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Making Low-k Dielectrics Work

机译:使低介电常数工作

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摘要

Engineers have brought low-k dielectrics into manufacturing for 90 nm production. Now the challenge is integrating the next-generation solutions for 45 nm. Will this be pushed to 32? Everything hinges on the reliable integration and packaging of these advanced materials.
机译:工程师已将低k电介质投入生产,以实现90 nm的生产。现在的挑战是集成适用于45 nm的下一代解决方案。会推到32位吗?一切都取决于这些先进材料的可靠集成和包装。

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