机译:原位表征低k和铜膜
机译:原位吸收光谱法表征溅射铜膜的低温氧化动力学
机译:用于Cu / low-k互连的低k有机膜原位表面改性蚀刻技术
机译:用于Cu / Low-K互连的低k有机膜原位表面改性蚀刻技术
机译:铜铟和铜硼薄膜的异位和原位硒化
机译:铝(铜)/低k和铜/低k亚微米互连结构的热应力行为。
机译:用于进一步缩小超大型集成器件-Cu互连的等离子增强化学气相沉积SiCH膜的低k覆盖层的材料设计
机译:使用无氧碳氟化合物等离子体将等离子体损伤和超低k介电薄膜的原位密封降至最低