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机译:硅中单,双和六空位氦原子团簇的密度泛函理论计算
Institut Pprime, UPR3346 CNRS-Universite de Poitiers, 86962 Futuroscope-Chasseneuil, France;
Institut Pprime, UPR3346 CNRS-Universite de Poitiers, 86962 Futuroscope-Chasseneuil, France;
Institut Pprime, UPR3346 CNRS-Universite de Poitiers, 86962 Futuroscope-Chasseneuil, France;
DFT; Helium; silicon; vacancies;
机译:密度泛函理论研究所有单氟,二氟,三氟,四氟和五氟呋喃作为导电聚合物的单体的结构,反应性和电子性质
机译:中性和带电氧化硅簇几何和电子性能的密度函数理论计算
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机译:酚改性单层硅纳米片的密度泛函理论计算
机译:从硅(100)-2x1表面使用低能电子衍射的密度泛函理论计算中比较簇和平板模型的几何形状。
机译:锌配合物的形成热的计算:密度泛函理论二阶微扰理论耦合簇和完全有源空间方法的比较
机译:来自密度泛函理论计算的所选氢化硅簇(sixHy,x = 1 -7,y = 0-15)的电子亲和力
机译:基于时间密度泛函理论的碳化硅团簇激发态