机译:详细研究GeOI和Ge pMOSFET中的有效场,空穴迁移率和散射机制
IMEP-LAHC Crenoble-INP Minatec, BP257, 38016 Grenoble cedex I, France,CEA-Leti, Minatec, F38054, Grenoble cedex 9. France;
IMEP-LAHC Crenoble-INP Minatec, BP257, 38016 Grenoble cedex I, France;
IMEP-LAHC Crenoble-INP Minatec, BP257, 38016 Grenoble cedex I, France;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
IMEP-LAHC Crenoble-INP Minatec, BP257, 38016 Grenoble cedex I, France;
IMEP-LAHC Crenoble-INP Minatec, BP257, 38016 Grenoble cedex I, France;
Germanium; Germanium-on-Insulator; GeOI; SOI; pMOSFET; Low temperature measurements; Effective electric field; Scattering mechanisms; High-k metal gate; Surface roughness mobility; Coulomb mobility;
机译:异质层提升技术制造的超薄体GeOI pMOSFET迁移率增强的物理机制
机译:高级GeOI pMOSFET的低温表征和建模:迁移机理和寄生传导的起源
机译:应变pMOSFET中空穴传输的实验研究-第一部分:长沟道器件中的散射机制
机译:Ge凝结晶片上具有高k /金属栅极的高空穴迁移率GeOI pMOSFET
机译:应变对硅和锗p型金属氧化物半导体场效应晶体管的空穴迁移率的影响
机译:具有非晶硅钝化的高迁移率Ge pMOSFET:表面取向的影响
机译:具有有效空穴迁移率的应变锗锡(GeSn)P沟道金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:生产油藏定义,海军石油储备2号,布埃纳维斯塔山油气田:记录和研究的调查和汇编:第2部分,详细摘要,自1986年10月1日起生效