机译:根据表面复合速度对4H-SiC双极晶体管的DC增益进行建模
Department of Electrical Engineering, University of Colorado at Denver and Health and Sciences Center, Campus Box 110, P.O. Box 173364, Denver, 80217-3364, USA;
silicon carbide; bipolar junction transistor; surface recombination velocity; DC current gain; device modeling; PISCES-IIB;
机译:表面钝化氧化物对4H-SiC双极结型晶体管电流增益的影响
机译:具有超高电流增益的4H-SiC功函数相关双极晶体管
机译:辐射双极结型晶体管中增加表面复合电流的改进模型
机译:新型具有抑制表面复合结构的高电流增益4H-SiC双极结晶体管:SSR-BJT
机译:超高压4H-SiC双向绝缘栅双极晶体管。
机译:低关断损耗的4H-SiC沟槽绝缘栅双极晶体管的仿真研究
机译:500V,非常高的电流增益(β= 1517)4H-SiC Bipolar Darlington晶体管