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【24h】

Croissance et propriétés structurales de couches minces épitaxiales de Pb(Zr_xTi_(1-x))O_3 et d'hétéro-structures Pb(Zr_xTi_(1-x))O_3 -oxydes métalliques

机译:Pb(Zr_xTi_(1-x))O_3和异质结构Pb(Zr_xTi_(1-x))O_3-金属氧化物外延薄层的生长和结构特性

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摘要

We report on the growth of epitaxial structures composed of Bb(Zr, Ti)O_3, a ferro-electric oxide, and different related conducting oxides. The epitaxial PZT films were growth by off-axis radio-frequency sputtering on SrTiO_3 substrates, as were the SrRuO_3-Pb(ZrTi)O_3 and DyBa_2Cu_3O_7-Pb(Zr, Ti)O_3 heterostructures. Structural analysis, by X-ray, AFM, and TEM, showed excellent structural qualities, and a remarkable surface quality for the PZT films with a RMS roughness of 2 A over 1 ~*μm~* 1 ~*m for 0.1 μm thick films. We also present the results of the growth of these oxides on silicon, obtained by the use of an yttrium stabilized zirconium buffer layer. The ferroelectric properties measured by standard techniques revealed a coercive field of 70-100k V/cm and remnant polarization of 10-20 μC/cm~2.%Nous rapportons la croissance de structures épitaxiales composées de perovskites ferroélectriques du type Pb(Zr, Ti)O_3 (PZT) et de différents oxydes supraconducteurs ou apparentés aux supraconducteurs à haute température critique. Des couches épitaxiales de PZT ont été obtenues par pulvérisation cathodique hors-axe sur des substrats de SrTiO_3 de même que des hétéro-structures SrRuO_3-PZT et DyBa_2Cu_3O_7 -PZT. Les analyses des structures, par rayons-x, AFM et TEM, révèlent des qualités structurales excellentes et un état de surface remarquable pour le PZT, avec une rugosité moyenne de 2 A pour des surfaces de 1 μm x 1 μm et pour des films de 0.1 μm d'épaisseur déposés sur SrTiO_3. Nous présentons également les résultats sur la croissance de ces oxydes sur silicium, obtenue grâce à l'utilisation d'une couche tampon de zircone stabilisée à l'yttrium. Les propriétés ferroélectriques mesurées de manière standard donnent un champ coercitif de 70-100 kV/cm et une polarisation rémanente de 10-20 μC/cm~2.
机译:我们报告了由Bb(Zr,Ti)O_3,铁电氧化物和不同的相关导电氧化物组成的外延结构的生长。通过离轴射频溅射在SrTiO_3衬底上生长外延PZT膜,SrRuO_3-Pb(ZrTi)O_3和DyBa_2Cu_3O_7-Pb(Zr,Ti)O_3异质结构也是如此。通过X射线,AFM和TEM进行的结构分析显示,PZT膜具有出色的结构质量,并且在0.1μm厚膜的1〜*μm〜* 1〜* m范围内的RMS粗糙度为2 A时具有出色的表面质量。我们还介绍了通过使用钇稳定的锆缓冲层获得的这些氧化物在硅上生长的结果。通过标准技术测量的铁电性能显示出70-100k V / cm的矫顽场和10-20μC/ cm〜2.%的剩余极化率.Pb(Zr,Ti)型钙钛矿铁电复合材料)O_3(PZT)等高温氧化物的超导体和表面超导体的区别。由SrTiOO_3和Mémeque desHétéro结构的SrRuO_3-PZT和DyBa_2Cu_3O_7 -PZT构成的阴极在PZT上被用作普通阴极。我们对结构进行了分析,用人造丝-x进行了分析,并用原子力显微镜(AFM)和透射电镜(TEM)进行了质量分析和鉴定,然后对可重定形的PZT进行了浇铸,并在2毫米的表面上浇铸了1μmx 1μm的薄膜。 SrTiO_3上的0.1μmdéposisseurdéposés。氧化硅制的新月形面包,氧化锆制得的固溶性葡萄糖利用剂。标准的铁电部门的测量标准是70-100 kV / cm的极化强度和10-20μC/ cm〜2的极化强度。

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