机译:绝缘体上硅锗衬底上的应变硅层中的应变松弛过程
Assoc Super Adv Elect Technol, MIRAI Project, Saiwai Ku, Kawasaki, Kanagawa 2128582, Japan;
Toshiba Ceram Co Ltd, Niigata 9570197, Japan;
Natl Inst Adv Ind Sci & Technol, MIRAI Project, Tsukuba, Ibaraki 3058569, Japan;
silicon; tensile strain; relaxation; SiGe; HIGH-GE FRACTION; MISFIT DISLOCATIONS; FABRICATION; ULTRATHIN; DEFECTS;
机译:绝缘体上硅锗衬底上的应变硅层中的应变弛豫
机译:台面隔离后,绝缘体上SiGe(SGOI)结构上的应变硅层的应变弛豫
机译:绝缘子上硅锗衬底上的应变硅层中的失配应变松弛
机译:绝缘体上硅锗衬底上的应变硅层中的应变弛豫
机译:纳米厚的铜和铜合金薄膜与刚性基板结合时的应变松弛。
机译:应变松弛对在具有溅射AlN成核层的4英寸蓝宝石衬底上生长的InGaN / GaN绿色LED的性能的影响
机译:评论“使用Si +离子预注入到Si衬底上以增强GexSi1-x变质缓冲层的应变弛豫,以便在Si衬底上生长Ge层” Appl Phys Lett 90,083507(2007)