机译:沟道载流子位移和势垒高度降低对表面沟道n-MOSFET的低频噪声特性的影响
Solid-State Device, INTEL Corporation, 20459 NW, Anzalone Dr, APT253, Aloha, OR 97006, United States;
low-frequency noise; oxide trap density; scattering parameter; barrier height lowering; quantum effects; correlated noise model; silicon; MOSFET;
机译:砷化镓表面沟道n-MOSFET的硅烷-氨表面钝化
机译:前氧化物质量对部分耗尽和完全耗尽的SOI N-MOSFET的瞬态效应和低频噪声的影响
机译:热载流量降解对具有自加热的多因子N沟道鳍状鳍片漏极引起的屏障下降的影响
机译:表面沟道应变Si_(1-y)C_y n-MOSFET的特性
机译:异质材料启发的振动冲击结构的低频声衰减特性
机译:明渠噪音。 V.波动的壁垒以防止短杆菌肽A通道中的离子进入。
机译:降低几何表面沟道电荷耦合器件的热载体
机译:少数载流子注入对接近半导体带隙的肖特基势垒高度的影响。