БЛЕСК МНОГОСЛОЙНЫХ ДИФРАКЦИОННЫХ РЕШЕТОК В MP-ДИАПАЗОНЕ - ДИЗАЙН РОСТА С УЧЕТОМ ДЕФОРМАЦИИ ПРОФИЛЯ ШТРИХОВ

摘要

Показано, что изменение угла осаждения покрытия на нано-структурированную подложку с несимметричным профилем (высокочастотную решетку с блеском) влияет как на сглаживание профиля штриха многослойной решетки (его симметризацию и/или уменьшение глубины), так и на значительное смещение максимума профиля влево или вправо относительно профиля подложки. Установлено, что смещение межслойных границ есть линейная функция угла осаждения материала, а изменение их глубины — нелинейная. В нелинейном континуальном уравнении роста можно получать контролируемую деформацию профиля, управляя ориентацией источника осаждения относительно рабочей грани штриха. При определенной ориентации источника и с учетом реалистических профилей границ максимальная дифракционная эффективность решетки в заданном порядке спектра будет выше аналогичной эффективности решетки с идеальными треугольными границами, расположенными строго вертикально друг над другом. Оптимальные значения смещения границ, найденные из моделирования роста W/B_4C 2500/мм-решетки с углом блеска 1.76° и углом анти-блеска 20°, позволяют получить дифракционную эффективность, составляющую ~0.82—0.9 отражения многослойного зеркала, оптимизированного на длину волны 1.3 нм. Максимально достижимая эффективность немного выше для более крутых углов нерабочей грани.