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Decharges magnetron reactives pulsees a basse frequence

机译:低频脉冲反应磁控管放电

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摘要

La pulverisation cathodique magnetron en condition reactive est une technique puissante de synthese de revetements ceramiques qui presente cependant frequemment une instabilite du regime de pulverisation impliquuant la chute brutale de la vitesse de depot du revetement stoechiometrique. Differentes methodes fleurissent dans la litterature pour prevenir les effets indesirables de cette instabilite.
机译:在反应条件下的磁控管阴极溅射是合成陶瓷涂层的有力技术,然而,该方法经常会导致溅射方案的不稳定性,包括化学计量涂层沉积速率的突然下降。为了防止这种不稳定的不良影响,文献中出现了各种方法。

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