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1.
Study on High-side LDMOS energy capability Improvement
机译:
高端LDMOS能量提高的研究
作者:
Yun-Jung Lin
;
Shao-Ming Yang
;
Ting Yao Chien
;
Ching-Yuan Wu
;
Aanand
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Electric fields;
Switches;
MOSFET;
Electric breakdown;
Reliability;
Optimization;
Resistance;
2.
Contactless device for the fast conductivity characterization of a large range semiconductors
机译:
非接触式器件,用于快速表征大范围半导体
作者:
F. Loete
;
Y. Le Bihan
;
D. Mencaraglia
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Conductivity;
Semiconductor device measurement;
Transmission line measurements;
Conductivity measurement;
Frequency measurement;
Impedance;
Eddy currents;
3.
Investigation into behavior of mobile ions in storage device using ToF-SIMS
机译:
使用ToF-SIMS研究存储设备中移动离子的行为
作者:
Nobuhito Kuge
;
Kei Kiyokawa
;
Megumi Kon
;
Tatsuo Izumi
;
Shinobu Ishimaru
;
Hideto Onuma
;
Makiko Tamaoki
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Ions;
Mobile communication;
Three-dimensional displays;
Contamination;
Silicon compounds;
Silicon;
Temperature distribution;
4.
EEPROM retention performance modulation by poly Si grain size dopant distribution
机译:
通过多晶硅粒径和掺杂剂分布来调节EEPROM的保留性能
作者:
Guai Guan Hong
;
Zheng Ke
;
Tang Pey Chyi
;
Li Yongan
;
Zhou Min
;
Royston Hogan
;
Chandrasekar Venkataramani
;
Pak Koesun
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Silicon;
EPROM;
Nonvolatile memory;
Degradation;
Reliability;
Logic gates;
Grain size;
5.
Challenges for immersion lithography extension based on negative tone imaging (NTI) process
机译:
基于负色调成像(NTI)工艺的浸没式光刻扩展面临的挑战
作者:
Toru Fujimori
;
Michihiro Shirakawa
;
Tadashi Omatsu
;
Keiyu Ou
;
Yasunori Yoneyama
;
Naoya Hatakeyama
;
Daisuke Asakawa
;
Takashi Yakushiji
;
Mitsuhiro Fujita
;
Nanae Muraki
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Etching;
Resists;
Lithography;
Solvents;
Imaging;
Resistance;
Optical filters;
6.
Factory Integration fosus area in the IRDS
机译:
BIRDS中的工厂整合重点领域
作者:
Supika Mashiro
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Production facilities;
Yield estimation;
Lithography;
Metrology;
Big Data;
Safety;
7.
Monitoring method for deposited film causing particles in mass-production plasma etching process using a load impedance monitoring system
机译:
使用负载阻抗监测系统的用于在大规模生产的等离子蚀刻工艺中监测沉积膜引起颗粒的方法
作者:
Yuji Kasashima
;
Fumihiko Uesugi
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Impedance;
Etching;
Monitoring;
Plasmas;
Electrodes;
Discharges (electric);
Radio frequency;
8.
Study for phosphorus contamination to high voltage transistors
机译:
研究高压晶体管中的磷污染
作者:
Li Liang
;
Luo Qiong
;
Wu Zeng Yuan
;
Tan Yun Ling
;
See Alex
;
Chua Soo Cheng
;
Troy Zhu
;
Cheng Chor Shu
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Phosphorus;
Silicon;
Cleaning;
Furnaces;
Monitoring;
Threshold voltage;
Surface treatment;
9.
The effect of slurry pH and particle size on LiTaO3 polishing
机译:
浆料pH值和粒度对LiTaO3抛光的影响
作者:
Kazuki Moriyama
;
Akira Ozeki
;
Shinichi Haba
;
Matsunori Mori
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Slurries;
Abrasives;
Silicon compounds;
Recycling;
Atmosphere;
Thermal stability;
Stability analysis;
10.
Data mining approaches to optimize the allocation of production resources in semiconductor wafer fabrication
机译:
数据挖掘方法可优化半导体晶圆制造中生产资源的分配
作者:
Chih-Min Yu
;
Chung-Jen Kuo
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Tools;
Data mining;
Resource management;
Loading;
Fabrication;
Companies;
11.
Distributed database and application architecture for big data solutions
机译:
适用于大数据解决方案的分布式数据库和应用程序体系结构
作者:
Makoto Misaki
;
Tomio Tsuda
;
Shinji Inoue
;
Shintaro Sato
;
Akihiro Kayahara
;
Shin-ichi Imai
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Servers;
Distributed databases;
Manufacturing;
Delays;
Writing;
Big Data;
Real-time systems;
12.
