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机译:氟基等离子体表面改性工艺为改善Sb_2Se_3宽带光电探测器的薄膜电导率和光电性能开辟了新途径
Univ Elect Sci & Technol China State Key Lab Elect Thin Films & Integrated Devic Chengdu 610054 Peoples R China|Univ Elect Sci & Technol China Sch Elect Sci & Engn Chengdu 610054 Peoples R China;
Sb2Se3; F plasma; Surface modification; Photodetector;
机译:使用各种表面处理工艺(氟化和等离子体)增强商业聚合物包装薄膜的表面性能
机译:r.f.中通过RIE进行的硅表面区域氟化的特定特征CF_4等离子-一种改善PECVD氧化硅薄膜电性能的新颖方法
机译:在RF CF_(4)等离子体中通过RIE氟化硅表面区域来改善PECVD氧化物薄膜的电性能的新方法
机译:射频在RIE中对硅表面区域进行氟化的具体特征CF
机译:电离辐射介导的含氟有机薄膜和有机卤化物的降解:聚合物的氮基表面改性和含氮聚合物的金属化。
机译:用氟化学等离子处理改性表面的可湿性
机译:氟化学等离子体处理改善表面润湿性