Synthèse de matériaux en couches minces par ablation laser réactive

摘要

Thin film deposition by the laser ablation of a solid target in reactive ambient is a novel and attractive method to synthesize new and high quality materials. In this study, the possibilities of this technique to prepare oxides, nitrides and hybrides are reviewed.%La technique de dépôt en couches minces par ablation laser réactive consiste à vaporiser une cible d'un matériau donné avec un faisceau laser à impulsion de forte intensité, en présence d'un gaz réactif. Le plasma laser qui se forme au dessus de la cible est susceptible de réagir directement avec le milieu ambiant pour former des molécules et espèces radicalaires que l'on peut collecter sur un substrat adéquat. Le dépôt obtenu aura une composition différente de celle de la cible d'origine, qui dépendra principalement de la nature du gaz réactif susceptible de réagir avec les espèces ablatées. Dans cette étude, nous passerons en revue les possibilités offertes par cette technique pour préparer des oxydes, des nitrures et des hydrures, à partir d'exemples concrets traités au Laboratoire ou extraits de travaux publiés au cours de ces dernières années.