Visualization technique of maintenance work with a motion capture sensor
机译:
运动捕捉传感器的维护工作的可视化技术
作者:
Munehito Kagaya
;
Satoshi Tanaka
;
Hidefumi Matsui
;
Tsuyoshi Moriya
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Maintenance engineering;
Particle measurements;
Fluctuations;
Atmospheric measurements;
Motion measurement;
Optical imaging;
Optical sensors;
13.
Automatic property visualization for material survey support
机译:
自动属性可视化,以支持物料调查
作者:
Masayuki Okamoto
;
Yuichi Miyamura
;
Ayana Yamamoto
;
Shuichi Toriyama
;
Kentaro Takagi
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Visualization;
Data mining;
Photonic band gap;
Information retrieval;
Electron mobility;
Optical character recognition software;
Zinc oxide;
14.
Simultaneous assignments of multiple types of production resources in semiconductor manufacturing
机译:
在半导体制造中同时分配多种生产资源
作者:
Sumika Arima
;
Hiroyuki Motomiya
;
Yutaka Akiyama
;
Huizhen Bu
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Resource management;
Fixtures;
Loading;
Hardware;
Manufacturing;
Optimization;
15.
Layout-based test coverage verification for high-reliability devices
机译:
用于高可靠性设备的基于布局的测试覆盖率验证
作者:
Yoshikazu Nagamura
;
Kenji Shiozawa
;
Tom Koyama
;
Jun Matsushima
;
Kazuhiro Tomonaga
;
Yutaka Hoshi
;
Shuji Nomura
;
Masayuki Arai
;
Kazuhiko Iwasaki
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Wires;
Large scale integration;
Layout;
Circuit faults;
Logic circuits;
Tools;
16.
Improvement of particle generation in a dry etching apparatus - tetsuyuki matsumoto
机译:
改进干法蚀刻设备中的颗粒生成-松本哲之(Tetsuyuki Matsumoto)
作者:
Makoto Saito
;
Rikyu Ikariyama
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Films;
Surface treatment;
Rough surfaces;
Surface roughness;
Atmospheric measurements;
Particle measurements;
Plasmas;
17.
Advanced Fault Detection Method for Chemical Mechanical Polisher
机译:
化学机械抛光机的高级故障检测方法
作者:
Yohei Hamaguchi
;
Tetsuya Tayama
;
Hajime Suzuki
;
Shinji Nakaguma
;
Hidehiko Kawaguchi
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Torque;
Current measurement;
Mathematical model;
Fault detection;
Monitoring;
Image edge detection;
Standards;
18.
Optimizing the Critical Dimension of the STI etch process by integrating inline scatterometry measurements and Feedback R2R control
机译:
通过集成在线散射测量和反馈R2R控制来优化STI蚀刻工艺的关键尺寸
作者:
Maria Rizquez
;
Agnes Roussy
;
Dennis Pompier
;
Jacques Pinaton
;
Julien Pasquet
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Etching;
Process control;
Plasmas;
Metrology;
Mathematical model;
Radar measurements;
Lithography;
19.
Process Optimizer for adjusting film thickness and in-film dopant concentration at the same time
机译:
用于同时调节薄膜厚度和薄膜内掺杂剂浓度的过程优化器
作者:
Yuichi Takenaga
;
Takahito Kasai
;
Katsuhiko Komori
;
Hiroyuki Hayashi
;
Satoru Ogawa
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Optimization;
Semiconductor device modeling;
Process control;
Temperature measurement;
Monitoring;
Tuning;
Mathematical model;
20.
Fab labor productivity improvement through a combined modeling approach
机译:
通过组合建模方法提高工厂劳动生产率
作者:
Marino Arturo
;
Ariel Meyuhas
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Tools;
Productivity;
Floors;
Personnel;
Time-frequency analysis;
Load modeling;
Inspection;
21.
Metrologies of abrasive behaviors for understanding and upgrading CMP process
机译:
磨料行为的度量用于了解和升级CMP工艺
作者:
Shohei Shima
;
Satomi Hamada
;
Yutaka Wada
;
Chikako Takatoh
;
Akira Fukunaga
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Silicon compounds;
Force;
Fluorescence;
Force measurement;
Atmospheric measurements;
Particle measurements;
Brushes;
22.
Particle removal efficiency evaluation of filters in IPA
机译:
IPA中过滤器的颗粒去除效率评估
作者:
Tomoyuki Takakura
;
Shuichi Tsuzuki
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Gold;
Chemicals;
Effluents;
Cleaning;
Springs;
Surface treatment;
Semiconductor devices;
23.
