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Analyse spectroscopique de I'erosion de ceramiques par magnetron RF

机译:磁控管射频对陶瓷腐蚀的光谱分析

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摘要

Cet article presente le travail effecture pour controler la pulverisation de ceramiques a l'aide d'une technique de spectroscopie d'emission optique. La detection de l'erosion d'echantillons de BN-SiO_2 a ete analysee dans une decharge magnetron RF fonctionnant dans l'argon. Des raies typiques d'erosion ont ete detectees dans les domaines de l'U. V et du V. U. V. La variation de l'intensite de ces raies, don't des raies de radicaux moleculaires, a ete etudiee en fonction du temps pour une decharge pulsee et en fonction de la puissance RF injectee dans le plasma.
机译:本文介绍了使用光发射光谱技术控制陶瓷喷涂的工作。在氩气中操作的氩气射频放电中分析了BN-SiO_2样品腐蚀的检测。在U域中已经检测到典型的侵蚀线。 V和V.V. V.研究了这些线(包括分子自由基线)的强度变化,该变化是脉冲放电时间的函数以及注入等离子体的RF功率的函数。

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