机译:使用等离子体预处理与n型GaN的非合金化Ti /铟锡氧化物和Ti欧姆接触
Department of Electrical Engineering, Da-Yeh University, 112 Shan-Jiau Rd. Da-Tsuen, Changhua, Taiwan, ROC;
indium tin oxide; GaN; specific contact resistance; AES;
机译:通过$ hbox {O} _ {2} $等离子处理在N面n型GaN上的低电阻非合金Ti / Al欧姆接触
机译:等离子体辅助分子束外延生长的n〜+ -GaN用于Al_(0.15)Ga_(0.85)N / GaN高电子迁移率晶体管的Ti基非合金欧姆接触
机译:在Ti / Al接触中形成n型AlGaN的非合金欧姆接触
机译:各种预处理对AlGaN / GaN HFET器件的Ti / Al / Ti / Au欧姆接触的影响
机译:铟过渡金属与n型砷化镓的欧姆接触的热力学研究,以及季镓-铟-(过渡或贵金属)-砷体系的热化学行为概述。
机译:等离子体电子通量对InGaN / GaN发光二极管p-GaN上超薄锡掺杂氧化铟接触层的无损溅射溅射的影响
机译:错误至:用于垂直结构发光二极管的分子束外延生长N型GaN的Ti / Al欧姆触点的电特性