Improving process tool productivity by correct sealing material selection for plasma processes
机译:
通过为等离子工艺选择正确的密封材料来提高工艺工具的生产率
作者:
Murat Gulcur
;
Knut Beekmann
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Plasmas;
Seals;
Polymers;
Resistance;
Chemistry;
Surface contamination;
24.
High-temperature-resistant interconnection by using Nickel Nano-particles for power devices packaging
机译:
镍纳米颗粒用于功率器件包装的耐高温互连
作者:
Tomonori Iizuka
;
Yasunori Tanaka
;
Kazuhito Kamei
;
Masakazu Inagaki
;
Norihiro Murakawa
;
Kohei Tatsumi
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Bonding;
Nickel;
Silicon carbide;
Nanoparticles;
Packaging;
Atmosphere;
Oxidation;
25.
Enhanced contamination control methods in advanced wafer processing
机译:
先进晶圆加工中增强的污染控制方法
作者:
Markus Pfeffer
;
Helene Richter
;
Roswitha Altmann
;
Andreas Leibold
;
Anton Bauer
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Manufacturing;
Surface contamination;
Metals;
Surface treatment;
Corrosion;
Process control;
26.
STI Si damage defect reduction by HDP profile optimizations
机译:
通过HDP轮廓优化减少STI Si损伤缺陷
作者:
Shinya Ito
;
Mamoru Ohzeki
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Silicon;
Sputtering;
Ions;
Resists;
Strips;
Optimization;
Process control;
27.
Plasma erosion behavior of yttrium oxide film formed by aerosol deposition method
机译:
气溶胶沉积法形成氧化钇膜的等离子体腐蚀行为
作者:
Hiroaki Ashizawa
;
Masakatsu Kiyohara
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Plasmas;
Etching;
Rough surfaces;
Surface roughness;
Ceramics;
Aerosols;
Nanostructures;
28.
STI HDP process effect on yield of embedded memory processes
机译:
STI HDP工艺对嵌入式存储器工艺产量的影响
作者:
Lim Dau Fatt
;
Yang Yue
;
Guai Guan Hong
;
Tang Pey Chyi
;
Goh Tat Kean
;
Lin Tao
;
Chandrasekar Venkataramani
;
Pak Koesun
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Silicon;
Hydrogen;
Plasmas;
Nonvolatile memory;
Transistors;
Degradation;
System-on-chip;
29.
Development of an energy-saving controller for sub apparatus
机译:
开发用于子设备的节能控制器
作者:
Toshiya Ozaki
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Energy consumption;
Manufacturing;
Production facilities;
Plasma density;
Productivity;
Timing;
30.
Next generation FDC: Dynamic full trace fault detection
机译:
下一代FDC:动态全跟踪故障检测
作者:
Tom Ho
;
Gabe Villareal
;
Weidong Wang
;
Craig Hall
;
Eric McCormick
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Fault detection;
Adaptation models;
Process control;
Monitoring;
Manufacturing processes;
Systematics;
Temperature control;
31.
Self-adjusting boron nitride mask for Reactive-Ion Etching
机译:
自调节氮化硼掩模,用于反应离子刻蚀
作者:
Konrad Schwanitz
;
Marco Langenschwarz
;
Otto Fricke
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Etching;
Boron;
Silicon nitride;
Ceramics;
Optical imaging;
Fluorine;
32.
Electrical characterisation of metal contacts to 4H-SiC enhanced by pre-metalisation surface treatment
机译:
通过预金属化表面处理增强了金属与4H-SiC的电接触特性
作者:
Stanley Luong
;
Mohammad Alnassar
;
Cao Dao
;
DeMingZhu
;
James Wang
;
Anthony Holland
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Rough surfaces;
Surface roughness;
Carbon;
Contacts;
Sea surface;
Etching;
33.
ASML: A decade of big data use
机译:
ASML:大数据使用十年
作者:
Rogier Kuijpers
;
Trey Roper
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Tools;
Data collection;
Software;
Manuals;
Standards;
Monitoring;
Complexity theory;
34.
A comprehensive “big-data-based” monitoring system for yield enhancement in semiconductor man ufacturing
机译:
全面的“基于大数据”的监控系统,可提高半导体制造的良率
作者:
Kouta Nakata
;
Ryohei Orihara
;
Yoshiaki Mizuoka
;
Kentaro Takagi
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Monitoring;
Manufacturing;
Data mining;
Yield estimation;
History;
Object recognition;
Machine learning;
35.
