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Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore
Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore
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1.
Corner Rounding and Line-end Shortening in Optical Lithography
机译:
光学光刻中的圆角修圆和线端缩短
作者:
Chris A. Mack
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
2.
Fabrication of diffractive micro-optical lens for integration with optoelectronic devices by direct laser writing
机译:
通过直接激光写入制造用于与光电器件集成的衍射微光学透镜
作者:
C. Wang
;
Y. C. Chan
;
Y. L. Lam
;
L. P. Zhao
;
Y. Zhou
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
diffractive micro-optical lens;
direct laser writing;
computer control program;
3.
Low voltage e-beam irradiation: a new tool for microlithography technology
机译:
低压电子束辐照:微光刻技术的新工具
作者:
Vladimir Kudryashov
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
E-beam lithography;
Low-energy electrons;
resist structure profile;
CAR;
photo resist;
AZPN114;
AZPF514;
4.
Simulation of resolution enhancement in contact lithography by off-axis illumination
机译:
离轴照明模拟提高接触光刻的分辨率
作者:
Yongkai Zhao
;
Huijie Huang
;
Dunwu Lu
;
Longlong Du
;
Cailai Yuan
;
Baocai Jiang
;
Runwen Wang
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
excimer laser lithography contact lithography resolution enhancement;
off-axis illumination;
5.
Tools and Processes for MEMS and Nanotechnology
机译:
MEMS和纳米技术的工具和过程
作者:
P D Prewett
;
S E Huq
;
M C Ward
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
MEMS;
nanotechnology;
lithography;
LIGA;
vacuum microelectronics;
6.
Study on Patternable Hybrid Sol-Gel Glass
机译:
图案化杂化溶胶-凝胶玻璃的研究
作者:
Hongjin Jiang
;
Xiaocong Yuan
;
Yuen-Chuen Chan
;
Yee-Loy Lam
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
Hybrid sol-gel glass;
synthesis and characterization;
ultraviolet imprinting;
diffractive optical elements;
7.
Investigation of Hardmask/BARC Materials for 157nm Lithography
机译:
用于157nm光刻的Hardmask / BARC材料的研究
作者:
Won D. Kim
;
Daniel A. Miller
;
Hyeong S. Kim
;
Jeffrey D. Byers
;
Mike Daniels
;
Britton Birmingham
;
James Tompkins
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
157nm;
hardmask;
BARC (bottom anti reflective coating);
optical constants;
n (index of refraction);
k (extinction coefficient);
VASE (variable angle spectroscopic ellipsometry);
VUV-VASE (vacuum ultra violet-variable angle spectroscopic ellipsometry);
RBS;
8.
Investigation of Process Latitude in E-beam Lithography for Positive CAR UVIII using novel volumetric linewidth measurement
机译:
使用新型体积线宽测量技术研究正车UVIII的电子束光刻工艺中的纬度
作者:
V.A.Kudryashov
;
P.D.Prewett
;
A.G.Michette
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
E-beam lithography;
process latitude;
resists;
metrology;
linewidth measuring;
chemically amplified resists;
VUIII;
9.
Effect of Electrostatic Field on Photoresist Coating Uniformity
机译:
静电场对光刻胶涂层均匀性的影响
作者:
Zhou Wenzhan
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
photoresist;
spin-coat;
uniformity;
piezoelectrical;
electric-static field;
10.
Ion Projection Lithography: Nov00 Status and sub-70nm Prospects
机译:
离子投影光刻:Nov00的现状和70nm以下的前景
作者:
Rainer Kaesmaier
;
Andreas Wolter
;
Hans Loeschner
;
Stefan Schunck
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
ion beam lithography;
projection lithography;
ion-optics;
IPL;
stencil mask;
vacuum wafer stage;
pattern lock;
split software;
resist process;
11.
