机译:具有埋入氧化铝和地平面的先进SOI MOSFET:自热和短沟道效应
IMEP (UMR CNRS-INPG-UJF), ENSERG, BP257, 23 rue des Martyrs, F38016 Grenoble Cedex 1, France;
机译:埋入氧化物的地平面,用于控制纳米级SOI MOSFET中的短沟道效应
机译:高估了FD-SOI MOSFET中因门极耦合而产生的短沟道效应
机译:双步埋入氧化物(DSBO)SOI-MOSFET:拟议的可改善自热效应的结构
机译:超薄车身和掩埋氧化物(UTBB)SOI MOSFET抑制短信效应(SCES):综述
机译:具有新型掩埋体接触的SOI-MOSFET的制造和表征。
机译:跨越土壤边界的疾病生态学:地下真菌对地上宿主与寄生虫相互作用的影响
机译:具有电致源/漏极延伸的纳米级sOI-mOsFET: 抑制短信道的新属性和设计考虑因素 效果
机译:全耗尽sOI(绝缘体上硅)mOsFET的短沟道效应