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机译:拉曼光谱分析对厚热线氢浓度和微观结构的反射分析A-Si:H薄膜掺杂为晶体层的前体层
Forschungszentrum Julich IEK5 Photovoltaik Wilhelm Johnen Str D-52428 Julich Germany;
Forschungszentrum Julich IEK5 Photovoltaik Wilhelm Johnen Str D-52428 Julich Germany|Ningbo Inst Ind Technol CNITECH 1219 Zhongguan West Rd Ningbo Peoples R China;
TH Koln CIRE Claudiusstr 1 D-50768 Cologne Germany;
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Hydrogenated amorphous silicon; hydrogen concentration; medium range order; microstructure; Raman spectroscopy; liquid phase crystallization;
机译:结晶的监测以及沉积速率,氢含量和退火工艺对热丝化学气相沉积氢化非晶硅(a-si:h)薄膜结晶的影响
机译:热线化学气相沉积a-Si:H膜的快速热退火:膜中氢含量对结晶动力学,表面形态和晶粒生长的影响
机译:由Cat-CVD a-Si膜形成的高氢浓度的闪光灯结晶多晶硅膜
机译:使用热线化学气相沉积在玻璃上生长的本征和激光退火n型硅膜的拉曼分析
机译:氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜的低能电动力学。
机译:氢等离子体诱导的μm厚a-Si:H薄膜的快速低温结晶
机译:氢化非晶硅,a-Si(H)中光谱范围的光谱检测:在光电子学,薄膜晶体管和硅基微电子学中的应用
机译:衬底温度和氢稀释比对热线化学气相沉积法生长纳米硅薄膜性能的影响