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Reacteurs a plasmas pour le nettoyage des surfaces

机译:用于表面清洁的等离子体反应器

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摘要

Il est decrite differents reacteurs a plasmas qui sont utilises pour le nettoyage et le deca- page (gravure) des surfaces de materiaux metalliques, semi-conducteurs ou isolants (polymeres). Ce sont les reacteurs diodes RF pour la gravure en microelectronique, les reacteurs En flux pour les traitements de metaux, les reacteurs RCE microondes pour le decapage De polymeres et les reacteurs a barriere dielectrique, fonctionnant a la pression Atmospherique, pour les traitements de films de polymeres.
机译:描述了各种等离子体反应器,其用于清洁和冲刷(蚀刻)金属,半导体或绝缘(聚合物)材料的表面。这些是用于微电子学蚀刻的RF二极管反应器,用于金属处理的流动反应器,用于剥离聚合物的微波RCE反应器以及在大气压下运行以处理薄膜的介电势垒反应器。聚合物。

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