Measurement and Analysis of Reticle and Wafer Level Contributions to Total CD Variation
机译:
标线和晶圆水平对总CD变化的贡献的测量和分析
作者:
Moshe Preil
;
Chris A. Mack
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
lithography simulation;
optical lithography;
reticle CD control;
12.
New Event-Based Methodology to Improve Photolithography Productivity
机译:
基于事件的新方法可提高光刻生产率
作者:
Simon Chang
;
Mark A. Boehm
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
productivity;
throughput;
event logs;
13.
Minimum-Time Optimal Feedforward Control of Conductive Heating Systems for Microelectronics Processing of Silicon Wafers and Quatz Photomasks
机译:
硅晶片和Quatz光掩模微电子加工的导电加热系统的最小时间最优前馈控制
作者:
Weng Khuen Ho
;
Arthur Tay
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
process control;
temperature control;
optimal control;
semiconductor manufacturing;
14.
Optimization of the planarizing performance of a DUV organic Bottom Anti-Reflective Coating for via first Dual Damascene process: Cooperation to achieve material and process characterization
机译:
通过第一个双镶嵌工艺优化DUV有机底部抗反射涂层的平面化性能:实现材料和工艺表征的合作
作者:
Paul Williams
;
Alice Martin
;
Marlene Stroble
;
Bill Roberts
;
Frank Goodwin
;
Lars Voelkel
;
Axel Feicke
;
Sean Trautman
;
Jim Lamb III
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
BARC;
planarizing;
dual damascene;
via first;
interconnect;
15.
A new '2D to 3D' x-ray lithography technology for grey scale structures
机译:
用于灰度结构的新型“ 2D到3D” x射线光刻技术
作者:
V.A.Kudryashov
;
Sing Lee
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
X-ray lithography;
gray scale lithography;
3D structures;
resists;
chemically amplified resists;
VUIII;
AZPN114;
16.
Overview of Reticle Enhancement Technology Software Strategy
机译:
十字线增强技术软件策略概述
作者:
Alfred J. Reich
;
R. D. Jarvis
;
Steve Talent
;
Renee Carter
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
optical proximity correction;
optical effects;
phase shift mask;
reticle enhancement technology;
OPC;
PSM;
RET;
17.
Progress of Excimer Laser Technologies
机译:
准分子激光技术的进展
作者:
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
18.
200/300 mm Micrascan IV 248nm System for High Throughput Tight CD Control Applications
机译:
200/300 mm Micrascan IV 248nm系统,用于高通量和紧密CD控制应用
作者:
P. Govil
;
J. Sumra
;
J. Tsacoyeanes
;
K. Andresen
;
B. Domfeld
;
M. ―C. Zolcinski-Coueet
;
P. Baumgartner
;
G. O Connor
;
Z. Gyarfas
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
optical lithography;
dose compensation;
micrascan IV;
coherence compensation;
CD control;
throughput;
19.
Low-kl imaging: how low can we go?
机译:
低kl成像:我们能走多低?
作者:
Jo Finders
;
Mark Eurlings
;
Koen Van Ingen Schenau
;
Mircea Dusa
;
Peter Jenkins
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
low-kl lithography;
dipole;
alternating PSM;
20.
Linewidth Control Performance Enhancement using Novel Compensation Techniques for DUV Scanners
机译:
使用新型补偿技术的DUV扫描仪提高线宽控制性能
作者:
James Tsacoyeanes
;
Pradeep Govil
;
J. Christian Swindal
;
Keith Andresen
;
Javed Sumra
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
21.
Dense Plasma Focus radiation source for microlithography micro-machining
机译:
用于微光刻和微加工的密集等离子聚焦辐射源
作者:
Vladimir A. Gribkov
;
Liu Mahe
;
Paul Lee
;
Sing Lee
;
Ashutosh Srivastava
会议名称:
《Conference on Microlithographic Techniques in Integrated Circuit Fabrication II, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
X-ray source;
micro-machining;
dense plasma focus;
Ar-gas filling;
pinch;
hot spots;
heavy shell compression;
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