Unstructured data treatment for big data solutions
机译:
大数据解决方案的非结构化数据处理
作者:
Shintaro Sato
;
Akihiro Kayahara
;
Shin-ichi Imai
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Manufacturing;
Support vector machines;
Feature extraction;
Data analysis;
Text analysis;
Big Data;
Speech;
36.
Generalized Overall Equipment Effectiveness for integrated scheduling and process control
机译:
集成计划和过程控制的通用总体设备效率
作者:
Yu-Ting Kao
;
Shi-Chung Chang
;
Jakey Blue
;
Stéphane Dauzère-Pérès
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Tools;
Production;
Process control;
Temperature measurement;
Schedules;
Resource management;
Standards;
37.
Dynamic cycle-time improvement through big data analytics
机译:
通过大数据分析动态改善周期时间
作者:
Chih Ming Chan
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Tools;
Big Data;
Market research;
Production control;
Dispatching;
38.
Optimal production and capacity planning for Make-to-order type semiconductor production systems
机译:
按订单生产的半导体生产系统的最佳生产和产能计划
作者:
Sumika Arima
;
Huizhen Bu
;
Yujia Ye
;
Kota Kitamoto
;
Keishi Shimada
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Loading;
Capacity planning;
Resource management;
Production systems;
Manufacturing;
Semiconductor device modeling;
39.
New method of screening out outlier; expanded PAT during package level test
机译:
筛选异常值的新方法;封装级别测试期间扩展了PAT
作者:
Tadashi Sakamoto
;
Kazunori Yofu
;
Takashi Kyuho
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Testing;
Stress;
Automotive engineering;
Performance evaluation;
Semiconductor devices;
Databases;
Correlation;
40.
Investigation of plasma-induced damage in silicon trench etching
机译:
硅沟槽刻蚀中等离子体诱导的损伤研究
作者:
Shuichi Kuboi
;
Masashi Yamage
;
Satoshi Ishikawa
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Silicon;
Dark current;
Plasmas;
Etching;
Ions;
Plasma measurements;
Current measurement;
41.
Flash gate optimized process and integration for electrical performances requirement on advanced embedded memory
机译:
闪存门经过优化的过程和集成,可满足高级嵌入式存储器对电气性能的要求
作者:
El Amine Agharben
;
M. Bileci
;
A. Roussy
;
M. Bocquet
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Logic gates;
Performance evaluation;
Process control;
Transistors;
Reliability;
Etching;
Flash memories;
42.
Exploit the value of production data to discover opportunities for saving power consumption by production tools
机译:
利用生产数据的价值,发现通过生产工具节省功耗的机会
作者:
Chih-Min Yu
;
Chung-Jen Kuo
;
Ching-Thiam Chung
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Tools;
Artificial neural networks;
Power demand;
Data mining;
Production;
43.
A theoretical modeling of CMP: A Monte-Carlo approach
机译:
CMP的理论模型:蒙特卡洛方法
作者:
Akira Endou
;
Tomohiko Akatsuka
;
Kazumi Sugai
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Abrasives;
Silicon;
Films;
Chemicals;
Silicon compounds;
Adsorption;
Oxidation;
44.
Development of CMP slurry for FEOL process
机译:
开发用于FEOL工艺的CMP浆料
作者:
Yasuyuki Yamato
;
Tatsuhiko Hirano
;
Kazumi Sugai
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
|
2016年
关键词:
Slurries;
Silicon nitride;
Silicon;
Abrasives;
Additives;
Erbium;
45.
Analysis method of metal contamination for the isopropyl alcohol (IPA)
机译:
异丙醇(IPA)金属污染的分析方法
作者:
Kazuya Dobashi
;
Misako Saito
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
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2016年
关键词:
Iron;
Impurities;
Optical filters;
Silicon;
Resins;
Surface treatment;
Inspection;
46.
Particle adsorption onto Si wafers in ultrapure water; its mechanism and effect of carbon dioxide
机译:
在超纯水中颗粒吸附到硅片上;二氧化碳的作用机理
作者:
Koji Nakata
;
Takeo Fukui
;
Tatsuo Nagai
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
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2016年
关键词:
Adsorption;
Silicon;
Semiconductor device modeling;
Mathematical model;
Impurities;
Velocity control;
Cleaning;
47.
Revitalizing the 200mm fabs through automation
机译:
通过自动化重振200mm晶圆厂
作者:
Chih Ming Chan
;
Ah Choi Yap
;
Roy Lam
会议名称:
《2016 International Symposium on Semiconductor Manufacturing》
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2016年
关键词:
Automation;
Tools;
Transportation;
Productivity;
Mobile robots;
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