机译:毫秒级快速热退火通过热等离子体射流引起的SiO_x膜中Si晶体的生长
Department of Semiconductor Electronics and Integration Science, Graduate School of Advanced Sciences of Matter, Hiroshima University, 1-3-1 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739-8530, Japan;
rapid thermal annealing; thermal plasma jet; SiO_x; si crystalline growth;
机译:毫秒级快速热退火使用热等离子射流在浮栅存储器上诱导在SiO_2上形成高密度Pt纳米点
机译:高功率密度热等离子体射流诱导的硅晶圆毫秒快速热退火及其在超浅结形成中的应用
机译:热等离子体射流辐射引起的毫秒快速热退火过程中硅晶片温度变化的原位测量
机译:热等离子体射流退火在SiO_x薄膜中形成Si纳米晶及其在浮栅存储中的应用
机译:通过光热加热退火聚合物纳米复合纤维和薄膜:对整体结晶度和形态的影响
机译:通过硅衬底上溅射的Ge / Sn / Ge层的快速热退火合成Ge1-xSnx合金薄膜
机译:快速热退火等离子体沉积的SiNx:H薄膜:应用于具有Si,In0.53Ga0.47As和InP的金属绝缘体半导体结构