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摘要

The Tachyon 2.5 computational lithography platform and the Tachyon DPT, an advanced double patterning technology (DPT) solution, have been introduced. The DPT allows chipmakers to meet the low k_1 requirements for memory and logic devices at 32nm and below using advanced lithography systems. Tachyon 2.5's combination of enhanced system and firmware advancements, together with faster processors, continues to meet the industry's need for greater computational power, supporting the rapid adoption of DPT and other low k_1 resolution enhancement technologies. Tachyon 2.5 reportedly provides up to 150% (2.5 × faster) greater performance than previous Tachyon systems with minimal increase in IT infrastructure costs. Tachyon DPT uses Brion's latest DPT to allow advanced chipmakers to develop devices down to the 22nm technology node.
机译:推出了Tachyon 2.5计算光刻平台和Tachyon DPT(一种先进的双图案技术(DPT)解决方案)。 DPT使芯片制造商可以使用先进的光刻系统满足32nm及以下的存储器和逻辑器件的低k_1要求。 Tachyon 2.5结合了增强的系统和固件改进以及更快的处理器,继续满足了业界对更大计算能力的需求,从而支持DPT和其他低k_1分辨率增强技术的快速采用。据报道,Tachyon 2.5在不增加IT基础架构成本的情况下,提供了比以前的Tachyon系统高150%(2.5倍)的性能。 Tachyon DPT使用Brion最新的DPT来允许高级芯片制造商开发低至22nm技术节点的设备。

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  • 来源
    《Solid state technology》 |2008年第4期|p.49-50|共2页
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  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 一般性问题;
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