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CROSS-TALK COMPENSATION IN EUV BASED METROLOGY WITH FINITE-SIZED TARGETS

机译:具有有限目标的基于EUV的计量学中的交叉补偿

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摘要

A spectroscopic scatteromctry in the wavelength range of 10 nut - 20 nm (or wider wavelength range in the EUV or soft-x-ray spectral range) may be used primarily for overlay (OVL). as well as. critical dimension (CD) metrology. Bolh. the 0* order specular reflection, as well as. any higher-orders of diffraclion can be detected. In metrology, it would be desirable, to measure target-sizes of 4.5 μm~2. However, illumination spot-sizes, as produced with currently devised illumination optics, are usually larger than the target-size leading to crosstalk issues caused by product structures in the immediate neighbourhood of the metrology target.
机译:在10螺母-20 nm的波长范围内(或在EUV或软X射线光谱范围内的较宽波长范围)的光谱散射仪可主要用于叠加(OVL)。以及。临界尺寸(CD)度量衡。 ol以及0 *级镜面反射。可以检测到任何更高阶的衍射。在计量学中,期望测量目标尺寸为4.5μm〜2。然而,由当前设计的照明光学器件产生的照明光斑尺寸通常大于目标尺寸,从而导致由在计量目标的紧邻范围内的产品结构引起的串扰问题。

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    《Research Disclosure》 |2018年第645期|35-36|共2页
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