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机译:用RHEED和LEED在GaN(0001)上观察(√3x√3)-R30°重建
Department of Physics and HKU-CAS Joint Lab on New Materials, The University of Hong Kong, Hong Kong, China;
surface reconstructions; low-energy electron diffraction;
机译:ln / GaN(0001)-(v3×v3)R30°吸附物结构作为嵌入(In,Ga)N / GaN单层和短周期超晶格的模板
机译:3C-SiC(111)和6H-SiC(0001)表面的(2根3 x 2根3)R30度重构的结构模型
机译:用RHEED研究SiC(0001)上的3×3和√3×√3重构
机译:AES和RHEED研究6H-SiC(0001)(3〜(1/2)x 3〜(1/2))-R30°和3 x 3表面的初始氧化
机译:锆(0001)表面吸附氧的LEED晶体学研究
机译:在原始GaN(0001)衬底上生长的GaN / AlN超晶格中应变弛豫的特殊性:XRD和AFM的比较研究
机译:在/氮化镓(0001) - $ \ {boldsymbol!{\ mathsf {\左(!\ \开方{3} \次\ \开方{3} \右)\ R30 ^ {\保监会}}}} $ 吸附质结构作为嵌入(In,Ga)N / GaN单层膜的模板 短周期超晶格