机译:围绕存储器的电荷陷阱门的编程,擦除和保留特性建模
CEA-LETI Minatec, 38054 Grenoble. France;
CEA-LETI Minatec, 38054 Grenoble. France;
IMEP-LAHC. Grenoble INP - Minatec F38016, France;
CEA-LETI Minatec, 38054 Grenoble. France;
CEA-LETI Minatec, 38054 Grenoble. France;
CEA-LETI Minatec, 38054 Grenoble. France;
CEA-LETI Minatec, 38054 Grenoble. France;
Non-volatile memory; Gate-Ail-Around; Geometrical effect; Cylinder; Nanocrystals; SONOS;
机译:3-D SONOS闪存单元阵列晶体管的编程/擦除效率和保留特性的比较研究:从双栅极FET和FinFET到全栅FET的结构方法
机译:通过切换部分氧化的基于非晶硅的电荷陷阱存储器的编程/擦除偏压的极性的新操作方案
机译:TaN和$ hbox {Al} _ {2} hbox {O} _ {3} $侧壁栅刻蚀损坏对50nm以下TANOS nand闪存单元的编程,擦除和保留的影响
机译:浮栅非易失性存储器中低温数据保留的程序/擦除循环加速的统计模型
机译:闪存可擦可编程只读存储设备中的热载流子效应。
机译:用于神经形状应用的突触操作的核心壳双栅纳米线纳米线陷阱记忆
机译:轨道全面电荷陷阱记忆瞬态操作的半分析模型
机译:电子束可编程128K位晶圆级EpROm(可擦除可编程只读存储器)。