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【24h】

半導体は水質、FPDは大流量に要求: 事業のアジアシフト加速

机译:半导体所需的水质,FPD所需的大流量:加速业务向亚洲转移

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摘要

超純水は、微粒子、微生物、TOC (全有機体炭素)、イオンなどを除去し、純度100%に限りなく近い水。半導体•FPDでは製造工程における洗淨やエツチング液の希釈水などで使われる。超純水製造システムは、前処理システム、1次純水システム、2次純水システムおよび排水回収システムで構成される。具体的には、前処理システム〜2次純水システムで超純水化し、排水回収システムで洗浄工程から回収されてきた排水を1次純水システムの手前まで戻す。なお、超純水製造装置システム需要の9割が半導体•FPD向けだ。これ以外では製薬、バイオ、臨床検査、発電所などで使われている。
机译:超纯水是去除微粒,微生物,TOC(总有机碳),离子等的水,其纯度尽可能接近100%。半导体•在FPD中,它在制造过程中用于洗涤,并用作蚀刻液的稀释水。超纯水生产系统由预处理系统,一级纯水系统,二级纯水系统和废水回收系统组成。具体来说,预处理系统到次级去离子水系统会将其转换为超纯水,废水收集系统将从清洗过程中收集的废水返回到初级去离子水系统的前端。注意,超纯水生产系统的需求的90%是用于半导体/ FPD的。除此之外,它还用于制药,生物技术,临床测试,发电厂等。

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  • 来源
    《半導体産業新聞》 |2013年第13期|11-11|共1页
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