High density plasmas for micro- and optoelectronics processing

摘要

Cet arcticle est une introduction aux differents types de plasma utilises en microelec- tronique et en optoelectronique pour la preparation de surface, la gravure ou encore le depot de films minces. Les principes de chaque type de plasma, et en particulier les plas- mas de haute densite, sont decrits et les performances de ces divers plasmas sont com- parees en terme de qualite du materiau produit.