Ionenstrahlpolieren von feinoptischen Substraten

摘要

Die steigenden Anforderungen an die Polierfehlerkorrektur in der Optikindustrie führen zur Entwicklung von innovativen Anlagenkonzepten, die den hohen Standards gerecht werden und gleichzeitig effektive Durchsatzraten gewhrleisten.Die Autoren dieses Artikels prsentieren ein fortschrittliches neues Anlagensystem für den kommerziellen Optikmarkt, welches anlagentechnische Neuerungen mit einem ausgefeilten Prozessfluss verbindet. Einsparungen von unnötigen mechanischen Komponenten, der Einsatz einer Doppelschleuse und ein modifizierbarer Strahldurchmesser führen zu einer Bearbeitungsgenauigkeit besser als λ/50. Das Anlagensystem eignet sich für diverse Materialien in der Herstellung von optischen Bauteilen mit sphrischen und asphrischen Konturen sowie jeglichen Freiformflchen und ist mit einer eigens dafür entwickelten Software ausgestattet. [1]Ion Beam Polishing of Optical ComponentsThe rising quality demands in the production and refinement of optical components continuously lead to the development of innovative equipment, which meets the high standards and guarantees an efficient throughput at the same time. The authors of this article present a new process system for the commercial manufacture of optical components, combining new technology with an optimized process flow. A reduction in dispensable mechanical components as well as the use of a double load-lock and the ability to individually adjust the parameters leads to process accuracy better than λ/50. The process system is suitable for diverse materials used in the manufacture of spheres, aspheres and free form samples and employs a specifically developed software.