for OPC Modeling with Film Stack Properties and Posterior Predictive Checking
机译:
具有薄膜叠层特性和后验预测的OPC建模的贝叶斯分析
作者:
Andrew Burbine
;
Germain Fenger
;
John Sturtevant
;
David Fryer
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
OPC modeling;
Bayesian analysis;
uncertainty;
24.
A study of SU-8 photoresist in deep trenches for silicon-embedded microinductors
机译:
SU-8光刻胶在深沟槽中的应用
作者:
Elias Laforge
;
Caroline Rabot
;
Ningning Wang
;
Zoran Pavlovic
;
Paul McCloskey
;
Cian OMathuna
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
3D integration;
trenches;
TSV;
microinductors;
SU-8;
MEMS;
25.
Industrial implementation of spatial variability control by real time SPC
机译:
实时SPC在工业上实现空间可变性控制
作者:
O. Roule
;
F. Pasqualini
;
M. Borde
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
Advanced Process Control;
Statistical Process Control;
Intra-wafer dispersion;
Wafer profile;
Shape control;
surface reconstruction;
26.
Combination of direct laser writing and soft lithography molds for combined nano- and microfabrication
机译:
直接激光写入和软光刻模具的组合,用于纳米和微加工的组合
作者:
M. Rumler
;
M. Kollmuss
;
L. Baier
;
F. Michel
;
M. Foerthner
;
M. Becker
;
M. Rommel
;
L. Frey
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
direct laser writing;
nanoimprint lithography;
soft lithography;
hierarchical structures;
hybrid polymer;
PDMS;
27.
CD process control through machine learning
机译:
通过机器学习进行CD过程控制
作者:
Clemens Utzny
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
关键词:
critical dimensions (CD);
CD uniformity (CDU);
Advanced Mask Technology Center (AMTC);
machine learning;
advanced process control;
run to run control;
recursive partitioning;
28.
Foreword
机译:
前言
作者:
Uwe F.W. Behringer
会议名称:
《European mask and lithography conference》
|
2016年
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