L'ablation laser puisée pour la synthèse de films supraconducteurs à haute température critique

摘要

Despite the fact that the first experiment was carried out nearly thirty years ago, Pulsed Laser Deposition (PLD) remained little known until the late 1980s, but the successful growth of high Tc superconducting films in 1987 lifted it off the ground. PLD is now a powerful tool in the field of material research, not only for HTSC thin films but also for the crystal engineering of oxides. Although most of the published work is dealing with the (123) cuprates, significant results have also been reported on the growth of the other oxide of the cuprate family : infinite layer, LaSrCuO, BiSrCaCuO, TlBaCaCuO and HgBaCaCuO%L'épitaxie en ablation laser puisée s'est imposée comme technique de croissance des films minces au cours des 10 dernières années grâce à ses possibilités de croissance in situ de films minces d'oxydes supraconducteurs à haute température critique. Elle apparaît aujourd'hui comme un outil de recherche des plus performants dans le domaine de la science des matériaux non seulement pour l'élaboration de films minces SCHT mais d'une manière plus générale pour la croissance épitaxiale des oxydes. Bien que le cuprate d'yttrium et de baryum, YBa_2Cu_3O_7, soit le cuprate le plus aisément mis en oeuvre par cette technique, il faut noter que des avancées significatives ont été obtenues pour fabriquer des films minces des autres oxydes SCHT : phase infinie, LaSrCuO, BiSrCaCuO, TlBaCaCuO et HgBaCaCuO.